熱敏轉印記錄介質及其制造方法、以及熱敏轉印記錄方法

熱敏轉印記錄介質及其制造方法、以及熱敏轉印記錄方法
【專利摘要】本發明提供一種熱敏轉印記錄介質，其在高速印刷時的轉印靈敏度高，可以減少在高濃度部中發生的畫質不良(即印刷品表面部分消光)的現象，并且能夠防止由印刷時產生的褶皺引起的印刷不良。本發明的熱敏轉印記錄介質中，含有水溶性高分子作為主成分的所述底涂層在23℃/50％下的平衡吸濕率為15％以下，優選為13％以下，另外更優選的是，所述耐熱潤滑層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α為0.05～0.40μm，并且在150℃、10分鐘的條件下靜置后的該耐熱潤滑層的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β為0.00～0.70μm，所述平均值α與所述平均值β的差為0.00～0.30μm。
【專利說明】熱敏轉印記錄介質及其制造方法、以及熱敏轉印記錄方法

【技術領域】
[0001] 本發明涉及用于熱敏轉印式打印機的熱敏轉印記錄介質及其制造方法，以及熱敏 轉印記錄方法；并且涉及在基材的一側面上設置耐熱潤滑層、在該基材的另一側面上依次 形成底涂層、染料層的熱敏轉印記錄介質及其制造方法，以及熱敏轉印記錄方法。

【背景技術】
[0002] -般而言，熱敏轉印記錄介質稱為熱敏色帶（寸一7 U *'>)，其為熱敏轉印式 打印機中使用的墨帶，其在基材的一側面上設置熱敏轉印層、在該基材的另一側面上設置 耐熱潤滑層（背涂層）。這里，熱敏轉印層是油墨層，其為通過打印機的熱敏打印頭處所產 生的熱使該油墨升華（升華轉印式）或者熔融（熔融轉印式）從而轉印至被轉印體一側的 層。
[0003] 目前，在熱敏轉印方式中，由于升華轉印式不僅能夠實現打印機的高功能化而且 能夠簡便地形成各種全色圖像，因此其廣泛應用于數碼相機的自助打印、身份證等卡片類、 娛樂用輸出物等。與此類用途的多樣化一起，追求小型化、高速化、低成本化以及所得印刷 品的耐久性的呼聲也變高，近年來，具有這樣的多個熱敏轉印層的熱敏轉印記錄介質正在 變得相當普及：在該熱敏轉印層中，在基材板的同一側上以不重疊的方式設置有賦予印刷 品以耐久性的保護層。
[0004] 在這種情況下，伴隨著用途的多樣化以及普及推廣，隨著打印機印刷速度的進一 步高速化的推進，對于常規的熱敏轉印記錄介質而言產生了不能獲得充分的印刷濃度這樣 的問題。因此，為了提高轉印靈敏度，已經進行了通過熱敏轉印記錄介質的薄膜化來提高印 刷過程中的轉印靈敏度的嘗試，然而產生了熱敏轉印記錄介質制造時或印刷時由熱或壓力 等引起褶皺產生、在某些情況下發生斷裂這樣的問題。
[0005] 此外，進行了增大熱敏轉印記錄介質的染料層中的染料/樹脂（dye/binder)的比 率從而提高印刷濃度或印刷過程中的轉印靈敏度的嘗試，然而由于增加染料，不僅提高了 成本，而且在制造工序中的卷繞狀態下，染料的一部分轉移（粘臟）至熱敏轉印記錄介質的 耐熱潤滑層，在隨后的回卷時，該轉移后的染料再轉移（再粘臟）至其他顏色的染料層或者 保護層，如果將該受污染的層熱轉印至被轉印體，那么將變為與預定顏色不同的色調、或者 發生所謂的起臟（地汚Λ )。
[0006] 此外，不僅在熱敏轉印記錄介質一側，而且在打印機一側也進行了提高形成圖像 時的能量的嘗試，然而這不僅增大了電力消耗，還縮短了打印機的熱敏打印頭的壽命，此外 還易于發生染料層和被轉印體熔融結合，即所謂的異常轉印。針對于此，為了防止異常轉 印，向染料層或被轉印體中添加大量的防粘劑的話，那么有時會發生圖像滲色或起臟。
[0007] 為了解決這樣的要求，例如，專利文獻1提出了一種在基材和染料層之間具有粘 接層（底涂層）的熱轉印片，其中該粘接層含有聚乙烯吡咯烷酮樹脂和改性聚乙烯吡咯烷 酮樹脂。
[0008] 另外，不僅為了解決轉印靈敏度不足的問題，而且還為了解決印刷品表面部分暗 淡無光的問題，專利文獻2提出了一種具有底涂層的熱轉印片，該底涂層由乙烯基吡咯烷 酮和醋酸乙烯酯的共聚物樹脂與膠體狀無機顏料超細顆粒形成。
[0009] 如此，隨著轉印靈敏度提高，染料層可以進一步薄膜化、并且染料的總量減少，而 且還使得成本降低，然而另一方面還存在熱敏轉印記錄介質印刷時因熱或壓力等發生由褶 皺引起的印刷不良、某些情況下發生斷裂這樣的問題。
[0010] 在耐熱潤滑層的潤滑不充分的情況下，由于基材和熱敏打印頭之間的粘附，有時 候在熱敏轉印記錄介質的印刷時產生褶皺。另外，在耐熱潤滑層的潤滑性在低能量印刷 和高能量印刷時顯著不同的情況（例如，在同一圖像上同時存在印刷部和非印刷部的情況 等）下，由于兩者間熱敏打印頭和耐熱潤滑層的摩擦的差異而發生粘附，隨著染料層的薄 膜化，熱敏轉印記錄介質需要特別強的耐熱性。
[0011] 為了解決這樣的問題，專利文獻3提出了這樣的方法：其中通過向耐熱潤滑層中 添加有機硅改性樹脂以及金屬皂和填料，來提高高能量印刷時的潤滑性，從而防止在印刷 時產生褶皺。
[0012] 現有技術文獻
[0013] 專利文獻
[0014] 專利文獻1 :日本特開2005-231354號公報
[0015] 專利文獻2 :日本特開2008-155612號公報
[0016] 專利文獻3 :日本特開2006-306017號公報


【發明內容】

[0017] 發明要解決的問題
[0018] 然而，關于專利文獻1提出的熱敏轉印記錄介質，在通過現有的升華轉印式高速 打印機進行印刷時，雖然沒有確認到異常轉印，但是印刷過程中的轉印靈敏度低、未達到足 夠的水平，此外由于引入了粘接層，關于與形成黑色圖像時的黑色的高濃度部，印刷品表面 部分地消光，發生畫質不良。
