專利名稱：用于制造個性化光學可變元件的方法及薄膜系統的制作方法
技術領域：
本發明涉及用于制造具有偏振特性的個性化光學可變元件的方法，以及用于提供具有偏振特性的個性化光學可變元件的薄膜系統，該系統包括襯底體和薄膜體。
EP 1227347A1描述了一種制造具有偏振特性的個性化光學可變元件的方法。
該方法通過使用噴墨式打印機將第一定位層(orientation layer)印制到襯底上，通過偏振光的照射將所述第一定位層排列成一給定的方向。隨后，使用噴墨式打印機將含有液晶材料的層敷設到所述定位層之上，并提供對液晶材料進行排列的條件。然后，使用紫外線對所述液晶層進行固化(harden)。
為了制造具有不同偏振特性的個性化區域，在電腦的控制下，僅通過區域方式，在各個單獨的區域內，通過噴墨式打印機將含有感光聚合物的定向層及含有液晶材料的層敷設到所述襯底之上。另外，為實現上述目標，建議執行以下過程通過噴墨式打印機，以圖案的形式將第一定位層印制到襯底上。然后用線性偏振光照射所述的襯底，由此獲得圖案形式的感光聚合物層適合并且一致的方向。然后，使用所述噴墨式打印機，敷設與第二圖案一致的第二感光聚合物層，并使用線性偏振光進行照射。所述第一次的照射和第二次的照射使用的偏振方向是不同的，由此所得到的結果是兩個定位層具有不同的方向，并具有相互重疊的關系。上述與具有適合圖案形狀且具有各個聚合物層結構結合的多重涂層過程使制造具有不同方向的區域成為可能，其中所述聚合物層按照相互重疊的關系排列。
本發明的目的是改進具有偏振特性的個性化光學可變元件的制造方法。
通過一種具有偏振特性的個性化光學可變元件的制造方法實現上述目的，其中，為了制造所述光學可變元件，首先將包括兩個或兩個以上層的、并具有包含液晶材料的LCP層的薄膜體敷設到包括用于對液晶進行定向的定向層的襯底體上，其中，在將所述薄膜體敷設到所述襯底體上之前對所述襯底體的定向層進行個性化，并且采用下述方式將所述薄膜體敷設到所述襯底體個性化后的定向層上將所述薄膜體的LCP層放置在所述襯底體個性化后的定向層上，用于對所述薄膜體的LCP層的液晶進行定向。此外，本發明的目的還可以通過包括襯底體和薄膜體的薄膜系統實現，其中所述薄膜系統的薄膜體包含兩個或兩個以上的層，并包含一個含液晶材料的LCP層，其中，薄膜系統的襯底體包括用于對液晶進行定向的定向層，并且其中在襯底體的定向層被個性化之后，通過下述方式將所述薄膜體敷設到個性化后的定向層上將所述薄膜體的LCP層放置在所述個性化后的定向層上，用于對所述薄膜體的LCP層中的液晶進行定向。
本發明所獲得的優點在于使廉價、非集中的個性化LC安全元件(LC＝液晶)成為可能。在設備復雜度和開銷處于低級別的情況下，通過非集中模式對光學安全元件進行個性化是可能的，同時，在這種情況下，可以制造個性化的光學可變安全元件，并且在其復制安全措施、抗磨損性及易操作性方面完全等同于大規模制造的光學可變安全元件。基于以下事實，本發明還可以獲得另外的優點通過較低級別復雜度及低級別開銷改裝的現有設備可以用作對安全元件進行非集中個性化的設備，以實現本發明所述的方法，從而獲得進一步的成本優勢。
在從屬權利要求中對本發明的有利的構造進行了闡述。
所述薄膜體最好具有承載層以及經過物理干燥但尚未交聯的LCP層。它確保依照本發明的處理方法可以快速且順利地執行。在將所述薄膜體敷設到所述襯底體上之后，可以立即排列所述薄膜體內LCP層的液晶材料，使其對準所述襯底體中個性化后的定向層。為了實現上述目的，最好在放置所述薄膜體之后，通過加熱使所述薄膜體的LCP層液化，以實現對所述薄膜體LCP層的液晶材料的排列，使其對準所述襯底體的個性化定向層。由于所述非交聯且經過物理干燥的LCP層是有粘性的，因此通過附著力可以實現所述薄膜體和襯底體之間的粘合。
