記錄裝置的制造方法
【專利摘要】本發明涉及一種記錄裝置，其包括：設置部，其中設置有輥形記錄介質；記錄介質的傳送部；介質支持部，其支持記錄介質；以及接觸部，其在記錄介質的傳送方向上提供在設置部和介質支持部之間并被偏置成與記錄介質接觸。
【專利說明】
記錄裝置
技術領域
[0001 ]本發明涉及一種記錄裝置。
【背景技術】
[0002]在現有技術中，采用能夠在記錄介質上執行記錄的記錄裝置。而且，在各記錄裝置之中，經常采用能夠在輥形記錄介質上執行記錄的記錄裝置。
[0003]例如，在PTLl中，公開了一種設置有作為介質支持部的輥筒的記錄裝置，所述輥筒能夠在通過記錄部執行記錄之前加熱棍形記錄介質。
[0004]引證列表
[0005]專利文獻
[0006]PTLl:JP-A-2013-52578
【發明內容】
[0007]技術問題
[0008]然而，在能夠在輥形記錄介質上執行記錄的記錄裝置中，當記錄介質的設置部和介質支持部之間的間隔大且記錄裝置的安裝位置中濕度高時，諸如吸濕和皺折(起皺)的變形會在記錄介質越過該間隔傳送時產生。
[0009]此處，本發明的目的是抑制能夠在輥形記錄介質上執行記錄的記錄裝置中的記錄介質的吸濕和變形。
[0010]解決技術問題的方案
[0011]根據解決上述問題的本發明的第一方面，提供了一種記錄裝置，其包括:輥形記錄介質的設置部;記錄介質的傳送部;介質支持部，其支持記錄介質；以及接觸部，其在記錄介質的傳送方向上提供在設置部和介質支持部之間并被偏置成與記錄介質接觸。
[0012]根據該方案，在記錄介質的傳送方向上設置部和介質支持部之間，提供被偏置成與記錄介質接觸的接觸部。出于該原因，即使在記錄裝置的安裝位置濕度高時，由于接觸部與記錄介質的接觸，仍然在設置部和介質支持部之間的間隔內抑制了記錄介質的吸濕。因此，可以抑制記錄介質的吸濕和變形。此外，由于接觸部被偏置成與記錄介質接觸，因此可以減少對接觸部與記錄介質分離的擔心。
[0013]根據本發明第二方面的記錄裝置，在該第一方面中，接觸部具有不透濕性。
[0014]此處，術語“不透濕性”意味著足以將水蒸氣的滲入阻斷到在接觸部與記錄介質接觸時抑制記錄介質的吸濕的程度，而且也意味著不需要完全地抑制空氣中的水蒸氣的滲入。
[0015]根據該方面，由于接觸部具有不透濕性，因此可以有效地抑制記錄介質的吸濕和變形。
[0016]根據本發明的第三方面的記錄裝置，在該第一或第二方面中，接觸部具有柔性。
[0017]根據該方面，由于接觸部具有柔性，因此容易使得接觸部與記錄介質接觸，而且簡單地配置了該接觸部。
[0018]根據本發明的第四方面的記錄裝置，在第一至第三方面中的任一個中，接觸部在接觸部和記錄介質之間的接觸部分處由氟制成。
[0019]根據該方面，接觸部在接觸部和記錄介質之間的接觸部分處由氟制成。出于該原因，可以減少接觸部分和記錄介質之間的摩擦力，并抑制記錄介質的傳送準確性劣化。
[0020]根據本發明的第五方面的記錄裝置，在第一至第四方面中的任一方面中，接觸部是可附接的并可分離的。
[0021]在各輥形記錄介質之中，在執行記錄的記錄表面的相反側具有隔離紙張的記錄介質中，隔離紙張可能會吸濕，尤其可能會變形。同時，除了這種記錄介質，還存在不太可能吸濕也不太可能變形的記錄介質。
[0022]根據該方面，可以當在可能吸濕并可能變形的記錄介質上執行記錄時設置接觸部，并當在不太可能吸濕也不太可能變形的記錄介質上執行記錄時取下接觸部。出于該原因，通過根據待用的記錄介質來附接和分離接觸部，可以抑制記錄介質的變形并抑制傳送準確度的劣化。