[0019] 用專利文獻2提出的熱敏轉印記錄介質同樣地進行印刷時，雖然印刷過程中的轉 印靈敏度高、達到足夠的水平，但依然確認到畫質不良。
[0020] 如此，在使用現有的升華轉印式高速打印機的情況下，傳統技術中通過引入底涂 層而在印刷過程中可獲得轉印靈敏度，然而現狀是，尚沒有發現能夠充分改善與形成黑色 圖像時的黑色的高濃度部相關的印刷品表面部分消光現象的熱敏轉印記錄介質。
[0021] 此外，一方面，在將專利文獻3提出的熱敏轉印記錄介質與專利文獻1、2提出的熱 敏轉印記錄介質中描述的耐熱潤滑層組合的情況下，與專利文獻1、2提出的熱敏轉印記錄 介質單獨印刷時的情況相比，雖然由印刷時產生的褶皺所引起的印刷不良略微改善，但不 能充分地防止。
[0022] 因此，在使用現有的升華轉印式高速打印機的情況下，雖然在傳統技術中通過引 入底涂層而在印刷過程中可獲得轉印靈敏度，但是尚沒有發現能夠充分改善與形成黑色圖 像時的黑色的高濃度部相關的印刷品表面部分消光現象的熱敏轉印記錄介質，此外也不能 充分防止由印刷時產生的褶皺所引起的印刷不良。
[0023] 因此，鑒于上述問題，本發明的目的是提供一種熱敏轉印記錄介質，其在高速印刷 時的轉印靈敏度高，并且可以減少高濃度部發生的畫質不良（即印刷品表面部分消光的現 象），并且該熱敏轉印記錄介質可以防止由印刷時產生的褶皺所引起的印刷不良。
[0024] 解決問題的手段
[0025] 為了解決上述問題，本發明的特征在于具有下面的構成。
[0026] (1) -種熱敏轉印記錄介質，具有基材、在該基材的一側面上形成的耐熱潤滑層、 在所述基材的另一側面上形成的底涂層、以及在該底涂層的與所述基材相對的面的相反面 上形成的染料層，其特征在于，所述底涂層中含有水溶性高分子作為主成分，并且在溫度為 23°C且濕度為50%的條件下的平衡吸濕率為15%以下。
[0027] (2)上述⑴中記載的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，在溫度為23°C、濕度為 50%的條件下所述底涂層的平衡吸濕率為13%以下。
[0028] (3)上述（1)或（2)中記載的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，所述耐熱潤滑層的 表面粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值α為〇.〇5?0.40 μ m，并且在150°C、10分鐘的 條件下靜置后的所述耐熱潤滑層的表面粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值β為0.00? 0. 70 μ m，所述平均值α與所述平均值β的差為〇. 〇〇?〇. 30 μ m。
[0029] (4)上述（1)?（3)中任意一項記載的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，所述底涂 層干燥后的涂布量為〇. 05?0. 30 g/m2。
[0030] (5)上述（1)?（4)中任意一項記載的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，被轉印體 的轉印側的至少一層由水性涂布液形成。
[0031] (6) -種熱敏轉印記錄介質的制造方法，該熱敏轉印記錄介質用于被轉印體，該被 轉印體的轉印側的至少一層由水性涂布液形成，并且該熱敏轉印記錄介質具有形成為膜狀 或者片狀的基底、在該基底的兩面中的一側的基底面上形成的耐熱潤滑層、在與該耐熱潤 滑層相反側的基底面上形成的底涂層、以及在該底涂層上形成的染料層，該制造方法的特 征在于，在與所述耐熱潤滑層相反側的基底面上涂布含有水溶性高分子作為主成分的底涂 層形成液之后，對所述底涂層形成液進行干燥處理，使得在溫度為23°C、濕度為50%的條 件下所述底涂層的平衡吸濕率成為15%以下。
[0032] (7)上述（6)中記載的熱敏轉印記錄介質的制造方法，其特征在于，對所述底涂層 形成液進行干燥處理，使得在溫度為23°C、濕度為50%的條件下所述底涂層的平衡吸濕率 成為13%以下。
[0033] (8)上述（6)或（7)中記載的熱敏轉印記錄介質的制造方法，其特征在于，在與所 述耐熱潤滑層相反側的基底面上涂布含有水溶性高分子作為主成分的底涂層形成液使得 該底涂層形成液干燥后的涂布量成為〇. 〇5g/m2以上0. 30g/m2以下，然后對所述底涂層形成 液進行干燥處理。
[0034] (9) 一種熱敏轉印記錄方法，其特征在于，準備上述（1)?（5)中任意一項記載的 熱敏轉印記錄介質，通過熱使所述染料層中所含染料升華從而轉印至被轉印體。
[0035] 發明效果
[0036] 通過使含有水溶性高分子作為主成分的所述底涂層在23°C /50%下的平衡吸濕 率為15%以下、優選為13%以下，另外更優選的是，使所述耐熱潤滑層的表面粗糙度（均方 根偏差Sq)的平均值α為〇. 05?0. 40 μ m，并且使在150°C、10分鐘的條件下靜置后的該 耐熱潤滑層的表面粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值β為0. 00?0. 70 μ m，并且使所述平 均值α與所述平均值β的差為〇.〇〇?0.30μπι，本發明的熱敏轉印記錄介質即使在使用 現有的升華轉印式高速打印機的情況下，在高速印刷時的轉印靈敏度也高，而且可以獲得 這樣的印刷品：其能夠防止印刷品表面部分消光的現象以及由印刷時產生的褶皺所引起的 印刷不良。
[0037] 附圖簡要說明
[0038] [圖1]為基于本發明實施方式的熱敏轉印記錄介質的側面截面圖。
[0039] [圖2]為基于本發明實施方式的被轉印體的側面截面圖。