在對LCP層液晶分子進行對準排列之后，所述LCP層將被固化，例如通過紫外固化的方法。使用加熱可交聯的系統或在溫度的作用下可以液化的系統也是可以的。
在這一方面，若襯底體的定向層具有紫外功能團(UV-functionalgroups)，則可以獲得更多的優點。在LCP層通過紫外固化的方法固化后，這些功能團可以通過例如化學鍵接的方式在薄膜體和襯底體之間提供更為牢固的粘合。
依照本發明的一個優選實施例，所述襯底體內包含一個或多個生成光學安全特性的層。這種類型的層可以具有諸如衍射結構，這種衍射結構可以提供諸如全息圖的光學衍射安全特性。另外，這些層還可以是薄的薄膜層，并能通過干涉現象，提供依賴于觀察角度的顏色變化。在這種情況下，除所述襯底體之外，所述薄膜體或者所述襯底體及薄膜體也可以具有這樣的層。
通過上述這些附加層，可以極大地改善防止光學可變安全元件被偽造的安全措施，所述這些附加層最好被置于LCP層之上，即觀察者和LCP層之間。所述安全元件不能再通過諸如噴墨式打印機及帶有偏振器的紫外光源的簡單裝置被復制或仿制。如果所述襯底體和薄膜體均包含具有上述特性的層，從這方面來講，安全標準是非常高的。因此，所述個性化安全特性在兩側均得到了保護，并且非常明顯的，操縱所述安全元件的任何嘗試都將影響另外一個安全元件。
在所述襯底體和薄膜體均具有一個或更多能產生相互補充的光學安全特性的層的情況下，將獲得非常高的安全級別。
可以通過多種方法實現所述襯底體中定向層的個性化。
已經證明，通過在所述定向層上進行局部印刷的方式將所述襯底體的定向層個性化是非常有利的。上述印制操作使得所述定向層上的凹槽被局部地填充，因此，在所述印刷區域內將不會發生LCP層的定向。上述過程將受益于用于個性化所述定向層的設備的復雜度及開銷均非常低的優點。另外，在這種情況下，通過較低級別的改進開銷，就可以簡單地再次使用多種現有設備以生成個人資料(如數據卡)。
所述個性化另一種有利的可能選項涉及通過將具有不同朝向的定向層局部轉移到所述襯底體的定向層之上的方式對所述襯底體的定向層進行個性化。這樣，使得所述定向層包含具有不同方向的區域，由此，可以生成相當復雜的個性化安全特性。
個性化所述定向層采用的其他可能方法包括通過局部機械去除定向層的方法，通過激光燒蝕的方法，通過定向層局部熱變形的方法，通過在定向層中對起伏結構(relief structure)進行局部復制的方法，或通過對定向層局部曝光的方法，實現所述定向層的個性化。
使用沖壓薄膜、層壓薄膜或粘合薄膜作為所述薄膜體是尤其有利的。這類薄膜可通過諸如常規的熱沖壓或層壓的方法敷設到所述襯底上。使用上述類型的薄膜作為所述薄膜體可以確保上述處理過程能被快速并且可靠地實施。另外，諸如層壓設備等現有設備也可被再次利用。
使用沖壓、層壓或粘合薄膜作為所述襯底體也是可以的，這樣也可獲得以上述的優點。關于這一方面，已經證明，在將所述薄膜體敷設到所述襯底體、安全元件上之前，應用沖壓、層壓或粘合薄膜形成所述襯底體是非常有利的，所述安全元件可以是例如護照、鈔票、充值卡或票據。
然而，在最簡單的情況下，所述襯底體也可以包括例如構成保密文件的承載層，以及敷設到(局部敷設到)其上的定向層。
下面將結合附圖通過多個實施例舉例說明本發明，其中
圖1為顯示了個性化光學可變元件制造方法的流程圖，圖2a為薄膜體的示圖，圖2b為襯底體的示圖，
圖3a為具有個性化定向層的襯底體的示圖，圖3b為用于襯底體定向層個性化的轉印薄膜的截面圖，圖3c為個性化后定向層的示圖，圖4為顯示了在襯底體上敷設薄膜體的示圖，圖5為顯示了光學可變元件的示圖，圖6a為顯示了本發明另一個實施例的薄膜體的示圖，圖6b為顯示了本發明另一個實施例的具有襯底體的保密文件的示圖，圖7a為顯示了本發明另一個實施例的薄膜體的示圖，以及圖7b為顯示了本發明另一個實施例的襯底體的示圖。
