中文練字格的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種中文練字格，包括外框，所述外框內設有兩條外框對角線、外框橫中線、外框豎中線，所述外框內還設有內框，所述內框的四個頂點分別位于兩條外框對角線上并與外框組成一個“回”字形。采用這種結構的練字格能幫助練字者快速確定漢字的起始筆畫要寫在練字格的那個位置，提高練字者的效率，同時采用這種練字格寫出來的字不會被框架線框死。
【專利說明】中文練字格
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種教育用具，特別設計一種中文練字格。
【背景技術】
[0002]漢字是一種表意方塊文字，具有鮮明的構造特點，目前有多種練字格作為練字的輔助手段，廣泛使用的有方格、田字格、米字格等形式。這些練字格的應用在一定程度上提高了練字的效率，使寫的漢字更加規范工整。現有的田字格、米字格框架大小為1.2-1.5厘米見方，學生在這么大的格子內尋找筆畫的起止點確實很難，即使有“十”字或者“米”字線作參照，但對一個形象思維還比較簡單的學生來說，尋找起來不免難上加難，他們對距離的比較往往是差之毫厘，謬以千里也。米字線、井字線等雖然在參照時較十字心更明確，但由于對照起來復雜繁瑣，寫起字來速度非常慢，而且很難準確對照，所以，寫字效果反而不好。另外，現有的練字格，為了使字寫的規范工整，大小合適，往往以外框架線為參照，即滿格寫，寫出來的漢字被框架框死，顯得呆板。
【發明內容】
[0003]本發明提供一種中文練字格，解決在練字時尋找漢字起止點困難，書寫速度慢及練字時以格子外框為參照使得漢字過于死板的問題，為解決上述技術問題，本發明通過以下技術方案實現:
[0004]中文練字格，包括外框，所述外框內設有兩條外框對角線、外框橫中線、外框豎中線，所述外框內還設有內框，所述內框的四個頂點分別位于兩條外框對角線上并與外框組成一個“回”字形。
[0005]優選的，所述外框為邊長1.4厘米的正方形，所述內框為邊長0.7厘米的正方形。
[0006]所述外框的框架線和所述內框的框架線設置為實線，所述兩條外框對角線、外框橫中線、外框豎中線設置為細的虛線。
[0007]有益效果:本發明在現有的外框內設內框，練字時確定字的起點主要以內框為參照，參照清楚簡單，這樣確定字的起點快而且準確，提高了練字速度，外框對角線和橫豎中線作為輔助參照，幫助規范漢字；寫字的時候，漢字主題結構落在內框內，某些豎畫、撇畫、捺畫等筆畫可以向格外伸展，內框四周的框架線都能成為寫字筆畫的直接參照，不用把外框當做直接參照，這樣寫出來的字不會被框死。漢字主體結構在內框內，這樣不會出現漢字過大或過小的問題。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1為本發明的結構示意圖。
[0009]圖2為左右結構字形示范圖。
[0010]圖3為上下結構字形示范圖。
[0011]圖4為半包圍結構字形示范圖。【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖和具體實施例詳細說明本發明
[0013]如圖1所示，中文練字格，包括外框1，外框I內設有外框對角線51，外框對角線52和外框橫中線61和外框豎中線62，外框I內還設有內框2，所述內框2的四個頂點分別位于外框對角線51和對角線52上并與外框I組成一個“回”字形。外框I和內框2都為正方形，方形符合中國人尤其是中小學生思維習慣，容易寫好漢字，通常內框邊長為0.7厘米，外框邊長為1.4厘米。內框2的框架線3和外框I的框架線4設置為實線，外框對角線51和對角線52設置為較細的虛線，外框橫中線61和外框豎中線62也設置為較細的虛線，在輔助規范字的大小的時候，寫的字也能鮮明的突顯出來。
[0014]圖2為左右結構字形的示范圖，從圖中可以看出，這一類結構的字在寫的時候首先以內框2為直接參照，確定字起始筆畫的位置，如圖1中的“煩”字，字的起始筆畫“、”寫在內框2外，筆畫“ j ”寫在內框2左邊部分的框架線上。以外框豎中線62為界，平分漢字左右，如圖1中的“腰”字，對左窄右寬、左寬右窄結構的漢字，較寬大部分則可以超出外框豎中線62，如圖1中的“慨”字；這樣整個漢字的主題結構位于內框2內，漢字外部的筆畫如橫、豎、豎撇、平捺等可以超出內框2的框架線3，超出的這些筆畫以內框2外部的外框對角線51或對角線52或外框橫中線61或外框豎中線62為參照，一般平行或重合于外框對角線51或對角線52或外框橫豎中線。在字不超出外框I的框架線4的條件下，外框I不作為漢字起止點和大小的直接參照，寫的字也就不會被框死。
[0015]圖3為上下結構類漢字的示范圖，這類結構的字同樣以內框2為直接參照，確定起始筆畫的位置，一般以外框橫中線61為界平分上下部分，如圖3中的“掌”和“譬”，較大部分可以超出外框橫中線61，如圖3中的“巔”和“愆”。同樣的漢字的主題結構落在內框2內，漢字外部的筆畫如橫、豎、豎撇、平捺等可以超出內框2的框架線3，超出的這些筆畫以內框2外部的外框對角線51或對角線52或外框橫中線61或外框豎中線62為參照，一般平行或重合于外框對角線51或對角線52或外框橫豎中線。
[0016]圖4為半包圍結構類漢字的示范圖，以內框2為參照，確定起始筆畫的位置，如圖4中的“趣”字，起始筆畫“走”字的起始筆畫“一”落在內框2的框架線3上，主題結構“取”部分落在內框2內。漢字外部的筆畫如橫、豎、豎撇、平捺等可以超出內框2的框架線3，超出的這些筆畫以內框2外的外框對角線51或對角線52或外框橫中線61或外框豎中線62為參照，一般平行或重合于外框對角線51或對角線52或外框橫豎中線。
【權利要求】
1.中文練字格，包括外框(I)，外框(I)內設有外框對角線(51 )、外框對角線(52)、外框橫中線(61)、外框豎中線(62)，其特征在于:所述外框(I)內還設有內框(2)，所述內框(2)的四個頂點分別位于外框對角線(51)和外框對角線(52)上并與外框I組成一個“回”字形。
2.如權利要求1所述的中文練字格，其特征在于:所述外框(I)為邊長1.4厘米的正方形，所述內框(2)為邊長0.7厘米的正方形。
3.如權利要求2所述的中文練字格，其特征在于:所述外框(I)的框架線(4)和所述內框(2)的框架線(3)設置為實線，所述外框對角線(51)、外框對角線(52)、外框橫中線(61)、外框豎中線(62)設置為細的虛線。
【文檔編號】G09B11/00GK103632584SQ201310664336
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年12月10日 優先權日:2013年12月10日
【發明者】黃首銘 申請人:黃首銘