【具體實施方式】
[0040] 如圖1所示，本發明的一個實施例的熱敏轉印記錄介質的結構為：在基材（10)的 一側面上設置賦予與熱敏打印頭之間的潤滑性的耐熱潤滑層（40)，在基材（10)的另一側 面上依次形成底涂層（20)、染料層（30)。
[0041] 作為基材（10)，因為需要在熱轉印過程中的熱壓下不軟化變形的耐熱性和強度， 因此可單獨使用以下物質或使用以下物質組合后的復合體：例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯、 聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、玻璃紙、醋酸纖維素、聚碳酸酯、聚砜、聚酰亞胺、聚乙烯醇、 芳香族聚酰胺、芳綸、聚苯乙烯等合成樹脂的膜，以及電容器紙、石蠟紙等紙類，等。其中，考 慮到物理性能方面、加工性、成本方面等，優選為聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0042] 另外，考慮到操作性和加工性,可使用厚度為2μηι以上50μηι以下范圍內的基材 (10)，但考慮到轉印適用性和加工性等操作性，優選厚度為2 μ m以上9 μ m以下左右的基材 (10)。
[0043] 另外，也可對基材（10)中的形成耐熱潤滑層（40)或/和底涂層（20)的面進行粘 接處理。作為粘接處理，可以適用電暈處理、火焰處理、臭氧處理、紫外線處理、輻射處理、 表面粗化處理、等離子處理、底涂處理等公知技術，并且可將這些處理中的兩種以上組合使 用。本發明中，提高基材與底涂層之間的粘接性是有效的，從成本方面出發，優選使用經底 涂處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0044] 接下來，關于耐熱潤滑層（40)，必要的是：耐熱潤滑層40的表面粗糙度（均方根 偏差Sq)的平均值α為〇. 05?0. 40 μ m，并且在150°C、10分鐘的條件下靜置后的該耐熱 潤滑層的表面粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值β為0.00?0.70 μ m，所述平均值α與 所述平均值β的差為〇. 〇〇?〇. 30 μ m的范圍。
[0045] 關于均方根偏差Sq，雖然可以用各種方法測定，但使用了激光顯微鏡進行測定，其 為不易受基底影響并且能夠測定微細形狀的非接觸式測定方法。
[0046] 作為裝置，使用了激光掃描共聚焦顯微鏡0LS4000( * u yパ7株式會社制）。在 通過激光顯微鏡測定的情況下，分辨率取決于物鏡的數值孔徑。另一方面，為了減小偏差， 優選廣泛選取測定范圍，選擇數值孔徑與測定范圍之間的平衡最好的50倍物鏡，并隨機測 定10點。對于信息處理，僅對斜率進行修正，將無截止（力7卜才 7)條件下獲得的 Sq值進行平均從而作為耐熱潤滑層40的Sq值。
[0047] 需要說明的是，可通過均方根波紋度Wq來評價耐熱潤滑層40的表面粗糙度。只 要均方根波紋度Wq的平均值α為〇. 05?0. 90 μ m( S卩，0. 05 μ m以上0. 90 μ m以下的范圍 內），并且在溫度為150°C、10分鐘的條件下靜置后的該耐熱潤滑層的表面粗糙度（均方根 波紋度Wq)的平均值β為0.00?1.40 μ m(g卩，0.00 μ m以上1.40 μ m以下的范圍內），所 述平均值α與所述平均值β的差為〇.〇〇?0.50 μ m(S卩，0.00 μ m以上1.40 μ m以下的范 圍內）即可。
[0048] 關于均方根波紋度Wq，雖然可以用各種方法測定，但使用顯微鏡激光位移計，計算 使用截止波長值λ f為1. 25 mm、λ c為〇. 25 mm的輪廓濾波器所獲得的波紋度曲線的均方 根波紋度，在η = 10下測定，并求出平均值。此外，對于在150°C、10分鐘的環境下靜置后 的情況，也用相同的方法計算耐熱潤滑層40的Wq值，可以求出在150°C、10分鐘的環境下 靜置前后之差。
[0049] 此外，對于在150°C、10分鐘的環境下靜置后的情況，也用相同的方法計算耐熱潤 滑層40的Sq值，從而求出在150°C、10分鐘的環境下靜置前后之差。
[0050] 通過在耐熱潤滑層40上具有一定的凹凸，耐熱潤滑層40與熱敏打印頭的接觸面 積變小，兩者的摩擦降低可以獲得潤滑性，并且可以防止印刷不良，因此在本發明中，耐熱 潤滑層40的表面粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值α的值為〇. 05 μ m?0. 40 μ m。如果 耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq為0. 05 μ m以下，則其接近平滑狀態，與熱敏打印頭之間 的摩擦上升，引起印刷不良。另一方面，如果印刷前的耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq為 0.40 μ m以上，那么凹凸程度過大，來自熱敏打印頭的熱的傳導方面產生不均勻，這表現為 印刷品同樣也變得濃度不均。
[0051] 另外，如果能夠從低能量印刷到高能量印刷都保持一定的凹凸，那么在從低能量 印刷時至高能量印刷時都可以獲得穩定的潤滑性，即使在同一圖像上存在印刷部和非印刷 部，兩者也不會產生潤滑性差異，可以抑制褶皺的產生。因此，如果耐熱潤滑層在150°C的環 境下靜置10分鐘時前后的均方根偏差Sq的平均值的差在0. 00?0. 30 μ m的范圍的話，那 么在低能量印刷時和高能量印刷時表面凹凸不會產生大的差異，可以防止褶皺的產生。
