用于將液體直接地施涂至基材的設備的制作方法

用于將液體直接地施涂至基材的設備的制作方法
【專利摘要】在此描述了用于將液體直接地涂覆至基材上的設備和方法。更具體地，描述了一種用于將液體直接地涂覆至基材上的如下的設備和方法，在該設備和該方法中，可編程的橫動分配頭便于在尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度方面受控地分配液體濕材料。
【專利說明】用于將液體直接地施涂至基材的設備

【技術領域】
[0001]本發明涉及用于將液體直接地涂覆至基材上的設備和方法。更具體地，本發明涉及將液體直接地涂覆至基材上的如下的設備和方法，在該設備和該方法中，可編程的橫動分配頭便于在尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度方面受控地分配液體濕材料。
技術背景
[0002]存在許多先前已知的涂覆技術，但是這些技術都存在許多缺點，比如，敞開的管道使得液體材料在沉積之前就被污染。此外，以前的涂覆技術包括在其整個寬度上涂覆有液體的棒或棍——意味著其不能控制被涂覆的區域的尺寸。先前的涂覆技術也遭受液體在沉積之前被灰塵污染或暴露至光和周圍大氣。先前的涂覆技術的另一缺點是其存在液體溢出的明顯問題，其中，液體在被涂覆的基材的邊緣上溢出。
[0003]本發明的至少一個方面的目的是消除或緩解上述問題中的至少一個或多個問題。
[0004]本發明的至少一個方面的另一目的是提供一種用于將液體直接地涂覆至基材上的經改進的設備。
[0005]本發明的至少一個方面的又一目的是提供一種用于將液體直接地涂覆至基材上的經改進的方法。


【發明內容】

[0006]根據本發明的第一方面，提供了用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，所述設備包括:
[0007]傳送裝置，該傳送裝置能夠將基材傳送至如下的裝置，該裝置能夠將液體濕材料直接地涂覆至基材的表面上從而形成液體濕材料膜；
[0008]感測系統，該感測系統能夠測定要被涂覆液體濕材料的區域；以及
[0009]將具有液體濕材料膜的基材傳送至能夠使基材上的液體濕材料干燥的干燥裝置。
[0010]總體上來說，本發明在于提供了能夠通過使用可編程的橫動分配頭將液體濕材料的薄涂層直接地施涂至基材上的設備和方法。可編程的橫動分配頭便于在尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度方面以受控方式分配液體濕材料，本發明的設備也適用于涂覆片材或者適用于卷到卷的施涂。
[0011]液體濕材料優選地是透明的，但在替代性實施方式中液體濕材料可以是有顏色的，例如藍色。
[0012]通過直接地涂覆(即，沉積)是指僅供給和使用涂覆基材所需的量。因此，不使用過量的液體濕材料。現有技術系統使液體濕材料流體再循環，該液體濕材料流體某些時候暴露于大氣。相反，在本發明中的直接沉積確保了液體濕材料處于封閉的循環系統中，該液體濕材料除了在沉積點處之外絕不會暴露于大氣。由于本發明的系統處于完全封閉的環境中，因此在本發明中也沒有灰塵或氧化問題。
[0013]基材可以以單獨的片材提供或替代性地可以以連續卷材的形式供給，并且然后可選地在被液體濕材料涂覆和成像之后卷繞回卷的形式。
[0014]本發明的感測系統可以是可編程的，這使得液體濕材料能夠精確地沉積。這使得本發明能夠防止流體溢出被涂覆的基材的邊緣。本發明的感測系統使得液體沉積的尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度能夠調節并且適于一系列不同需求。例如，液體濕材料可以在從IcmX Icm至3mX6m的尺寸范圍內沉積。
[0015]感測系統可以是可編程的，因此使得能夠受控地分配液體濕材料。本發明的感測系統適用于涂覆片材或適用于卷到卷的施涂。
