專利名稱：圖案化霧面轉印膜結構的制作方法
技術領域：
本發 明涉及一種轉印膜結構，具體講是涉及一種圖案化霧面轉印膜結構。
背景技術：
產品外觀包裝為影響消費者選擇的重要因素，具備獨特構圖設計與時尚質感的 產品往往能夠得到較多青睞。模內裝飾(IMD，In-mold decoration)為一項新型塑料加工 技術，其將上方印有裝飾圖紋的轉印膜定位于射出機的模具內，在塑料制品射出成形的 同時，進行圖紋轉印，完成殼體外觀裝飾。相較于傳統噴涂、印刷、電鍍等加工方式， 模內裝飾技術可配合制品量產，連續完成圖紋轉印，可簡化生產步驟、縮短制程時間， 己廣泛應用于電子裝置、家用電器等諸多領域。圖1為現有技術的轉印膜結構的剖面示意圖；圖2為圖1的轉印膜結構應用狀態 的剖面示意圖。如圖所示，轉印膜結構10包括一基底薄膜層11以及上方次序堆棧形成 的一離型層12、一硬化膜層13、一飾紋層14以及一黏著膜層15。基底薄膜層11可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用以提供表面平坦且不易變形的 基材，以利后續涂布與印刷等加工。離型層12設置于基底薄膜層11表面上方，用以輔 助基底薄膜層11離型。硬化膜層13設置于離型層12表面上，由樹脂溶液干燥形成，為 具高硬度的保護層。飾紋層14設置于硬化膜層13表面上，系由印刷形成的油墨裝飾圖 紋。黏著膜層15設置于飾紋層14表面上方。轉印時，提供一定的制程條件(例如預 定溫度值)，使黏著膜層15緊密黏著于物品20表面，從而將轉印膜結構10結合于物品 20。最后，借著離型層12將基底薄膜層11撕離，即完成圖紋轉印。上述轉印膜結構10可提供亮面裝飾圖紋，然而實際操作上，霧面化以及亮面與 霧面同時呈現的圖案化霧面設計亦為常見的外觀設計方式。
發明內容
為解決現有技術的不足，本發明目的在于提供一種圖案化霧面轉印膜結構，在 轉印時達到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產品外觀設計需求。為達上述目的，本發明是通過以下的技術方案來實現的。一種圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子 構成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋于該基底 薄膜層的上表面的局部區域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以于該基底薄膜層的上表 面形成一光面圖案；一離型層，設置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的上表面；一硬化膜 層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬化膜層的上表面；以及一黏著膜 層，設置于該飾紋層的上表面。前述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該抗眩光劑的微粒子的粒徑為0.1微 米至20微米。前述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。前述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該遮蔽層的厚度為2微米至10微米。前述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該遮蔽層的材料為聚氨酯系樹脂、 環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯 乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹 脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯中的一種。前述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層。前述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于所述的飾紋層包括一油墨層以及一 金屬薄膜層，油墨層設置于硬化膜層的上表面，金屬薄膜層則設置于油墨層的上表面； 黏著膜層設置于金屬薄膜層的上表面。本發明的有益效果是與現有技術相比，本發明由具有凹凸粗糙上表面的基底 薄膜層上方設置遮蔽層，以于基底薄膜層上方形成一光面圖案，從而使得間隔離型層鄰 接于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面圖案， 而于轉印膜應用時達到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產品外觀設計需求。
圖1為現有技術的轉印膜結構的剖面示意圖。圖2為圖1的轉印膜結構應用狀態的剖面示意圖。圖3為本發明圖案化霧面轉印膜結構的實施例的剖面示意圖。圖4為本發明圖案化霧面轉印膜結構的實施例的仰視圖。圖中主要標記含義說明10、轉印膜結構，11、31基底薄膜層，12、33， 13、34硬化膜層，14、35飾紋層，15、36黏著膜層，20、物品，30、圖案化霧面轉印膜 結構，310、微粒子，32、遮蔽層，320、光面圖案，350油墨層。
具體實施例方式下面將結合附圖和具體實施例，對本發明作具體的介紹。圖3為本發明圖案化霧面轉印膜結構的實施例的剖面示意圖；圖4為本發明圖案 化霧面轉印膜結構的實施例的仰視圖。如圖所示，本發明的圖案化霧面轉印膜結構30包 括一基底薄膜層31、一遮蔽層32、一離型層33、一硬化膜層34、一飾紋層35以及一黏 著膜層36。基底薄膜層31摻雜有由微粒子310構成的抗眩光劑，使基底薄膜層31的上 表面具有凹凸粗糙的上表面。遮蔽層32覆蓋于基底薄膜層31的上表面的局部區域，遮 蔽層32具有一光滑的上表面，以便于在基底薄膜層31的上表面形成一光面圖案320。離 型層33設置于基底薄膜層31以及遮蔽層32的上表面。硬化膜層34設置于離型層33的 上表面。飾紋層35設置于硬化膜層34的上表面。黏著膜層36設置于飾紋層35的上表 由于硬化膜層34是間隔著離型層33與基底薄膜層31及遮蔽層32鄰接，因此硬 化膜層34將同樣形成凹凸粗糙表面，上方分布有表面圖案320，而在轉印膜應用時達到 圖案化霧面效果。