[0052] 為了滿足上述表面粗糙度的范圍，有必要調整耐熱潤滑層（40)的凹凸。
[0053] 例如，根據需要來配合作為粘結劑的樹脂、付與防粘性或潤滑性的功能性添加劑、 填充劑、固化劑、溶劑等以調制用于形成耐熱潤滑層的（形成用的）涂布液，并且涂布、干燥 從而形成耐熱潤滑層40。
[0054] 該耐熱潤滑層（40)的干燥后的涂布量為0. 1 g/m2以上2. 0 g/m2以下左右是適當 的。此處，耐熱潤滑層（40)的干燥后的涂布量是指涂布耐熱潤滑層形成用涂布液、并干燥 后殘留的固體含量，后述的底涂層（20)的干燥后的涂布量以及染料層（30)的干燥后的涂 布量也同樣是指涂布涂布液并干燥后殘留的固體含量。
[0055] 若要列舉耐熱潤滑層的一個例子，則可以使用聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮 乙酰乙醛樹脂、聚酯樹脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚醚樹脂、聚丁二烯樹脂、丙烯酸酯 多元醇、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、硝化纖維素樹脂、 醋酸纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚酰胺酰亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂等。
[0056] 同樣地，作為功能性添加劑，可以使用：動物類蠟、植物類蠟等天然蠟；合成烴類 蠟、脂肪族醇和酸類蠟、脂肪酸酯和甘油類蠟、合成酮類蠟、胺以及酰胺類蠟、氯化烴類蠟、 α烯烴類蠟等合成蠟；硬脂酸丁酯、油酸乙酯等高級脂肪酸酯；硬脂酸鈉、硬脂酸鋅、硬脂 酸鈣、硬脂酸鉀、硬脂酸鎂等高級脂肪酸金屬鹽；長鏈烷基磷酸酯、聚氧化烯烷基芳基醚磷 酸酯或者聚氧化烯烷基醚磷酸酯等磷酸酯等表面活性劑，等。
[0057] 另外，作為填充劑，可使用滑石、二氧化硅、氧化鎂、氧化鋅、碳酸鈣、碳酸鎂、高嶺 土、粘土、有機硅顆粒、聚乙烯樹脂顆粒、聚丙烯樹脂顆粒、聚苯乙烯樹脂顆粒、聚甲基丙烯 酸甲酯樹脂顆粒、聚氨酯樹脂顆粒等。
[0058] 另外，作為固化劑，可使用甲苯二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、四甲基二甲 苯二異氰酸酯等異氰酸酯類及其衍生物。
[0059] 接下來，涂布含有水溶性高分子作為主成分的涂布液、并干燥從而形成底涂層 (20)。此外，需要23°C/50%下的平衡吸濕率為15%以下。這里，主成分是指：在不損害本 發明效果的前提下，除了所述水溶性高分子以外，還可以添加其他成分，并且從底涂層形成 時的整體來看,總計含有超過50質量％的所述水溶性高分子，更優選為80質量％以上。
[0060] 若要列舉底涂層中所用水溶性高分子的一個例子，則可列舉聚乙烯醇及其改性/ 共聚物、聚乙烯吡咯烷酮及其改性/共聚物、淀粉、明膠、甲基纖維素、乙基纖維素、羧甲基 纖維素等。
[0061] 其中，基材與染料層的粘接性較好并且可以獲得高印刷濃度的是聚乙烯醇及其改 性/共聚物、聚乙烯吡咯烷酮及其改性/共聚物。
[0062] 本發明中23°C /50%下底涂層的平衡吸濕率為15%以下、優選為13%以下是必要 的。平衡吸濕率為15%以下、優選為13%以下的話，則可以抑制與形成黑圖像時的黑色的 高濃度部相關的印刷品表面部分消光的圖像不良。發生消光的機理還不清楚，但據推測：如 果平衡吸濕率大于15%，底涂層中所含水分在印刷時氣化或膨脹，染料層與印刷品表面部 分地熔融結合，由此部分地產生了色調差，結果，印刷品表面部分地消光；或者，氣化或膨脹 的水分在印刷品表面形成微細的凹凸從而發生光散射，因此部分地消光。
[0063] 需要說明的是，對23°C /50%下的平衡吸濕率的下限值沒有特別限定，本發明的 23°C /50%下的平衡吸濕率的范圍是根據所用樹脂等而能夠選取的范圍，并且只要是高速 印刷時能夠獲得高印刷濃度的范圍即可。
[0064] 對于聚乙烯醇及其改性/共聚物而言，23°C /50 %下的平衡吸濕率為8?10%，對 于聚乙烯吡咯烷酮及其改性/共聚物而言為25?30%，對于羧甲基纖維素而言為30 %左 右，對于淀粉而言為10?16%，雖然優選使用聚乙烯醇及其改性/共聚物，但底涂層的平 衡吸濕率只要是15%以下、優選為13%以下即可，為了使平衡吸濕率為15%以下、優選為 13%以下，也可以任意混合聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮。
[0065] 需要說明的是，本發明所述平衡吸濕率為基于ISO標準的表示溫度23±1°C、濕度 50±2%RH下的樣品的吸濕度的指標，并且按以下方法測定。在底面直徑為5. 3 cm的鋁杯 中稱取約5 g的底涂層所用材料，并在105°C下干燥3小時。將其在23°C /50% RH的恒溫 恒濕器中放置至恒定質量，測定該質量（W)后，將其在105°C下干燥3小時并測定絕對干燥 質量（W0)，通過下式求出平衡吸濕率。
[0066] 平衡吸濕率（質量 ％ ) = {(W-WO) /WO} X 100
[0067] 作為聚乙烯醇，例如可列舉夕亍卜*。八一> PVA_235(夕亍卜公司制）、夕亍卜*。 八一卟PVA-117(夕亍卜公司制）、夕亍卜*。八一卟PVA-124(夕亍卜公司制）、5-七7 一>KH-20(日本合成化學公司制）、3 -七7->N-300(日本合成化學公司制）等聚乙 烯醇；含有乙酰乙酰基的、富于反應性的乙酰乙酰基化聚乙烯醇3''-七 7 7 ^ 7 - 2-200、 Z-320(日本合成化學公司制），或者聚乙醇的一部分醇基經縮醛改性后的水性聚乙烯醇縮 醛二7 b i夕KX系列（積水化學公司制）、二7 b i夕KW系列（積水化學公司制）等。