[0023]根據本發明的第六方面的記錄裝置，在第一至第五方面中的任一方面中，還包括在記錄介質上執行記錄的記錄部，介質支持部包括在由記錄部執行記錄之前對記錄介質進行加熱的預熱區域，且接觸部附接至預熱區域。
[0024]根據該方面，接觸部附接至預熱區域。出于該原因，在具有預熱區域的記錄裝置中，可以有效地利用空間并使記錄裝置緊湊。
[0025]根據本發明的第七方面的記錄裝置，在第一至第六方面的任一方面中，接觸部中在接觸部與記錄介質之間的接觸部分以及介質支持部中在介質支持部與記錄介質之間的接觸部分以相似的方式進行表面處理。
[0026]根據該方面，接觸部中在接觸部與記錄介質之間的接觸部分以及介質支持部中在介質支持部與記錄介質之間的接觸部分被相似的表面處理。出于該原因，在記錄介質從接觸部中的接觸部分移動到介質支持部中的接觸部分時，記錄介質的荷電狀態會改變，從而，可以抑制由記錄部記錄的圖像質量的劣化。
[0027]此外，“相似的表面處理”不意味著需要進行完全相同的表面處理，而是意味著在如下程度上不同的表面處理:當記錄介質從接觸部中的接觸部分移動至介質支持部中的接觸部分時，記錄介質的荷電狀態不會發生導致圖像質量劣化的改變。
[0028]根據本發明的第八方面的記錄裝置，在第一至第七方面中的任一個中，接觸部中傳送方向的長度為設置在設置部中的記錄介質和介質支持部之間的距離的50%至95%。
[0029]根據該方面，接觸部中傳送方向的長度為設置在設置部中的記錄介質和介質支持部之間的距離的50%至95%。出于該原因，設置在設置部中的記錄介質和接觸部被抑制而不彼此接觸。同時，接觸部能夠立即與從棍形記錄介質提取的記錄介質接觸，并可以抑制在記錄介質中的吸濕。
【附圖說明】
[0030]圖1是示出了根據本發明的一個實施例的記錄介質的示意性側面圖。
[0031 ]圖2是示出了根據本發明的實施例的記錄介質的示意性立體圖。
[0032]圖3A是示出了在接觸部附接至根據本發明的實施例的記錄裝置時的順序的視圖。
[0033]圖3B是示出了在接觸部附接至根據本發明的實施例的記錄裝置時的順序的視圖。
[0034]圖3C是示出了在接觸部附接至根據本發明的實施例的記錄裝置時的順序的視圖。
[0035]圖4是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性立體圖。
[0036]圖5是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性立體剖視圖。
[0037]圖6是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性側面剖視圖。
[0038]圖7是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性立體圖。
[0039]圖8是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性立體剖視圖。
[0040]圖9是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性側面剖視圖。
[0041]圖10是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的示意性立體圖。
[0042]圖11是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的壓力部的示意性立體圖。