[0016]能夠使液體濕材料沉積的裝置可包括位于分配系統的兩側上的涂覆頭傳感器。涂覆頭傳感器可以確定要被涂覆的基材的邊緣的位置并且限制涂覆頭的分配時間以確保涂覆液體僅分配在要被涂覆的材料的邊界內。分配系統也可以包括液體分配尖端，該液體分配尖端能夠以受控方式分配液體。因此，該過程可以使用麥耶棒(Meyer bar)方法或使用用于涂覆液體濕材料的輥。因此，本發明的設備將以片材形式被涂覆的基材支承在由任何適合的材料比如膜、紙或任何其他材料制成的移動式傳送帶上。替代性地，該設備可基于卷到卷的原理操作，使得形成傳送帶的材料可重新卷繞和重新使用。該設備可以通過使用包括分配頭的涂覆頭結構供給液體濕材料，該分配頭可橫跨涂覆棒的兩端行進。分配頭可由氣動裝置、電動裝置或氣動裝置和電動裝置兩者致動并且將預先計算的一滴涂覆液體分配至例如基材與涂覆棒之間的切點上。替代性地，在反向輥動作與輥或麥耶棒一起使用的情況下，該滴涂覆液體可分配在切點后面。涂覆頭結構也可以檢測基材的端部并且因此停止液體濕材料的分配。
[0017]在替代性實施方式中，能夠使液體濕材料直接沉積的裝置包括一組施涂輥、一組閥或者兩者的組合。施涂輥或閥可以取決于需要將液體濕材料豎向沉積在基材上還是水平沉積在基材上而彼此大致豎向地或水平地定位。該裝置也可以包括能夠將液體濕材料給送至壓力調節器的泵。還存在液體分配尖端，該液體分配尖端可以是靜止的或可以沿施涂輥或閥橫動。因此，取決于施涂輥或閥的定向，該裝置可以將液體濕材料豎向地或水平地施涂至位于施涂輥或閥之間的基材上。
[0018]被傳送的基材的速度可以由計算機控制。計算機控制也可擴展至控制被沉積的液體濕材料的尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度。
[0019]基材可以是任何適合的基材。在特定的實施方式中，基材可以是卷筒紙并且可以例如包括由塑料材料、比如聚酯(例如，Melinex-商標)、聚酰亞胺(例如，Kapton-商標)和聚碳酸酯(例如，Lexan-商標)制成的介電層或非金屬層(例如，膜)。基材可以是柔性的，以允許進行卷到卷的工藝。塑料材料的頂部上可存在另一層，該另一層可以是覆層的形式。該覆層可由導電材料、比如銅、銀、金、氧化銦錫(ITO)、聚乙撐二氧噻吩(PEDOTT)等制成。在基材以單獨的片材形式供給的實施方式中，通過使用傳送材料(例如，為帶的形式的傳送帶)將基材傳送至能夠使液體濕材料沉積至基材上的裝置以及干燥裝置。傳送材料能夠將基材從設備的一側傳送至另一側。傳送設備可以包括支承輥和清潔輥。傳送設備還可以包括收卷輥和驅動輥，傳送材料可以在驅動輥上被驅動。因此，隨著驅動輥旋轉，傳送材料可從初始輥轉動、在支承輥之上轉動、并且然后沿設備的長度轉動、在驅動輥之上轉動并且轉動至收卷輥上。因此，基材可以在傳送材料上從設備的一側被傳送至另一側，從而允許液體濕材料的沉積。
[0020]在替代性實施方式中，基材可以以卷材的形式而不是以片材的形式供給，因此形成卷到卷的工藝。卷繞的基材可首先在支承輥與清潔輥之間行進。清潔輥用來清潔卷繞的基材的展開部分的表面。粘附輥從清潔輥移除碎屑和/或污染物。然后，經清潔的基材行進至涂覆頭。
[0021]為片材形式和卷材形式的基材都可以在支承輥與清潔輥之間給送并給送通過支承輥和清潔輥。支承輥可以呈大致圓筒形并且可以由任何適合的塑料/復合材料/金屬材料制成。清潔輥也可以呈大致圓筒形并且由能夠從要被清潔的基材移除碎屑和/或污染物的任何適合的橡膠或彈性體類型的材料制成。
[0022]清潔輥通常具有對于污染顆粒比粘附輥低的表面能。這意味著污染顆粒可以與清潔輥的表面形成暫時的結合，并且然后可以轉移至壓靠清潔輥且抵著清潔輥旋轉的粘附輥。粘附輥從清潔輥移除碎屑和/或污染物，該清潔輥用來清潔例如在表面必須極其潔凈的電子元件、太陽能光電板和平板顯示器的制造中使用的基材表面。粘附輥因此將清潔輥的表面清潔以改進該過程。粘附輥可以是片狀的，這意味著一旦片狀粘附輥的性能降低，就可以移除用過的片材，從而露出新的片狀的膠附表面。
[0023]當為片材形式和卷材形式的基材都在支承輥與清潔輥之間被給送時，意在使液體濕材料沉積在其上的表面因此可以被清潔。
[0024]當片材在傳送材料上傳送的實施方式中，片材可在涂覆棒下方行進，當片材在涂覆棒下方行進時，該涂覆棒可完全地橫跨傳送材料和片材延伸。涂覆棒能夠直接地施涂液體濕材料。能夠使液體濕材料沉積的該裝置因此可被視作涂覆設備。涂覆設備也可以包括涂覆頭，該涂覆頭可以位于涂覆頭橫動驅動器上。在基材為卷材形式的實施方式中，卷材的展開部分也在涂覆棒下方行進。