[0068] 作為聚乙烯吡咯烷酮，可列舉N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基-4-吡咯烷酮等 乙烯基吡咯烷酮的均聚合物（均聚物）或者它們的共聚物。此外，還可列舉改性聚乙烯吡 咯烷酮樹脂等。改性聚乙烯吡咯烷酮樹脂為N-乙烯基吡咯烷酮類單體與其他單體的共聚 物。需要說明的是，共聚方式可以是無規共聚、嵌段共聚、接枝共聚等，沒有特別限定。上 述N-乙烯基吡咯烷酮類單體是指N-乙烯基吡咯烷酮（N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯 基-4-吡咯烷酮等）及其衍生物，作為衍生物，例如可以列舉N-乙烯基-3-甲基吡咯烷酮、 N-乙烯基-5-甲基吡咯烷酮、N-乙烯基-3, 3, 5-三甲基吡咯烷酮、N-乙烯基-3-芐基吡咯 烷酮等在吡咯烷酮環上具有取代基的物質。
[0069] 關于與N-乙烯基吡咯烷酮類單體共聚的單體成分，可以列舉如下所述的乙烯基 聚合性單體。例如，可列舉（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、 (甲基）丙烯酸異丙酯等（甲基）丙烯酸類單體；富馬酸、馬來酸、衣康酸等不飽和羧酸；乙 烯、丙烯、氯乙烯、醋酸乙烯酯、乙烯醇、苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯基苯、偏二氯乙烯、四氟 乙烯、偏二氟乙烯等。
[0070] 底涂層（20)干燥后的涂布量并非一概限定，但優選為0. 05 g/m2以上0. 30 g/m2 以下的范圍內。不足0.05 g/m2時，由于染料層層壓時的底涂層劣化，高速印刷時的轉印靈 敏度不足，底涂層與基材或者染料層的粘合性存在問題令人擔憂。另一方面，超過0.30 g/ m2時，會影響熱敏轉印記錄介質自身的靈敏度使之降低，并且高速印刷時轉印靈敏度不足 令人擔憂。
[0071] 另外，在不損害前述性能的范圍內，可以在底涂層或底涂層形成涂布液中使用膠 體狀無機顏料超細顆粒、異氰酸酯化合物、硅烷偶聯劑、分散劑、粘度調節劑、穩定化劑等已 知的添加劑。
[0072] 需要說明的是，作為膠體狀無機顏料超細顆粒，可以列舉常規已知的物質，例如二 氧化硅（膠體二氧化硅）、氧化鋁或氧化鋁水合物（氧化鋁溶膠、膠體氧化鋁、陽離子性鋁氧 化物或其水合物、擬薄水鋁石等）、硅酸鋁、硅酸鎂、碳酸鎂、氧化鎂、氧化鈦等。
[0073] 接下來，染料層（30)可以對應于常規已知的結構，例如，可以配合熱轉移性染料、 粘結劑、溶劑等以制備染料層形成用涂布液，并且通過涂布、干燥來形成。適當的是，染料層 (30)干燥后的涂布量為1.0 g/m2左右。需要說明的是，染料層既可以由一種顏色的單層構 成，也可以是在同一基材的同一面上依次重復形成含有色調不同的染料的多個染料層。
[0074] 熱轉移性染料為通過熱而熔融、擴散或者升華轉移的染料。例如，作為黃色成分， 可列舉溶劑黃56、16、30、93、33;分散黃201、231、33等。作為品紅色成分，可列舉(：.1.分散 紫31、C. I.分散紅60、C. I.分散紫26、C. I.溶劑紅27或者C. I.溶劑紅19等。作為青色 成分，可列舉C. I.分散藍354、C. I.溶劑藍63、C. I.溶劑藍36、C. I.溶劑藍266、C. I.分 散藍257或者C.I.分散藍24等。作為黑色染料，一般而言，是將所述各染料組合調色而成 的。
[0075] 關于染料層（30)中所含樹脂，可以使用任意一種常規已知的樹脂粘結劑，沒有特 別限定，但可列舉乙基纖維素、羥乙基纖維素、乙基羥基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維 素、醋酸纖維素等纖維素類樹脂；或聚乙烯醇、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮 乙醛、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺等乙烯基類樹脂；或聚酯樹脂、苯乙烯-丙烯腈共聚樹 月旨、酌氧樹脂等。
[0076] 此處，優選的是，以質量基準計，染料層（30)的染料與樹脂的配比（染料V(樹 脂）=10/100?300/100。這是因為，（染料V (樹脂）的比率若小于10/100,則染料過 少顯影靈敏度變得不充分，不能獲得良好的熱轉印圖像；另外，若該比率超過300/100,則 染料相對于樹脂的溶解性極大地降低，因此在形成熱敏轉印記錄介質時，保存穩定性變差， 染料容易析出。另外，在不損害性能的范圍內，也可以在染料層中含有異氰酸酯化合物、硅 烷偶聯劑、分散劑、粘度調節劑、穩定化劑等已知的添加劑。
[0077] 需要說明的是，耐熱潤滑層（40)、底涂層（20)、染料層（30)中任意一者均可以通 過常規已知的涂布方法涂布、干燥來形成。若要列舉涂布方法的一個例子，則可列舉凹版印 刷法、絲網印刷法、噴涂法、逆向輥涂法。
[0078] 本發明的熱敏轉印記錄介質的制造方法為這樣的熱敏轉印記錄介質的制造方法： 該熱敏轉印記錄介質用于被轉印體的轉印側的至少一層由水性涂布液形成的被轉印體，并 且該熱敏轉印記錄介質具有：形成為膜狀或者片狀的基底、在該基底的兩面中的一者的基 底面上形成的耐熱潤滑層、在與該耐熱潤滑層相反側的基底面上形成的底涂層、以及在該 底涂層上形成的染料層，該制造方法的特征在于，在與所述耐熱潤滑層相反側的基底面上 涂布含有水溶性高分子作為主成分的底涂層形成液之后，對所述底涂層形成液進行干燥處 理，使得在溫度為23°C、濕度為50 %的條件下所述底涂層的平衡吸濕率成為15 %以下，優 選成為13%以下。