[0043]圖12是示出了根據本發明的實施例的記錄裝置中的接觸部的附接部的壓力部的示意性立體圖。
【具體實施方式】
[0044]下文將參照附圖來詳細描述根據發明的一個實施例的記錄裝置。
[0045]實施方式
[0046](圖1至圖12)首先，將描述根據本發明的實施例的記錄裝置。
[0047]圖1是根據一個實施例的記錄裝置I的示意性側面圖。圖2是根據實施例的記錄裝置I的示意性立體圖。此外，圖2還示出了接觸部7分離時的狀態。
[0048]根據本實施例的記錄裝置I設置有設置部2，該設置部2設置用于執行記錄的輥形記錄介質P的棍R1。在本實施例的記錄裝置I中，當棍形記錄介質P在傳送方向上傳送時，設置部2的轉軸在轉動方向C上轉動。此外，在本實施例中采用了纏繞成使得記錄表面處于外側的輥型記錄介質P。然而，當采用纏繞成使得記錄表面處于內側的輥型記錄介質P時，可以通過向轉動方向C的反向進行轉動來送出棍Rl。
[0049]此外，本實施例的記錄裝置I設置有傳送機構11，該傳送機構11包括作為傳送部的一對傳送輥8，該對傳送輥8用于沿傳送方向A傳送記錄介質P。此外，在支持記錄介質P的介質支持部3a的下部處，設置有加熱器5a，該加熱器5a在由介質支持部3a所支持的記錄介質P上的記錄發生之前能夠執行預熱。
[0050]此外，本實施例的記錄裝置I設置有能夠從介質支持部3a側對記錄介質P加熱的加熱器作為加熱器5a，但是也可以設置有在面對介質支持部3a的位置處設置的紅外加熱器。
[0051]此外，從傳送方向A上的上游側的端部向傳送方向A的上游側延伸的接觸部7附接至本實施例的介質支持部3a。接觸部7由具有柔性的材料構成，且在記錄介質P不通過接觸部7的彈力設置的狀態下具有如下的構造:傳送方向A的上游側比圖1所示的狀態更靠上地定位。在圖1所示的設置了記錄介質P的狀態中，被自動地或類似地向下推動的記錄介質P由彈力向上推回，并與記錄介質P的記錄表面的相反側上的表面接觸。
[0052]當以不同方式描述時，本實施例的記錄裝置I具備輥形記錄介質P的設置部2、傳送記錄介質P的一對傳送棍8、支持記錄介質P的介質支持部3a、以及在記錄介質P的傳送方向A上提供在設置部2與介質支持部3a之間并被偏置成與記錄介質P接觸的接觸部7。
[0053]出于該原因，即使在記錄裝置I的安裝位置處濕度高時，由于接觸部7與記錄介質P接觸，仍然可以抑制記錄介質P在設置部2和介質支持部3a之間的間隔內從記錄表面的相反側來吸濕。因此，可以抑制記錄介質P的吸濕和變形。
[0054]此外，由于接觸部7相對于記錄介質P偏置，因此即使在與接觸部7接觸的記錄介質P的位置在垂直方向上改變時，仍然可以借鑒(mirror)該位置的改變并改變接觸部7的位置。因此，可以減少對接觸部7與記錄介質P分離的擔心，并可以抑制記錄介質P的吸濕和變形。
[0055]此外，本實施例的接觸部7由不透濕塑料片構成，并具有不透濕性。
[0056]此處，“不透濕性”意思是足以將水蒸氣的滲入阻斷到在接觸部7與記錄介質P接觸時抑制記錄介質P的吸濕的程度，而且也意味著不需要完全地抑制空氣中的水蒸氣的滲入。此外，作為一種測量不透濕性的實驗方法，可以采用測量JIS K7129中定義的蒸汽滲透水平的實驗方法。此處，當蒸汽滲透水平等于或小于24小時內每平方米20g時，該蒸汽滲透水平是優選的。
[0057]由于本實施例的接觸部7具有不透濕性，有效地抑制了記錄介質P的吸濕和變形。
[0058]此外，本實施例的接觸部7由柔性塑料構成并具有柔性。
[0059]出于該原因，接觸部7易于與記錄介質P接觸，且簡單構造了接觸部7。