[0025]液體濕材料可由100 %的固體組成而不含溶劑。替代性地,液體濕材料可以包括少于I %的溶劑、少于5%的溶劑、少于10%的溶劑或少于50%的溶劑。該溶劑可以是水或適合的有機液體，例如乙酸乙酯。
[0026]通常，液體材料可以以根據下列中的任一者的厚度沉積:小于或等于大約150 μ m ;小于或等于大約125 μ m ;小于或等于大約100 μ m ;小于或等于大約75 μ m ;小于或等于大約50 μ m ;小于或等于大約25 μ m ;小于或等于大約10 μ m ;小于或等于大約5 μ m ;小于或等于大約Iym;小于或等于大約0.5μπι或小于或等于大約0.1 μπι。替代性地，液體濕材料可以在下列范圍中的任一范圍內變動的厚度沉積:大約177 μ m至大約0.Ιμπι;大約125 μ m至大約0.1 μ m ;大約100 μ m至大約0.1 μ m ;大約75 μ m至大約0.1 μ m ;大約50 μ m至大約0.1 μ m ;大約25 μ m至大約0.1 μ m或大約10 μ m至大約0.1 μ m。優選地,液體濕材料可以具有大約4-5微米的厚度。
[0027]通過使用薄的液膜，允許低強度輻射(例如，UV光)或任何其他適合的干燥方法便于更快地干燥。
[0028]在基材已經涂覆有濕的液體材料之后，為片材形式的經涂覆的基材然后可由傳送材料傳送至干燥裝置。干燥裝置可以是任何合適的干燥裝置，比如UV輻射源(例如，一系列UV燈、LED、激光等)、IR輻射源或任何其他能源、比如熱源或熱空氣。
[0029]本發明中描述的設備可以完全容納在自足式小型清潔空間中，其因此提供了在涂覆過程中顯著的成本節約，這是因為該過程不需要在大的昂貴的清潔的空間中執行。
[0030]根據本發明的第二方面，提供了一種用于將液體直接地涂覆至基材上的方法，所述方法包括:
[0031]提供傳送裝置，該傳送裝置能夠將基材傳送至如下裝置，該裝置能夠將液體濕材料直接地涂覆在基材的表面上從而形成液體濕材料膜；
[0032]提供感測系統，該感測系統能夠測定要被涂覆液體濕材料的區域；以及
[0033]將具有液體濕材料膜的基材傳送至能夠使基材上的液體濕材料干燥的干燥裝置。
[0034]該方法可以使用如在第一方面中限定的設備。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]現在將參照附圖僅通過示例的方式對本發明的實施方式進行描述，在附圖中:
[0036]圖1為根據本發明的實施方式的能夠將液體濕材料施涂至片材的設備的示意圖；
[0037]圖2為在圖1中所示的設備中使用的涂覆頭結構的放大圖；
[0038]圖3為圖2中所示的涂覆頭結構中的涂覆棒的放大圖；
[0039]圖4為根據本發明的另一實施方式的能夠將液體濕材料施涂至輥的設備的示意圖；
[0040]圖5為在圖4中所示的設備中使用的涂覆頭的放大圖；
[0041]圖6為根據本發明的實施方式的、能夠通過使用豎向的輥涂覆液體定量給料系統將液體濕材料施涂至片材的另一設備的示意圖；以及
[0042]圖7為根據本發明的實施方式的、能夠通過使用水平的輥涂覆液體定量給料系統將液體濕材料施涂至片材的另一設備的示意圖。

【具體實施方式】
[0043]總體上來說，本發明在于提供了能夠通過使用涂覆棒或輥將薄涂層的液體濕材料施涂至基材上的設備和方法，該薄涂層的液體濕材料能夠光致成像或用作保護涂層。