[0079] 此時優選的是，在與所述耐熱潤滑層相反側的基底面上涂布含有水溶性高分子作 為主成分的底涂層形成液使得該底涂層形成液干燥后的涂布量成為〇. 〇5g/m2以上0. 30g/ m2以下，然后對所述底涂層形成液進行干燥處理使得在溫度為23°C、濕度為50%的條件下 所述底涂層的平衡吸濕率成為13%以下。
[0080] 本發明的熱敏轉印記錄方法的特征在于，準備上述熱敏轉印記錄介質，通過熱使 所述染料層中所含染料升華從而轉印至圖2所示被轉印體上。
[0081] 實施例1
[0082] 以下示出本發明的各實施例以及各比較例中所用材料。需要說明的是，除非另有 說明，文中"份"為質量基準。另外，本發明并不限于實施例。
[0083] 〈具有耐熱潤滑層的基材的制備〉
[0084] 將4. 5 μ m的單面易粘接處理過的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜用作基材，通過凹版 涂布法在其沒有經過易粘接處理面上涂布下面組成的耐熱潤滑層涂布液-1使得干燥后的 涂布量為0. 5 g/m2,在100°C下干燥1分鐘，獲得具有耐熱潤滑層的基材。
[0085] 〈耐熱潤滑層涂布液_1>
[0086] 有機硅丙烯酸酯（東亞合成（株）US-350) 50. 0份
[0087] MEK 50. 0 份
[0088] (實施例1)
[0089] 通過凹版涂布法在具有耐熱潤滑層的基材的易粘接處理面上涂布下面組成的底 涂層涂布液-1使得干燥后的涂布量為0.20 g/m2,在100°C下干燥2分鐘，形成底涂層。接 著，通過凹版涂布法在該底涂層上涂布下面組成的染料層涂布液-1使得干燥后的涂布量 為0. 70 g/m2,在90°C下干燥1分鐘，形成染料層，并獲得實施例1的熱敏轉印記錄介質。在 實施例1中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α和β為α = ο. 057、β = 0. 072。 此時，23°C /50%下底涂層的平衡吸濕率為8%。
[0090] 〈底涂層涂布液_1>
[0091] 聚乙烯醇5. 00份
[0092] 純水 57. 0 份
[0093] 異丙醇 38. 0份
[0094] 〈染料層涂布液〉
[0095] C.I.溶劑藍63 6.0份 聚乙烯醇縮乙醛樹脂 4,0份 甲苯 45.0份 中乙_ 45.0份
[0096](實施例2)
[0097] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中的底涂層變為下述組成的底涂層 涂布液-2以外，按照與實施例1同樣的方式獲得實施例2的熱敏轉印記錄介質。在實施例 2中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α和β為α = 〇. 058、β = 0. 068。此 時，23°C /50 %下底涂層的平衡吸濕率為14%。
[0098] 〈底涂層涂布液_2>
[0099] 聚乙烯醇 3.00份 聚乙烯吡咯烷_ 2.00份 純水 57.0份 材.內醇 38.0份
[0100] (實施例3)
[0101] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中，涂布底涂層使得干燥后的涂布量 為0. 03 g/m2、并干燥以外，按照與實施例1同樣的方式獲得實施例3的熱敏轉印記錄介質。 在實施例3中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 060、β = 0·070。
[0102] (實施例4)
[0103] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中，涂布底涂層使得干燥后的涂布量 為0. 35 g/m2、并干燥以外，按照與實施例1同樣的方式獲得實施例4的熱敏轉印記錄介質。 在實施例4中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 058、β = 0. 077〇
[0104] (實施例5)
[0105] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質1中的耐熱潤滑層40變為耐熱潤滑 層涂布液-2以外，按照與實施例1同樣的方式獲得實施例5的熱敏轉印記錄介質。在實施 例5中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 175、β = 0. 265。
[0106] 〈耐熱潤滑層涂布液_2>
[0107] W烯酸賭多元醇樹脂（固體含Λ 50%) 20份 磷酸痛熔點15°C 1.5份 磷?β?熔點7(TC 1.5份 硬脂?鋅熔點115~125°C 2份 滑石粒徑！.Ofim 1份 滑石粒徑2.5 μιτι 1份 2,6-甲苯二異MS--預聚物 5份 甲苯 49.5汾 Ψ乙*! 20份 乙酸乙_ 5份
[0108] (實施例6)
[0109] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質1中的耐熱潤滑層40變為耐熱潤滑 層涂布液-3以外，按照與實施例1同樣的方式獲得實施例6的熱敏轉印記錄介質。在實施 例6中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 386、β = 0. 673。
[0110] 〈耐熱潤滑層涂布液-3>
[0111] W烯酸If多兒? W脂（固體#貝50%) 20 '份