[0060]此外，用于本實施例的接觸部7的優選構造材料的示例包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯等，但不限于此。
[0061]此外，在本實施例的接觸部7中，記錄介質P和接觸部分21是涂覆了氟的，且氟設置在在接觸部分21中。
[0062]出于該原因，可以減少接觸部分21和記錄介質P之間的摩擦力，且抑制了記錄介質P的傳送準確度的劣化。
[0063]此外，如圖2所示，本實施例的接觸部7可以附接至介質支持部3a且可以從介質支持部3a分尚。
[0064]在各輥形記錄介質P之中，在執行記錄的記錄表面的相反側上具有隔離紙張的記錄介質中，隔離紙張可能會吸濕，并尤其可能會變形。同時，除了該記錄介質P，還存在不太可能吸濕也不太可能變形的記錄介質P。
[0065]在本實施例的記錄裝置I中，當在可能吸濕并可能變形的記錄介質P上執行記錄時可以放置接觸部7，并當在不太可能吸濕也不太可能變形的記錄介質P上執行記錄時可以取下接觸部7。出于該原因，通過根據待用的記錄介質P來附接和分離接觸部7，可以抑制記錄介質P的變形并抑制傳送準確度劣化。[ΟΟ??]此外，如上所述，本實施例的介質支持部3a具有利用加熱器5a對記錄介質P預熱的預熱區域22。
[0067 ]如圖1和圖2所示，接觸部7附接至預熱區域22。
[0068]出于該原因，在具有預熱區域22的記錄裝置I中，可以有效地利用空間，并使記錄裝置I緊湊。
[0069]此外，在本實施例的記錄裝置I中，接觸部7中在接觸部7與記錄介質之間的接觸部分21以及介質支持部3a中在介質支持部3a與記錄介質P之間的接觸部分23被相似地表面處理。
[0070]出于該原因，當記錄介質P沿著傳送方向A傳送并從接觸部7中的接觸部分21移動至介質支持部3a中的接觸部分23時，記錄介質P的荷電狀態改變，從而抑制了由作為記錄部的記錄頭4所記錄的圖像質量的劣化。
[0071]此外，“相似的表面處理”不意味著需要進行完全相同的表面處理，而是意味著在如下程度上不同的表面處理:當記錄介質P從接觸部7中的接觸部分21移動至介質支持部3a中的接觸部分23時，記錄介質P的荷電狀態不會發生導致圖像質量劣化的改變。
[0072]此外，本實施例的接觸部7在方向B上的長度被構造成比假定采用的記錄介質P的寬度長。特別地，在本實施例的記錄裝置I中，具有大約為1626毫米(64英寸)寬的記錄介質P假定用作最大記錄介質P，且本實施例的接觸部7在方向B上的長度為1700毫米，比其寬度要長。
[0073]此外，根據待用的記錄介質P的寬度，接觸部7在方向B上的長度可以構造成可變的。
[0074]此外，本實施例的接觸部7中傳送方向A的長度大約為330毫米。此外，優選地接觸部7中傳送方向A的長度為設置在設置部2中的記錄介質P和介質支持部3a之間的距離的50%至 95%。
[0075]此外，“接觸部7中傳送方向A的長度”指的是從位于介質支持部3a的傳送方向上的上游側的端部處的接觸部7的位置到位于接觸部7中的傳送方向上的上游側的端部處的接觸部7的位置之間的距離。此外，“接觸部7中傳送方向A的長度”還指的是接觸部7獨立存在的區域(不與介質支持部3a接觸的區域)的傳送方向上的長度。
[0076]以這種方式，相比于接觸部7中傳送方向A的長度等于或大于設置在設置部2中的記錄介質P與介質支持部3a之間的距離的95%的情況，由于接觸部7中傳送方向A的長度為設置在設置部2中的記錄介質P與介質支持部3a之間的距離的50%至95%，所以可以抑制接觸部7和設置在設置部2中的記錄介質P的記錄表面之間的接觸。因此，可以減少對記錄表面將會被損壞的擔心。