圖1顯示了用于制造個性化光學可變元件的方法流程圖，包括方法步驟11至18的多個步驟。在這種情況下，下面將參考相關的附圖2a到5，對各個單獨的步驟11到18進行描述。方法步驟11到14代表了集中的(central)子過程1中的方法步驟，方法步驟15到18代表了在非集中子過程2中的方法步驟。集中的子過程1可用于生成襯底體和薄膜體，通過所述襯底體和薄膜體，個性化的光學可變元件可在隨后的非集中子過程2中生成。
集中的子過程1中的方法步驟可在工業制造過程中實現。
通過方法步驟11和12可制造出如圖2a所示的具有三個層31，32，33的薄膜體3。所述薄膜體3是沖壓薄膜。所述薄膜體3也可以是層壓薄膜或粘合薄膜。
薄膜體3具有層31，32，33三個層。層31是承載層，由例如厚度在19μm到23μm之間的聚酯薄膜構成。在方法步驟11中，通過例如凹版印刷工藝將層32敷設到承載層31上。層32是LCP層(LCP＝液晶聚合物)，所述LCP層包含可通過照射或其他方式固化的液晶材料。可以使用在US No 5 389 698 A，US No 5 602 661 A，EP 0 689 084A，EP 0 689 065 A1，WO 98/52007以及WO 00/29878中描述的液晶材料作為本發明所述的液晶材料。最好使用Merck RMM 129或OPALVA(Vantico-Basel)作為層32的液晶材料。
優選地，被敷設到所述承載層31上的液晶材料的敷設重量為0.5-3g/m2。隨后，在方法步驟12中，實現對層32上的承載溶劑的LCP材料的物理干燥。在這種情況下，所述干燥是在例如溫度為100到120℃的干燥槽內進行的。
在將所述LCP層32敷設到所述層31上時，也可以不覆蓋整個表面區域，而是通過適合形狀的凹版印刷滾筒局部地以圖案方式的形狀覆蓋所述層31的表面。通過這種方式，可以在尚未個性化的LCP層中提供作為附加安全屬性的復雜的圖案。
然后，將所述層33敷設到所述干燥層32上。所述層33是用于保護所述LCP層32粘性表面的硅紙。
也可以在所述層31和32之間提供釋放和/或保護漆層，以保證所述承載層31可以從所述LCP層32更好地釋放，或為層32提供更好的物理保護。
圖2b中所示的襯底體4是通過方法步驟13和14生成的。所述襯底體4是粘合薄膜，它天然具有其他的層。然而，所述襯底體4也可以是沖壓薄膜或層壓薄膜。
所述襯底體4，也就是所述層42，也可被直接構造(例如通過激光燒蝕的方式)。另外，所述襯底體4也可由PCV板形成。
所述襯底體4具有包含起伏結構40的定向層41及承載層42。
所述承載層42是諸如層厚在10μm到50μm的PET或BOPP薄膜。在方法步驟13中，所述定向層41將被敷設到所述承載層42的整個表面區域上，例如通過使用凹版印刷滾筒。
所述層41是一個復制層，通過沖壓工具將所述起伏結構40壓紋(emboss)在其中。在這種情況下，所述層41最好含有明顯的熱塑性材料。例如，用于層31的復制漆具有以下成分成分比重高分子PMMA樹脂 2000硅樹脂環基，非油性 300非離子濕潤劑50
低粘性硝化纖維750甲基甲乙酮1200甲苯 2000乙酰丙酮醇2500所述復制層可通過以下方式被敷設到層42上，例如在干燥后使用敷設重量為2.2g/m2的線性柵格凹板印刷滾筒。所述干燥是在溫度為100到120℃的干燥通道中實現的。
目前，在方法步驟14中，通過使用由諸如鎳構成的印模(die)在約130℃將用于液晶定向的起伏結構40壓紋于層41中。在沖壓所述起伏結構40時，所述印模最好用電加熱。在所述沖壓操作之后，在所述印模從層41上提起之前，所述印模可被重新冷卻。在所述起伏結構40的沖壓操作之后，可通過交聯或其他方式固化所述復制漆。