[0112] 鱗酸Si烙點15*€ 2份 磷酸_熔點7(TC 2份 硬脂酸鋅熔點115?125°C 2份 滑石粒徑2,5 μπι 3份 滑粒徑3,5μηι 5份 2,6-甲苯.........:異Μ酸酯預聚物 5份 甲苯 46份 甲乙_ 20份 乙酸乙ft 5份
[0113] (比較例1)
[0114] 不在具有耐熱潤滑層的基材的易粘接處理面上形成底涂層，而是通過凹版涂布法 在易粘接處理面上涂布與實施例1相同的染料層涂布液使得干燥后的涂布量為〇. 70 g/m2， 在90°C下干燥1分鐘形成染料層，并獲得比較例1的熱敏轉印記錄介質。在比較例1中，耐 熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 063、β = 0. 078。
[0115] (比較例2)
[0116] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中的底涂層變為下述組成的底涂層 涂布液-3以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例2的熱敏轉印記錄介質。在比較例 2中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 060、β = 0. 068。此 時，23°C /50 %下底涂層的平衡吸濕率為30%。
[0117] 〈底涂層涂布液_3>
[0118] 聚乙烯吡咯烷酮5. 00份
[0119] 純水 57.0 份
[0120] 異丙醇 38.0份
[0121] (比較例3)
[0122] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中的底涂層變為下述組成的底涂層 涂布液-4以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例3的熱敏轉印記錄介質。
[0123] 在比較例3中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 063、 β = 0.074。此時，23°C/50%下底涂層的平衡吸濕率為20%。
[0124] 〈底涂層涂布液_4>
[0125] 聚乙爆售 1.50份 聚乙烯吡略烷_ 3.50份 純水 57.0份 異丙醇 38,0份
[0126] (比較例4)
[0127] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中的底涂層變為下述組成的底涂層 涂布液-5以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例4的熱敏轉印記錄介質。在比較例 4中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 062、β = 0. 075。此 時，23°C /50 %下底涂層的平衡吸濕率為30%。
[0128] 〈底涂層涂布液_5>
[0129] 羧甲基纖維素 5. 00份
[0130] 純水 57. 0 份
[0131] 異丙醇 38. 0份
[0132] (比較例5)
[0133] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質中的底涂層變為下述組成的底涂層 涂布液-6以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例5的熱敏轉印記錄介質。在比較 例5中，在溫度為23°C并且濕度為50%的條件下底涂層20的平衡吸濕率為3%。此時， 23°C /50%下底涂層的平衡吸濕率為3%。
[0134] 〈底涂層涂布液_6>
[0135] 聚酰胺彈性體 5. 00份
[0136] 純水 57. 0 份
[0137] 異丙醇 38. 0份
[0138] (比較例6)
[0139] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質1中的耐熱潤滑層40變為耐熱潤滑 層涂布液-4以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例6的熱敏轉印記錄介質。在比較 例6中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 462、β = 0. 544。
[0140] 〈耐熱潤滑層涂布液_4>
[0141] 內烯酸?多元醇樹脂（固體含尕50%) 20份 磷》ft 熔點15? 2份 磷酸酯熔點70°C 2份 硬脂酸鋅熔點115-1251： 2份 滑石粒較3·5 μιη 2份 滑石粒徑5 μιη 3.5份 2,6-φ笨limn:異Ε酸酯預聚物 5份 甲氺 46份 ΦΔ? 20 份 乙酸乙酷 5份
[0142] (比較例7)
[0143] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質1中的耐熱潤滑層40變為耐熱潤滑 層涂布液-5以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例7的熱敏轉印記錄介質。在比較 例7中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 033、β = 0. 045。
[0144] 〈耐熱潤滑層涂布液_5>
[0145] 有機硅丙烯酸酯30.0份
[0146] ΜΕΚ 70.0 份
[0147] (比較例8)
