專利名稱：一種書寫模板的制作方法
技術領域：
本實用新型具體涉及一種書寫模板，尤其涉及一種帶筆畫槽的書寫模板，屬于文
化用品制作的技術領域，特別適應少兒幼兒練習書寫應用。
技術背景 就發明人所知，目前，現有少兒幼兒使用的書寫模仿，大都是采用平面仿引方框約束筆畫的方式練習，采用這種方式雖然能使書寫達到規范字體規格，提高寫字水平的目的，但是也存在仿引工序復雜，少兒幼兒掌控困難，筆畫印記清晰度不足，筆畫輕重難以掌控的缺陷。
發明內容； 本實用新型的目的就是為彌補以上不足，提供的一種工序簡單靈活，筆畫印記直觀，字體、筆畫規格標準規范，不易損壞的一種書寫模板。 本實用新型是這樣實現的，所述的一種書寫模板，其特征在于設置一塊平面(200X270)mm的長方型模板(l)，在長方型模板(1)的面上以橫8mm，豎10mm等份成長方形塊(2)，并在長方型模板(1)上留天，下留地，在長方形塊(2)內刻制有標準的文字或筆畫槽(3)。少兒幼兒在練習寫字時，無需任何程序，只要手握筆桿(什么筆均可)，順槽練習即可完成。 本實用新型的一種書寫模板，具有結構合理簡單，面潔大方，觸覺明顯，工序簡單靈活，筆畫印記直觀，字體、筆畫規格標準規范，不易損壞，投資少，費用低、美觀大方，易操
作、效果明顯的優點。
附圖為一種書寫模板 圖中1.長方型模板，2.長方形塊，3.筆畫槽，具體實施方式
以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，如附圖所示一種書寫模板，是設置一塊平面(200X270)mm的長方型模板(l)，在長方型模板(1)的面上以橫8mm，豎10mm等份成長方形塊(2)，在長方形塊(2)內刻制有標準的文字或筆畫槽(3)，并在長方型模板(1)上留天，下留地。特別適應于相關制造企業制造生產。
權利要求一種書寫模板，其特征在于設置一塊平面(200×270)mm的長方型模板(1)，在長方型模板(1)的面上以橫8mm，豎10mm等份成長方形塊(2)，在長方形塊(2)內刻制有標準的文字或筆畫槽(3)，并在長方型模板(1)上留天，下留地。
專利摘要一種書寫模板，解決了現有書寫模仿，印記清晰度不足，筆畫輕重難以掌控，工序復雜的問題，特點是設置一塊(200×270)mm的長方型模板(1)，在長方型模板(1)的面上以橫8mm，豎10mm等份成長方形塊(2)，在長方形塊(2)內刻制有標準的文字或筆畫槽(3)，并在長方型模板(1)上留天，下留地，本實用新型具有結構合理簡單，工序簡單靈活，筆畫印記直觀，字體、筆畫規格標準規范，不易損壞，美觀大方，易操作、效果明顯的優點，特別適應于少兒幼兒練習書寫應用。
文檔編號G09B11/00GK201477761SQ20092016208
公開日2010年5月19日 申請日期2009年7月7日 優先權日2009年7月7日
發明者張澎珍 申請人:張澎珍