[0044]圖1表示了根據本發明的總體上由100標示的設備。設備100能夠將薄層的液體濕材料施涂至片材112(即，基材)。朝向設備100的底部定位有傳送材料110的輥114，該傳送材料110用于將片材112從設備100的一端輸送至設備100的另一端，即從設備的右手側輸送至左手側。如圖1中所示，傳送材料I1在支承輥116與清潔輥118之間轉動。支承輥116與清潔輥彼此壓靠。支承輥116呈大致圓筒形形狀并且由任何適合的塑料材料/復合材料/金屬材料制成。清潔輥118也呈大致圓筒形形狀并且由能夠從待清潔的片材112表面移除碎屑和/或污染物的任何適合的橡膠或彈性類型的材料制成。圖中也示出了位于清潔輥118上方且壓靠清潔輥118的粘附輥120。清潔輥118通常具有對于污染顆粒比粘附輥120低的表面能。這意味著污染顆粒可以形成與清潔輥118表面的暫時性結合并且可以隨后在旋轉期間被轉移至粘附輥120。因此，粘附輥120從用于清潔片材112表面的清潔輥118移除碎屑和/或污染物，片材112可以在例如表面必須極其潔凈的電子器件、太陽能光電板和平板顯示器的制造中使用。粘附輥120可以是片狀的，這意味著一旦片狀粘附輥120的性能降低，就可以移除用過的片，從而露出其下面的新的片狀粘附表面。
[0045]圖1還示出了在支承輥116與清潔輥118之間給送的片材112。如以上所討論的，當片材112在支承輥116與清潔輥118之間給送時，片材112的意于在其上沉積液體濕材料的表面被清潔。
[0046]圖1還示出了從設備100的左手側被驅動至右手側的移動式傳送帶110。在設備100的右手側存在有收卷輥134和驅動輥132。因此，隨著驅動輥132旋轉，傳送材料110從輥114轉動、在支承輥116之上轉動、并沿著設備100的長度轉動、在驅動輥132之上轉動并且轉動至收卷輥134上。因此，片材112在傳送材料110上從設備100的一側傳送至另一側，從而允許發生液體濕材料的沉積以及之后的干燥。因此，液體濕材料可以使用例如來自干燥裝置130的輻射來干燥。應注意的是，可以使用任何類型的干燥。
[0047]隨著片材110在傳送材料110上傳送，片材112在支承輥126之上行進并且在涂覆棒128下方行進，涂覆棒128橫跨傳送材料110和片材112延伸。還示出了位于涂覆頭橫動驅動器124上的涂覆頭結構122。
[0048]雖然未示出，但是設備100還包括傳感器，該傳感器檢測片材112何時接近清潔輥118、所傳送的片材112的速度和片材何時接近涂覆棒128。因此，該系統是完全可控的，從而允許該系統追蹤片材112的位置。
[0049]圖2為涂覆頭結構122的放大圖并且示出了位于分配系統152的兩側上的涂覆頭傳感器150。涂覆頭傳感器的操作是可編程的，由此使得能夠小心地控制所沉積的液體濕材料的位置、尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度。
[0050]涂覆頭傳感器150確定要被涂覆的片材112的邊緣的位置并且限制涂覆頭結構122的行進，以確保涂覆液體僅分配在要被涂覆的材料的邊界內。因此，涂覆頭結構122精確地分配涂覆液體從而減少暴露的液體體積并且也減少了浪費。分配系統152包括以受控方式分配液體的液體分配尖端154。因此，該過程使用麥耶棒方法用于在固化前涂覆液體濕材料。通常，麥耶棒在涂覆流體浴中轉動并且將很有可能具有刮片等以調整涂層的厚度。為了克服現有技術中發現的上述問題，本發明的設備100將以片材形式被涂覆的片材112支承在由例如膜、紙或其他材料制成的移動式傳送帶110上。其基于卷到卷的原理，使得形成傳送帶110的材料可以重新纏繞和重新使用。這相比具有更多維護問題的連續帶具有優勢。傳送帶110支承片材112正好貫穿該過程并且避免了任何碎屑的積聚。
[0051]圖3示出了分配尖端154鄰近涂覆棒128行進，從而以連續均勻的方式沉積液體濕材料。分配尖端154具有端部156，該端部156能夠將液體濕材料沉積至涂覆棒128與基材112接觸的切點127前面的區域158中。分配尖端154可通過氣動裝置、電動裝置或氣動裝置和電動裝置兩者致動(未示出)并且能夠分配預先計算的一滴涂覆液體158。然后，流體與涂覆棒128的前面160接觸并且遇到要被涂覆的片材112。這確保了在施涂點處總是存在足以確保片材112上平滑且連續涂層的彎月形的液體濕材料。涂覆頭結構112也檢測片材112的端部，并且因此能夠停止液體濕材料的分配。該基材例如涂覆有具有大約4-5微米厚度的液體濕材料層。
[0052]圖3還示出了支承輥126，該支承輥126優選地與涂覆棒128平行，即，支承輥126與涂覆棒128彼此對準。
[0053]存在與本發明的設備100相關聯的多個優點。例如，昂貴的涂覆液體的浪費非常少。另外，使用的流體僅施涂至涂覆棒128并且暴露于大氣是非常短暫的，這是因為使用的流體僅施涂在施涂點處。此外，耗費的流體不再重新循環或返回至散裝儲存容器。