在這里，例如所述起伏結構40具有多個平行的凹槽，這些凹槽排列成相互并列的關系，并且允許對液晶分子進行定向操作。在這種情況下，所述起伏結構的空間頻率最好在300到3000行/mm，并且所述凹槽的剖面深度最好在200nm到600nm。
然而，也可以使用曝光的感光聚合物層來構成所述定向層41。原則上，為實現這個目標，可以使用所有可通過偏振光照射建立其方向屬性的感光聚合物。這樣的感光聚合物(LPP＝LinearilyPhotopolymerisized Polymeres)的范例在諸如EP 0 611 786 A，WO96/10049以及EP 0 763 552 A中有所描述。另外，為了實現上述目的，也可以使用在EP 1 227 347 A1中描述的感光聚合物。
在方法步驟13中，通過濕化學工藝將所述感光聚合物層敷設到所述承載層42上。在這種情況下，最好使用凹版印刷工藝實現敷設所述感光聚合物層的操作。然后，在方法步驟14中，干燥所述感光聚合物層，并使用偏振紫外線對其進行照射，由此，在允許液晶分子進行定向的定向層41中生成所述起伏結構40。
在這種情況下，所述定向層41也可以已經以圖案的結構被印制在所述承載層42上，由此，在對所述定向層進行個性化之前，將作為進一步安全屬性的復雜圖案敷設到所述定向層41上。另外，也可以通過所述起伏結構40的適當凹入形狀達到同樣的效果。
在非集中子過程2中，通過使用簡單的設備，借助于所述襯底體4和薄膜體3可以非集中地(decentrally)制造出個性化光學可變元件。
出于這一目的，在方法步驟15中，所述襯底體4的定向層41被個性化。
下面參考圖3a描述個性化的定向層41的第一種可能的方法圖3a顯示了具有承載層42和定向層41的襯底體4。以區域方式敷設到所述層41上的層是印刷層43，所述印刷層43填滿了所述起伏結構40的凹槽。這類例如通過TTF打印機或噴墨式打印機進行的彩色或無色印刷使得所述定向層41上的區域通過以特定目標風格的方式進行填充，從而被覆蓋或清除。所述感光聚合物的區域中或結構區域的表面隨后將不會出現液晶材料的排列，所述感光聚合物通過打印操作消除活性，所述結構區域通過打印操作來填充，這樣，將實現所述液晶分子在上述區域內的各向同性的分布。在偏振器的作用下，通過液晶材料的定向，可在非打印區域內獲得“是/否”信息，然而在被消除活性或通過打印填充的區域內，液晶不會涉及任何優選的定向操作，因此不會具有任何的光學激活信息。
所述定向層41的個性化可以通過類似的方法實現，如通過局部去除所述定向層41的方法。這樣在方法步驟15中，可通過例如銑削頭或其他材料去除工具局部去除所述起伏結構40，由此，隨后在去除的材料中生成所述液晶分子的各向同性分布，并且由此實現光信息的清除。也可通過熱去除實現這類清除，例如通過使用激光器。
另一種可能選項包括通過對所述定向層41進行局部熱處理來局部恢復所述起伏結構40的形狀(retro-shaping)，由此局部消除所述起伏結構的液晶定向特性。
另外，也可以使用未曝光的或局部曝光的LPP層作為所述定向層41，并且在方法步驟15中，通過一個或多個曝光步驟個性化該層。在這種情況下，該處理也能與圖3a相關的所述處理相結合，由此，首先在諸如未曝光的或局部曝光的感光聚合物層之上印刷一層，通過涂層以及后續的偏振光照射防止后續的定向。
另外，也可以通過使用沖壓機床局部地去除所述定向層41的起伏結構40。除了直接地清除所述起伏結構40外，該沖壓機床還可以進一步在所述定向層41中壓紋新的具有不同方向的起伏結構。通過這種方式，生成具有不同方向的液晶分子區域也是可以的。