[0148] 除了將在實施例1制備的熱敏轉印記錄介質1中的耐熱潤滑層40變為耐熱潤滑 層涂布液-6以外，按照與實施例1同樣的方式獲得比較例8的熱敏轉印記錄介質。在比較 例8中，耐熱潤滑層40的均方根偏差Sq的平均值α以及β為α = 〇. 164、β = 0. 513。
[0149] 〈耐熱潤滑層涂布液_6>
[0150] 聚乙烯樹脂（同體it +Φ_: 50%) 15份 磷酸1?熔點15t: 1.5份 磷酸酷懷點7 0 °C 1.5份 硬脂酸鋅熔點115?125 Γ 2份 沿心' 粒社丨.Ομηι 1份 滑彳I粒抒2.5μηι 1份 Φ苯 49.5份 甲乙SI 20份 乙酸乙_ 5份
[0151] 〈被轉印體的制備〉
[0152] 將188 μ m的白色發泡聚對苯二甲酸乙二醇酯膜用作基材，通過凹版涂布法在其 一側面上涂布下面組成的圖像接收層涂布液并干燥使得干燥后的涂布量為5. 0 g/m2,由此 制備熱敏轉印用被轉印體。
[0153] 〈圖像接收層涂布液〉
[0154] 氣乙烯-醋酸乙烯酯-乙烯醇共聚物19.5份 氨基改性硅油 0.5份 甲苯 40,0份 Φ乙W 40,0份
[0155] 〈印刷評價〉
[0156] 使用實施例1?6、比較例1?8的熱敏轉印記錄介質，通過熱模擬器進行印刷，對 低濃度部以及最高反射濃度進行評價的結果在表1中示出。需要說明的是，最高反射濃度 為通過X-Rite528對印刷品表面上未確認到消光的印刷部進行測定而得的值。低濃度部為 將作為最高反射濃度的255色調分為11級后的23?46色調的反射濃度的測定結果。需 要說明的是，反射濃度為通過X_Rite528測定的值。
[0157] 此外，印刷條件如下。
[0158] 印刷環境：23°C/50% RH
[0159] 線周期：0· 7 msec
[0160] 印刷密度：主掃描300 dpi副掃描300 dpi
[0161] 〈異常轉印評價〉
[0162] 按照以下基準進行異常轉印的評價。Λ〇以上為實用上沒有問題的水平。
[0163] 〇：未識別出向被轉印體的異常轉印
[0164] Λ〇：非常輕微地識別出向被轉印體的異常轉印
[0165] Λ :輕微地識別出向被轉印體的異常轉印
[0166] X :在整個表面上識別出向被轉印體的異常轉印
[0167] 〈印刷品表面評價〉
[0168] 另外，按照以下基準進行印刷品表面的消光評價。
[0169] 〇：未識別出消光
[0170] Λ :部分地識別出消光
[0171] X :清楚地識別出消光
[0172]

【權利要求】
1. 一種熱敏轉印記錄介質，具有基材、在該基材的一側面上形成的耐熱潤滑層、在所述 基材的另一側面上形成的底涂層、以及在該底涂層的與所述基材相對的面的相反面上形成 的染料層， 其特征在于，所述底涂層中含有水溶性高分子作為主成分，并且在溫度為23°C且濕度 為50%的條件下的平衡吸濕率為15%以下。
2. 根據權利要求1所述的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，在溫度為23°C、濕度為50% 的條件下所述底涂層的平衡吸濕率為13%以下。
3. 根據權利要求1或2所述的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，所述耐熱潤滑層的表面 粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值α為〇. 05?0. 40 μ m，并且在150°C、10分鐘的條件下 靜置后的所述耐熱潤滑層的表面粗糙度（均方根偏差Sq)的平均值β為0. 00?0. 70 μ m， 所述平均值α與所述平均值β的差為0. 00?0. 30 μ m。
4. 根據權利要求1?3中任意一項所述的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，所述底涂層 干燥后的涂布量為〇. 05?0. 30 g/m2。
5. 根據權利要求1?4中任意一項所述的熱敏轉印記錄介質，其特征在于，所述被轉印 體的轉印側的至少一層由水性涂布液形成。
6. -種熱敏轉印記錄介質的制造方法，該熱敏轉印記錄介質用于被轉印體，該被轉印 體的轉印側的至少一層由水性涂布液形成，并且該熱敏轉印記錄介質具有形成為膜狀或者 片狀的基底、在該基底的兩面中的一側的基底面上形成的耐熱潤滑層、在與該耐熱潤滑層 相反側的基底面上形成的底涂層、以及在該底涂層上形成的染料層， 該制造方法的特征在于，在與所述耐熱潤滑層相反側的基底面上涂布含有水溶性高 分子作為主成分的底涂層形成液之后，對所述底涂層形成液進行干燥處理，使得在溫度為 23°C、濕度為50%的條件下所述底涂層的平衡吸濕率成為15%以下。
7. 根據權利要求6所述的熱敏轉印記錄介質的制造方法，其特征在于，對所述底涂層 形成液進行干燥處理，使得在溫度為23°C、濕度為50%的條件下所述底涂層的平衡吸濕率 為13%以下。
8. 根據權利要求6或7所述的熱敏轉印記錄介質的制造方法，其特征在于，在與所述耐 熱潤滑層相反側的基底面上涂布含有水溶性高分子作為主成分的底涂層形成液使得該底 涂層形成液干燥后的涂布量成為〇. 〇5g/m2以上0. 30g/m2以下，然后對所述底涂層形成液進 行干燥處理。
9. 一種熱敏轉印記錄方法，其特征在于，準備權利要求1?5中任意一項所述的熱敏轉 印記錄介質，通過熱使所述染料層中所含染料升華從而轉印至被轉印體。
【文檔編號】B41M5/42GK104105603SQ201380008108
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年1月29日 優先權日:2012年2月10日
【發明者】福永悟大, 大和丈仁, 杉下康雄, 平井瑤子 申請人:凸版印刷株式會社