[0054]在片材112被液體濕材料涂覆后，經涂覆的片材112隨后由傳送材料110傳送至干燥源130(例如，成組的UV燈)。然后，經干燥的片材112被收集并被移除用于進行另外加工。
[0055]圖4示出了與設備100非常類似的設備200。主要不同之處在于，在設備200中，以液體濕材料涂覆的基材214為卷材的形式而不是片材的形式。卷繞的基材214在支承輥216與清潔輥218之間行進。支承輥216和清潔輥218彼此壓靠。清潔輥218用于清潔卷繞的基材214的表面。粘附輥220以與如上所述的方式類似的方式從清潔輥218移除碎屑和/或污染物。然后，經清潔的基材214的展開的部分行進至位于涂覆頭橫動驅動器224上的涂覆頭222。與以上描述類似，涂覆頭222移動越過支承輥226并且移動至涂覆棒228下方，從而沉積預先計算的一滴涂覆液體。也存在干燥裝置230、驅動輥232和收卷輥234。
[0056]圖5為涂覆頭結構222的放大圖并且示出了位于分配系統252的兩側上的涂覆頭傳感器250。
[0057]然后，經涂覆的基材行進至干燥源230 (例如，成組的UV燈)。設備200也執行卷到卷的連續工藝，使得固化的經涂覆基材214卷繞至收卷輥234上。
[0058]圖6為能夠通過使用豎向的輥涂覆液體定量給料系統將液體濕材料豎向地施涂至片材的設備300。設備300包括首先沿出口 312將液體濕材料給送至泵314的濕液體儲集器310。然后，泵314將液體濕材料給送至壓力調節器316。壓力調節器316緩和來自泵314的任何脈動。然后，液體濕材料在導管318、320之間被分離至相應的兩位分流閥322、324，該兩位分流閥322、324然后將液體濕材料給送至流量調節器326、328。然后，流量調節器326、328將液體濕材料給送至液體分配尖端330、332，該液體分配尖端330、332然后將液體濕材料分別地給送至施涂輥338、340上。刮刀輥334、336控制給送的速率。施涂輥338、340大致上彼此水平地定位。流量調節器326、328也可以通過使用通道342、344將流體引導返回至液體儲集器。液體分配尖端330、332可以是靜止的或可以沿施涂輥338、340橫動。施涂輥338、340能夠將液體濕材料豎向地施涂至位于施涂輥338、340之間的基材。
[0059]圖7為能夠通過使用水平的輥涂覆液體定量給料系統將液體濕材料水平地施涂至片材的設備400的視圖。設備400包括首先沿出口 412將液體濕材料給送至泵414的濕液體儲集器410。然后，泵414將液體濕材料給送至壓力調節器416。壓力調節器416緩和來自泵414的任何脈動。然后，液體濕材料在導管418、420之間被分離至相應的兩位分流閥422、424，該兩位分流閥422、424然后將液體濕材料給送至流量調節器426、428。然后，流量調節器426、428將液體濕材料給送至液體分配尖端430、432，該液體分配尖端430、432然后將液體濕材料分別地給送至施涂輥438、440上。刮刀輥434、436控制給送的速率。施涂輥438、440大致上彼此豎向地定位。流量調節器426、428也可以通過使用通道442、444將流體引導返回至液體儲集器。液體分配尖端430、432可以是靜止的或可以沿施涂輥438、440橫動。施涂輥438、440能夠將液體濕材料水平地施涂至位于施涂輥438、440之間的基材。
[0060]液體濕材料可以施涂至任何適合的基材，比如可以為層壓形式的膜。
[0061]如本發明中所描述的設備也可以完全地容納在自足式小型清潔空間中，因此該設備在干燥的過程中提供顯著的成本節約。
[0062]盡管以上描述了本發明的【具體實施方式】，但是應理解的是，與描述的實施方式的偏離仍然可能落入本發明的范圍內。例如，可以形成任何適合類型的可成像的基材。此外，可以使用任何適合的液體濕材料或其組合。干燥裝置可以使用能夠使液體濕材料固化/干燥的任何形式的干燥。
【權利要求】