如果需要，也可通過與一個具有偏振特性的阻滯劑層(retarderlayer)結合生成具有對比變化(contrast change)的LC基。在這種情況下，所述阻滯劑層可以是所述襯底體的一部分，例如可直接被放置在所述定向層41的下方。它也可作為在所述襯底體之上的薄膜體30部分的一部分，例如可直接被放置在LCP層32之上。
例如，所述阻滯劑層可由額外的、適當定向的并且固定的LC層形成。然而，所述阻滯劑層也可以是適當的承載材料層，所述承載材料對偏振光表現出雙折射特性，也就是說，它對應不同的方向具有不同的折射率。因此，如果所述承載層由適當的材料制成，所述阻滯劑層例如也可由承載層42構成。此外，所述阻滯劑層也可由具有偏振或與偏振相關的屬性的其他材質制成。
由定向的LC層32產生的偏振效果以及由阻滯劑層生成的偏振效果疊加在一起，由此，由于對定向層41的個性化而使LC層32不具有偏振特性的區域中，光的偏振由所述阻滯劑層確定，而在其他區域，光的偏振則由阻滯劑層和LC層32的屬性確定。所述阻滯劑層的偏振方向目前最好選擇為相對于液晶分子的定向層成45度角。所述附加的阻滯劑層可以是以例如透明覆蓋的方式配置在局部定向的LC層上，假設在所述定向層的區域內也生成了光有效信息(“明/暗”效果)，其中這些區域通過個性化降低活性。由所述LCP層結合“是/否”信息，由此提供一個基于LC的元件，該元件用偏振器來觀看，隨著偏振器的轉動顯示為對比的變化(contrast change)。在這種情況下，與阻滯劑層結合的LC元件具有反射或透射特性。
下面參考圖3b和3c描述對所述定向層41進行個性化的另一種可行的方式。在這方面，在圖3b和3c所示的處理流程中，通過將另一個已預先定向的感光聚合物層或復制層局部轉移到所述定向層41之上，可獲得所述定向層41單獨的方向。
圖3b示出了具有載體4、釋放層47、復制層48以及粘合層49的轉印薄膜44。
所述載體46包括承載薄膜461以及具有復制結構的復制漆462。
所述復制層41被成形為例如與圖2b所示的復制層類似的形狀，并且具有壓紋的允許液晶分子進行定向的起伏結構。所述粘合層49可以是諸如一種可熱激活的粘合劑。當前，可以通過例如適當的沖壓機床將所述的轉印薄膜44局部地敷設到所述的定向層41上。由此，圖3c顯示了具有所述定向層41的襯底體4，其中，將所述的轉印薄膜敷設到所述定向層41的區域45中，其敷設方向與所述定向層41的方向垂直，以及將所述的轉印薄膜敷設到所述定向層41的區域50中，其敷設方向相對于定向層41的方向成45度角。在敷設所述轉印薄膜44之后，所述承載薄膜46將被去除，這樣，在所述區域45和50中，所述復制層48的起伏結構就形成了操作性表面結構。從圖3c可以看出，涉及不同方向的定向層的區域可通過局部敷設這類其他的定向層分別生成。通過這種方式，可以生成具有對比反轉(contrastreversal)的圖像。
除了應用具有壓紋的起伏結構的復制層之外，可以理解，還可以使用曝光的感光聚合物層作為層48。
目前，在方法步驟16中，將所述薄膜體3敷設到所述襯底體4之上。為實現上述目的，將包含硅紙的保護層33從薄膜體3中剝離，隨后將余下的薄膜體反向地層壓到所述襯底體44上。這樣，經過物理干燥的LCP層32具有良好的粘合能力，可以在所述襯底體和薄膜體之間提供穩定的結合，而不需要使用其他的方法。圖4顯示了執行方法步驟16后所提供的薄膜體。所述薄膜體包括承載層42，具有局部印刷層43的定向層41，LCP層32及承載層31。
當前，在方法步驟17中，將對圖4所示的多層體進行加熱，以實現將所述LCP層32的液晶分子對準個性化后的定向層41的定向。所述LCP層32將在熱作用下液化，由此，所述LCP層32的液晶分子將對準個性化后的定向層41進行排列。