[0077]此外，相比于接觸部7中傳送方向A的長度小于設置在設置部2中的記錄介質P與介質支持部3a之間的距離的50%的情況，由于接觸部7中傳送方向A的長度為設置在設置部2中的記錄介質P與介質支持部3a之間的距離的50%至95%，所以可以使記錄介質P與接觸部7彼此接觸的區域較大，并抑制記錄介質P的吸濕和變形。
[0078]此外，在本實施例的記錄裝置I中，接觸部7可以附接至介質支持部3a使得介質支持部3a和接觸部7在傳送方向A上彼此重疊。這是因為當介質支持部3a和接觸部7在傳送方向A上彼此重疊時介質支持部3a能夠穩固地支持接觸部7。
[0079]此外，在本實施例的記錄裝置I中，設置有記錄機構12，其將記錄頭4安裝在托架6上并且在與記錄介質P的傳送方向A交叉的方向B上往復地掃描作為記錄部的記錄頭4，并從設置有多個噴嘴的噴嘴表面上的每個噴嘴排放油墨來執行記錄。
[0080]此外，圖中的方向X和方向Y為水平方向，圖中的方向Z為垂直方向。此處，方向B對應于方向X，且面對記錄頭4的位置處的記錄介質P的傳送方向A對應于方向Y。然而，本發明不限于該構造。
[0081]此外，本實施例的記錄裝置I設置有記錄頭4，其在往復移動的同時執行記錄。然而，本實施例的記錄裝置I可以是設置有所謂線型頭的記錄裝置，該線型頭具有設置在與傳送方向A交叉的方向上的排放油墨的多個噴嘴。
[0082]此處，“線型頭”是一種記錄頭，其中，在與記錄介質P的傳送方向A交叉的方向B上形成的噴嘴的區域設置成使得可以覆蓋記錄介質P的方向B上的整個范圍，且該線型頭在通過固定記錄頭或記錄介質的一側并移動記錄介質的另一側來形成圖像的記錄裝置中使用。此外，該線型頭的方向B上的噴嘴區域可能無法覆蓋記錄裝置所對應的整個記錄介質P的方向B上的整個范圍。
[0083]而且，可以采用具有除了上述的所謂的噴墨型記錄頭之外的記錄部的記錄裝置。
[0084]此外，在面對記錄頭4的區域中，設置有支持記錄介質P的介質支持部3b。此外，在支持記錄介質P的介質支持部3b的下部處，設置有能夠在記錄期間對介質支持部3b所支持的記錄介質P加熱的加熱器5b。
[0085]此外，本實施例的記錄裝置I設置有可以從介質支持部3b側對記錄介質P加熱的、作為加熱器5b的加熱器，但可以設置有在面對介質支持部3b的位置處設置的紅外加熱器。當采用了紅外加熱器時，其紅外線的優選波長為0.76微米至1000微米。通常，紅外線按波長進一步分為近紅外線、中紅外線以及遠紅外線。這種劃分的界定是不同的，但大致上，波長范圍被劃分為0.78微米至2.5微米、2.5微米至4.0微米、以及4.0微米至1000微米。其中，優選地采用中紅外線。
[0086]此外，在記錄機構12的記錄介質P的傳送方向A的下游側，設置有支持記錄介質P的介質支持部3c。此外，在支持記錄介質P的介質支持部3c的下部處，設置有能夠在記錄中間對介質支持部3c所支持的記錄介質P加熱的加熱器5c。
[0087]此外，本實施例的記錄裝置I設置有能夠從介質支持部3c側對記錄介質P加熱的、作為加熱器5c的加熱器，但可以設置有在面對介質支持部3c的位置處設置的紅外加熱器等。
[0088]此外，在記錄支持部3c的記錄介質P的傳送方向A的下游側，設置有能夠卷起記錄介質P的、作為棍R2的纏繞部10。此外，因為在本實施例中記錄介質P被卷起使得記錄表面為外側，當記錄介質P被卷起時，纏繞部10的轉軸沿轉動方向C轉動。同時，當記錄表面卷起使得為內側時，可以在與轉動方向C相反地轉動該轉軸來卷起記錄介質P。