1.一種用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，所述設備包括: 傳送裝置，所述傳送裝置能夠將基材傳送至如下裝置，該裝置能夠將液體濕材料直接地涂覆至基材的表面上從而形成液體濕材料膜； 感測系統，所述感測系統能夠測定要被涂覆所述液體濕材料的區域；以及 將具有所述液體濕材料膜的所述基材傳送至能夠使所述基材上的所述液體濕材料干燥的干燥裝置。
2.根據權利要求1所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，可編程的橫動分配頭便于在尺寸、形狀、位置、數量、寬度和/或長度方面受控地分配所述液體濕材料。
3.根據權利要求1或2中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，通過使所述液體濕材料直接地沉積是指僅供給用于涂覆所述基材所需的量。
4.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，能夠使液體濕材料沉積的裝置包括涂覆頭，所述涂覆頭位于涂覆頭橫動驅動器上，并且所述涂覆頭使液體濕材料沉積。
5.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接涂覆至基材上的設備，其中，所述能夠使液體濕材料沉積的裝置還包括涂覆頭傳感器，所述涂覆頭傳感器能夠確定要被涂覆的所述基材的邊緣的位置并且限制所述分配頭的動作，以確保所述涂覆液體僅分配在要被涂覆的所述材料的邊界內。
6.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述能夠使液體濕材料沉積的裝置還包括液體分配尖端，所述液體分配尖端能夠以受控的方式將液體分配在涂覆棒與所述基材接觸的切點的前面的區域中(例如通過使用麥耶棒方法)。
7.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述能夠使液體濕材料沉積的裝置還包括分配頭，所述分配頭橫跨所述涂覆棒的兩端行進，并且所述分配頭通過氣動裝置和/或電動裝置致動并且將預先計算的一滴涂覆液體分配至例如所述涂覆棒與所述基材接觸的切點上。
8.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述能夠使液體濕材料直接沉積的裝置還包括一組施涂輥，所述一組施涂輥取決于需要將液體濕材料豎向沉積在所述基材上還是水平沉積在所述基材上而彼此大致豎向地或水平地定位。
9.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述能夠使液體濕材料直接沉積的裝置還包括泵和兩通分流閥，所述泵能夠將液體濕材料給送至壓力調節器，所述兩通分流閥能夠將用于施涂至基材的所述液體濕材料引導返回至儲集器。
10.根據權利要求中8或9中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述能夠使液體濕材料直接沉積的裝置還包括液體分配尖端，所述液體分配尖端為靜止的或者沿所述施涂棍或所述涂覆棒橫動。
11.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述基材為單獨的片材(例如，層壓片材)的形式或者為卷材的形式。
12.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述干燥裝置為諸如UV輻射或IR輻射之類的輻射源或者諸如熱源或熱空氣之類的任何其他能量源。
13.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述傳送設備能夠將所述基材從所述設備的一側傳送至另一側。
14.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述傳送設備包括支承輥、清潔輥、收卷輥和驅動輥，所述傳送帶能夠在所述驅動輥上被驅動。
15.根據權利要求14所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，隨著所述驅動輥旋轉，所述傳送帶從所述輥轉動、在所述支承輥之上轉動、并沿著所述設備的長度轉動、在所述驅動輥之上轉動并且轉動至所述收卷輥上。