在方法步驟18中，使用穿透所述承載層31的紫外線對目前已定向的LCP層32進行曝光。優選地，使用波長范圍在280到365nm的紫外線進行所述曝光操作。上述紫外線曝光為所述液晶材料提供紫外線(UV)定影。
在上述情況下，所述承載體可以阻止氧氣帶來的抑制作用(inhibition)，由此，可以省去在惰性條件下處理LCP時通常所必需的照射固化過程。
在所述LCP層32的UV定影之后，從多層體中剝離出所述承載層31，由此，可得到如圖5所示的光學可變元件51，該光學可變元件51包括承載層42，具有局部印刷層43的個性化定向層41，以及已定向的LCP層32。
在所述LCP層32之上保留所述承載層31也是可以的，此時，所述承載層將作為例如保護層來保護所述LCP層32。
下面將結合圖6a和6b描述本發明另外的實施例。
圖6a顯示了具有承載層61、轉移層62的薄膜體6，其中，所述轉移層62具有釋放和保護漆層63、復制層64、LCP層65和保護層66。所述承載層61、LCP層65及保護層66與圖2a中顯示的層31、32和33相類似。
所述層64是一個復制層，在其中以區域方式壓紋一衍射結構67。在這種情況下，所述層64和65所使用材料的折射率是不相同的，由此通過所述衍射結構67可以生成透明的光衍射安全特性。因此，通過所述衍射結構67生成諸如全息圖或活動圖(Kinegram)是可能的。
圖6b顯示了由例如(印刷的)塑料和/或紙介質構成的保密文件72。這類保密文件例如可用作通行證、身份證、公司身份證、信用卡、充值卡或票據。
除此之外，圖6b顯示了被敷設到所述保密文件72之上的襯底體71。所述襯底體71包括承載層73、釋放層74、定向層75、復制層76、反射層77及粘合層78。
所述承載層73類似于圖2a中所示的承載層31。所述定向層75類似于圖2b中所示的定向層41。復制層76是在其中局部形成有衍射結構79的復制層。所述反射層77包含一個薄的汽相沉積金屬層。本質上，鉻、鋁、銅、鐵、鎳、銀、金或包含上述金屬的合金均可作為所述金屬層的材料。此外，所述反射層77也可以是一個HRI層(HRI＝高折射率)。
因此，在所述衍射結構79的區域內生成具有光學衍射效果的反射安全元件，例如全息圖或活動圖。可以理解，所述反射層77也以是一個局部層，由此，例如以區域方式具有一個透明窗口，使得所述保密文件72的元件可見。
所述粘合層78包括例如可熱激活的粘合劑層。
當前，在集中的子過程中，可通過如下步驟生成所述薄膜體6將所述釋放/保護漆層63敷設到所述承載層61上；通過印刷來敷設一個復制漆層，對所述復制漆層進行干燥，并復制所述衍射結構67；通過印刷來敷設所述LCP層64，并對所述LCP層65進行物理干燥；再敷設所述保護層66。當前，在非集中的子過程中，將所述襯底體71敷設到所述保密文件72上(可選地，在所述保密文件72被個性化后)。隨后，從所述襯底體71中剝離所述承載層73及釋放層74，然后，再如與圖3a至3c對應的描述中所述，對所述定向層75進行個性化。接下來，從所述薄膜體6中剝離所述保護層66，再將所述薄膜體6和層65層壓到所述襯底體71的層75之上。
下面結合圖7a和7b描述本發明所述的薄膜系統的其他實施例。
圖7a顯示了具有承載層81、LCP層82、復制層83、反射層84及粘合層85的薄膜體8。
所述承載層81、LCP層82及復制層83與圖6a中所示的層61、65及64類似。所述反射層84及粘合層85與圖6b中所示的層77和78類似。衍射結構87在復制層83上以區域形式成形，并由此提供了反射光安全元件。