[0089]此外，在介質支持部3中的記錄介質P的傳送方向A的下游側的端部與纏繞部10之間，與記錄介質P接觸的接觸部設置在方向B上，并設置有能夠對記錄介質P給予預定張力的張力桿9。
[0090]接下來將描述接觸部7以及接觸部7附接至記錄裝置I時的順序。
[0091]圖3A至圖10是示出了接觸部7的附接部14a和14b的示意圖。圖11和圖12是示出了附接部14a和14b的施壓部16的示意圖。
[0092]具體而言，圖3A至圖3C是示出了當接觸部7附接至本實施例的記錄裝置I時的順序。此外，圖4至圖6是示出了在本實施例的接觸部7被附接的狀態下附接部14a的示意圖。圖4是示意性立體圖，圖5是示意性立體剖視圖，且圖6是示意性側面剖視圖。此外，圖7至圖9是示出了在本實施例的接觸部7被分離的狀態下附接部14a的示意圖。圖7是示意性立體圖，圖8是示意性立體剖視圖，且圖9是示意性側面剖視圖。此外，圖10是示出了在施壓部16從本實施例的附接部14a分離的狀態下附接部14a的示意性立體圖。圖11和圖12是從各個角度觀察施壓部16時的示意性立體圖。圖11是從上部側的示意性立體圖，且圖12是從下部側的示意性立體圖。
[0093]本實施例的附接部14a和14b形成為兩側對稱形。如圖2所示，在介質支持部3a中，附接部14a和14b設置在與接觸部7在方向B上的兩個端部件對應的位置處。但是，翼形螺釘17的緊固方向對兩附接部14a和14b是共有的。圖3C所示的轉動方向D2為緊固方向。圖3A所示的轉動方向Dl為松動方向。
[0094]本實施例的附接部14a和14b由通過螺釘緊固至介質支持部3a的基體部15以及能夠通過翼形螺釘17對介質支持部3a施壓的施壓部16構造成。
[0095]當接觸部7附接至記錄裝置I的附接部14a和14b時的順序如下。
[0096]當接觸部7附接至介質支持部3a時，如圖3A所示，首先用戶沿轉動方向Dl轉動翼形螺釘17并造成如下一種狀態:可以形成在介質支持部3a和施壓部16之間插入接觸部7的空間。
[0097]此外，圖7、圖8和圖9示出了該狀態。
[0098]接下來，如圖3B所示，用戶使接觸部7的凹口部24a和24b(參照圖2)穿過附接部14a和14b，并使接觸部7沿著與傳送方向A相反的方向E移動。
[0099]此外，如圖6和圖9所示，在施壓部16中，方向E的上游側上形成有斜面部13，且當接觸部7沿方向E移動時容易保持施壓部16。
[0100]最后，如圖3C所示，用戶沿著轉動方向D2轉動翼形螺釘17，并通過將施壓部16壓向接觸部7來將接觸部7固定至介質支持部3a。
[0101]此外，圖4、圖5和圖6示出了該狀態。
[0102]此外，如圖9和圖11所示，在施壓部16的上部處，設置有對應于翼形螺釘17的孔部
18。此外，如圖11和圖12所示，在施壓部16的下部處，設置有對應于基體部15的凸起部20(參照圖10)的槽部19。利用該構造，在本實施例的附接部14a和14b中，施壓部16不太可能從基體部15脫落。
[0103]此外，在本實施例中，接觸部7被構造成通過接觸部7的彈力而向記錄介質P偏置。然而，可以采用利用彈簧或凸輪機構上推或上拉接觸部7以對接觸部7施加彈力的構造。可以采用接觸部7能夠對記錄介質P的位置的變化作出反應的構造。
[0104]此外，在本實施例中，采用了接觸部7與記錄介質P的記錄表面的相對側的表面進行接觸的構造，但也可以采用接觸部7與記錄介質P的記錄表面進行接觸的構造。在記錄介質P中，當與記錄表面的相對側的表面相比該記錄表面具有較高的吸濕性時，會有對記錄表面側將通過吸濕而變形的擔心。在這種情況下，由于記錄表面和接觸部7彼此接觸，可以抑制記錄表面側的吸濕。