16.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，當所述基材以卷材形式供給時，卷繞的所述基材最初在支承輥與清潔輥之間行進，其中，所述清潔輥用來清潔卷繞的所述基材的表面。
17.根據權利要求16所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，粘附輥從所述清潔輥移除碎屑和/或污染物，并且經清潔的所述基材然后通過使用卷到卷的工藝而行進至能夠使液體濕材料沉積的裝置。
18.根據權利要求16或17中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述支承輥呈大致圓筒形形狀并且由任何適合的塑料/復合材料或金屬材料制成，并且所述清潔輥也呈大致圓筒形形狀并且由能夠從待清潔的基材表面移除碎屑和/或污染物的任何適合的橡膠或彈性體類型的材料制成。
19.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，為單獨的片材形式的所述基材或為卷材形式的所述基材的展開部分在所述涂覆棒下方行進，所述涂覆棒形成所述能夠使液體濕材料沉積的裝置的一部分。
20.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述基材為卷筒紙的形式，并且例如包括由諸如聚酯、聚酰亞胺和聚碳酸酯之類的塑料材料制成的介電層或非金屬層(例如，膜或卷狀件)。
21.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述基材包括覆層，所述覆層由諸如銅、銀、金之類的導電材料或者諸如石墨烯或PEDOTT之類的導電聚合物或者諸如ITO之類的導電氧化物制成。
22.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述液體濕材料以根據下述中的任一者的厚度沉積:小于或等于大約150μπι ;小于或等于大約125 μ m;小于或等于大約100 μ m;小于或等于大約75 μ m;小于或等于大約50 μ m ;小于或等于大約25 μ m ;小于或等于大約10 μ m ;小于或等于大約5 μ m ;小于或等于大約Iym ;小于或等于大約0.5 μ m或者小于或等于大約0.1 μ m。
23.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，所述液體濕材料以在下述范圍中的任一范圍內變動的厚度沉積:大約177 μ m至大約0.1 μ m ;大約125 μ m至大約0.1 μ m ;大約100 μ m至大約0.1 μ m ;大約75 μ m至大約0.1 μ m ;大約50 μ m至大約0.1 μ m ;大約25 μ m至大約0.1 μ m或者大約10 μ m至大約0.1 μ m0
24.根據前述權利要求中的任一項所述的用于將液體直接地涂覆至基材上的設備，其中，當所述基材以卷材形式供給時，所述設備執行卷到卷的連續工藝，使得包括固化的/干燥的涂層的所述基材卷繞至收卷輥上。
25.—種經涂覆的基材，所述經涂覆的基材是通過使用根據權利要求1至24中的任一項所述的設備形成的。
26.一種用于將液體直接地涂覆至基材上的方法，所述方法包括: 提供傳送裝置，所述傳送裝置能夠將基材傳送至如下裝置，該裝置能夠將液體濕材料直接地涂覆至基材的表面上從而形成液體濕材料膜； 提供感測系統，所述感測系統能夠測定要被涂覆所述液體濕材料的區域；以及將具有所述液體濕材料膜的所述基材傳送至能夠使所述基材上的所述液體濕材料干燥的干燥裝置。
【文檔編號】B41J11/00GK104245335SQ201280072585
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2012年11月15日 優先權日:2012年11月15日
【發明者】喬納森·肯尼特, 約翰·坎寧安, 羅伯特·吉卜森 申請人:彩虹科技系統有限公司