圖7b展示了襯底體9，該襯底體9具有承載層91、釋放和/或保護漆層92、復制層93、薄的薄膜層系統的吸附層94和襯墊層95、定向層96及保護層97。在這種情況下，所述承載層91、復制層93及定向層96與圖6b中所述的層73、76和75相類似。在一個區域中，所述復制層93具有衍射結構98，在該衍射結構區域內，生成具有光衍射效果的透明安全元件。所述薄的薄膜層系統包括吸附層94和襯墊層95，生成透明的光學安全元件，該光學安全元件可以通過干涉作用，產生取決于觀察角度的顏色變化。
在所述集中子過程中，生成了所述薄膜體8和襯底體9。隨后，在所述非集中子過程中，所述襯底體8將通過粘合層85粘合到保密文件上。隨后，從所述轉移層上去除所述承載薄膜81。在后續步驟中，從所述襯底體9的定向層96去除所述保護層97，并根據圖3a到3c所描述的其中一種處理方法個性化所述定向層96。然后，將導向所述薄膜體8的LCP層82的所述個性化的定向層96敷設到所述襯底體9上，并將所述襯底體9層壓到所述薄膜體8上。
從這方面來講，由具有光學衍射效應的所述結構87和88生成的光學安全特性將表現出相互補充的光學安全特性。舉例來說，上述兩個衍射結構可以生成一個共同的全息圖顯示的相鄰區域。
權利要求
1.用于制造具有偏振特性的個性化光學可變元件(51)的方法，其特征在于，為了制造所述光學可變元件(51)，將一個包括兩個或兩個以上的層、并具有包含液晶材料的LCP層(32，65，85)的薄膜體(3，6，8)敷設到一個襯底體(4，7，9)上，所述襯底體具有用于液晶定向的定向層(41，75，96)，在所述薄膜體被敷設到所述襯底體之前，對所述襯底體(4，7，9)的定向層(41，75，76)進行個性化，并通過以下方式將所述薄膜體(3，6，8)敷設到所述襯底體(4，7，9)的經過個性化的定向層(41，75，96)上將所述薄膜體(3，6，8)的LCP層(32，65，85)設置在所述襯底體的個性化后的定向層之上，用于對所述薄膜體LCP層的液晶進行定向。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，通過在所述定向層上進行局部印刷(43)，對所述襯底體(4)的定向層(41)進行個性化。
3.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，通過將不同方向的定向層(48)局部轉移到所述襯底體(4)的定向層(41)上，對所述襯底體(4)的定向層(41)進行個性化。
4.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，通過局部地機械去除所述定向層，對所述襯底體的定向層進行個性化。
5.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，通過對所述定向層進行局部熱變形，對所述襯底體的定向層進行個性化。
6.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，通過將起伏結構復制到所述定向層內，對所述襯底體的定向層進行個性化。
7.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，通過對所述定向層進行曝光，對所述襯底體的定向層進行個性化。
8.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，排列所述薄膜體(3)中LCP層(32)的液晶材料使其對準所述襯底體(4)中經過個性化的定向層(41)，然后固化所述LCP層(32)的經過排列后的液晶材料。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在將所述薄膜體(3)敷設到所述襯底體(4)上之后，為了實現對液晶的排列，加熱所述薄膜體(3)的LCP層(32)。