[0105]此外，可以采用接觸部7與記錄介質P的記錄表面以及記錄表面相對側的表面都接觸的構造。在這種情況下，在記錄表面側上的接觸部7(第一接觸部)和記錄表面相對側的表面側上的接觸部7(第二接觸部)中，至少一個可以被偏置。
[0106]當兩個接觸部都被偏置時，可以減少第一接觸部和第二接觸部都從記錄介質P分離的擔心。
[0107]此外，與第一接觸部被偏置的情況相比，當第一接觸部沒有被偏置時(僅當第二接觸部被偏置時)，可以減少從第一接觸部對記錄介質P的記錄表面施加的載荷。因此，可以減少對由與第一接觸部接觸而產生的刮痕或污跡的擔心。
[0108]此外，當第二接觸部沒有被偏置時(僅當第一接觸部被偏置時)，記錄介質P由于第二接觸部和記錄介質P之間的接觸會錯誤地上移，且可以減少對記錄介質P從介質支持部3a分離的擔心。
[0109]附圖標記列表[0??0] I記錄介質
[0111]2設置部
[0112]3a、3b和3c介質支持部
[0113]4記錄頭
[0114]5a、5b和5c 加熱器
[0115]6 托架
[0116]7接觸部
[0117]8 一對傳送輥(傳送部)
[0118]9張力桿
[0119]10纏繞部
[0120]11傳送機構
[0121]12記錄機構
[0122]13斜面部
[0123]14a、14b 附接部
[0124]15基體部
[0125]16施壓部
[0126]17翼形螺釘
[0127]18 孔部
[0128]19 槽部
[0129]20凸起部
[0130]21接觸部7的與記錄介質P接觸的接觸部分
[0131]22預熱區域
[0132]23介質支持部3a的與記錄介質P接觸的接觸部分
[0133]24a,24b 凹口部
[0134]P記錄介質
[0135]Rl記錄介質輥
[0136]R2記錄介質輥
【主權項】
1.一種記錄裝置，包括: 設置部，其中設置有輥形記錄介質； 所述記錄介質的傳送部； 介質支持部，其支持所述記錄介質；以及 接觸部，其在所述記錄介質的傳送方向上提供在所述設置部和所述介質支持部之間并被偏置成與所述記錄介質接觸。2.根據權利要求1所述的記錄裝置， 其中所述接觸部具有不透濕性。3.根據權利要求1或2所述的記錄裝置， 其中所述接觸部具有柔性。4.根據權利要求1至3中的任一項所述的記錄裝置， 其中所述接觸部在所述接觸部和所述記錄介質之間的接觸部分處由氟制成。5.根據權利要求1至4中的任一項所述的記錄裝置， 其中所述接觸部是可附接并且可分離的。6.根據權利要求1至5中的任一項所述的記錄裝置，還包括: 記錄部，其在所述記錄介質上執行記錄， 其中所述介質支持部包括在由所述記錄部執行所述記錄之前對所述記錄介質加熱的預熱區域，并且 其中所述接觸部附接至所述預熱區域。7.根據權利要求1至6中的任一項所述的記錄裝置， 其中所述接觸部中在所述接觸部與所述記錄介質之間的接觸部分以及所述介質支持部中在所述介質支持部和所述記錄介質之間的接觸部分進行了相似地表面處理。8.根據權利要求1至7中的任一項所述的記錄裝置， 其中所述接觸部中所述傳送方向的長度為設置在所述設置部中的所述記錄介質和所述介質支持部之間的距離的50%至95%。
【文檔編號】B41J15/04GK105939864SQ201480073652
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2014年12月16日
【發明人】中田敏雄, 石川侑彌
【申請人】精工愛普生株式會社