10.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，使用沖壓薄膜、層壓薄膜或粘合薄膜作為所述襯底體(71，9)。
11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，在將所述薄膜體(6)敷設到所述襯底體(71)上之前，將形成所述襯底體(71)的沖壓薄膜、層壓薄膜或粘合薄膜敷設到一個保密文件(72)上。
12.根據權利要求1至9中任一項權利要求所述的方法，其特征在于，所述襯底體(4，7)具有形成保密文件的承載層(42，72)。
13.根據前面任一項權利要求所述的方法，其特征在于，在熱沖壓或層壓過程中，被敷設到所述襯底體(4，7，9)上的薄膜體(3，6，8)是沖壓薄膜、層壓薄膜或粘合薄膜。
14.用于提供具有偏振特性的個性化光學可變元件(51)的薄膜系統，包括襯底體(4，7，9)及薄膜體(3，6，8)，其特征在于，所述薄膜系統的薄膜體(3，6，8)包括兩個或兩個以上的層，并具有包含液晶材料的LCP層(32，65，85)，所述薄膜系統的襯底體(4，7，9)具有用于進行液晶定向的定向層(41，75，96)，并且在對所述襯底體(4，7，9)的定向層(41，75，96)進行個性化之后，通過如下方式將所述薄膜體(3，6，8)敷設到所述襯底體(4，7，9)的經過個性化的定向層(41，75，96)上將所述薄膜體(3，6，8)的LCP層(32，65，85)放置到所述襯底體(4，7，9)的經過個性化的定向層(41，75，96)之上，用于對所述薄膜體(4，6，8)的LCP層(32，65，85)的液晶進行定向。
15.根據權利要求14所述的薄膜系統，其特征在于，為了將所述薄膜體與所述襯底體更好地粘合在一起，所述襯底體的定向層具有紫外線功能團。
16.根據權利要求14或15所述的薄膜系統，其特征在于，所述薄膜體(3，6，8)具有承載層(31，61，81)和經過物理干燥的LCP層(32，65，85)。
17.根據權利要求14到16中任一項權利要求所述的薄膜系統，其特征在于，所述襯底體(7，9)具有一個或多個另外的用于生成光學安全特性的層(76，77，94)。
18.根據權利要求14到17中任一項權利要求所述的薄膜系統，其特征在于，所述薄膜體(6，8)具有一個或多個另外的用于生成光學安全特性的層(68，83，84)。
19.根據權利要求14到18中任一項權利要求所述的薄膜系統，其特征在于，所述襯底體(7，9)及薄膜體(6，8)中的每一個均具有一個或多個另外的產生相互補充的光學安全特性的層。
20.根據權利要求14到18中任一項權利要求所述的薄膜系統，其特征在于，所述襯底體和/或構成所述光學可變元件一部分的薄膜體部分包含具有偏振特性的阻滯劑層。
全文摘要
本發明涉及用于制造具有偏振特性的個性化光學可變元件的方法，以及實現上述方法的薄膜系統。為了生成所述光學可變元件，將一個薄膜體敷設到一個襯底體上，其中所述薄膜體包含兩個或兩個以上的層(31，32)，并具有包含液晶材料的LCP層(32)，所述襯底體包含用于對液晶進行定向的定向層(41)。在將所述薄膜體敷設到所述襯底體上之前，對所述定向層(41)進行個性化。然后，通過如下方式將所述薄膜體敷設到所述襯底體上的經過個性化的定向層上將所述LCP層(32)設置到所述襯底體的經過個性化的定向層(41，43)上，從而能夠對所述薄膜體的LCP層(32)中的液晶進行排列。
文檔編號B42D15/00GK1853120SQ200480026726
公開日2006年10月25日 申請日期2004年9月9日 優先權日2003年9月16日
發明者海蒙·卡其克, 維爾那·賴因哈特, 馬蒂亞斯·塞茲 申請人:雷恩哈德庫茲兩合公司