基底薄膜層31作為后續涂布與印刷等加工工序的基材，應具備高平坦度且不易 變形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系 樹脂聚氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用玻璃紙、涂布紙、賽珞凡等纖維系薄 膜，或上述薄膜組成的復合薄膜基材。在制程時，摻入由微粒子310構成的抗眩光劑混 合制備原料，經由熱吹膜成形為片狀結構，或制作為可連續進行涂布及印刷工序的大面 積卷裝結構。基底薄膜層31的厚度約為5微米(〖Im)至300微米(μ m)。所述的抗眩光劑可選用氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石、氧化鋇等陶瓷 材料，微粒子310的粒徑約為0.1微米(μ m)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜層31 內部及表面，可使其表面結構凹凸粗糙。遮蔽層32是以凹版印刷或網版印刷方式涂布于基底薄膜層31表面上方，經過干 燥固化形成，可選用聚氨酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺 系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系 樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙 烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。遮蔽層32的厚度約為2微米(μ m)至10微米(μ m) O離型層33用以輔助基底薄膜層31及遮蔽層32離型，是以涂布設備將原料溶 液涂布于基底薄膜層31及遮蔽層32的表面上方，經過加熱干燥或紫外線照射固化而形 成，可選用聚硅氧烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚內烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯 系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂等材料，并根據材料種類， 采取適當的固化方式。離型層33的厚度約為0.5微米(丨1 m)至40微米(μ m)。硬化膜層34為具有高硬度的保護層，是以涂布設備將原料溶液涂布于離型層33 表面上方，經過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系 樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹 脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸 酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。硬化膜層34的厚度約為3微米(μ m) 至60微米(μ m)。硬化膜層34鄰接離型層33的表面將同樣形成凹凸粗糙表面，上方 分布有光面圖案320，可使轉印物品產生圖案化霧面效果。飾紋層35包括一油墨層350，系采用網版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印 刷方式制作形成，提供油墨裝飾圖紋，其印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系 樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系 樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸系樹脂等樹脂為結合劑加上顏料混合制得。黏著膜層36可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、亞克力系樹脂、聚乙烯系樹 脂、聚酰胺系樹脂等材料，用涂布設備將原料溶液涂布于飾紋層35表面上方，經過干燥 形成。黏著膜層36的厚度約為3微米(丨I m)至50微米(μ m)。上述實施例中的圖案化霧面轉印膜結構中，飾紋層僅由單一油墨層構成，然而 實際上，飾紋層可為復合結構，可以包括一油墨層以及一金屬薄膜層，油墨層設置于硬 化膜層34的上表面，金屬薄膜層則設置于油墨層的上表面。黏著膜層設置于金屬薄膜層的上表面。綜上所述，本發明的圖案化霧面轉印膜結構是在具有凹凸粗糙的上表面的基底 薄膜層上方設置遮蔽層，以便于在基底薄膜層上方形成光面圖案，使得間隔離型層鄰接 于基底薄膜 層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，并分布有光面圖案，可以在 轉印膜應用時達到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產品外觀設計需求。上述實施例不以任何形式限制本發明，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲 得的技術方案，均落在本發明的保護范圍內。
權利要求
1.圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子構成的 抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋于該基底薄膜層 的上表面的局部區域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以便于該基底薄膜層的上表面形 成一光面圖案；一離型層，設置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的上表面；一硬化膜層， 設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬化膜層的上表面；以及一黏著膜層， 設置于該飾紋層的上表面。
2.根據權利要求1所述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該抗眩光劑的微粒子的 粒徑為0.1微米至20微米。
3.根據權利要求1所述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該抗眩光劑的微粒子為 氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
4.根據權利要求1所述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該遮蔽層的厚度為2微 米至10微米。
5.根據權利要求1所述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于該遮蔽層的材料為聚氨 酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系 樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、 聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯 中的一種。
6.根據權利要求1所述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層。
7.根據權利要求1所述的圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于所述的飾紋層包括一油墨層以及一金屬薄膜層，油墨層設置于硬化膜層的上表面，金屬薄膜層則設置于油墨層 的上表面；黏著膜層設置于金屬薄膜層的上表面。
全文摘要
本發明涉及圖案化霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子構成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋基底薄膜層的上表面的局部區域，具有光滑的上表面；一離型層，設置于基底薄膜層及該遮蔽層的上表面；一硬化膜層，設置于離型層的上表面；一飾紋層，設置于硬化膜層的上表面；以及一黏著膜層，設置于飾紋層的上表面。本發明的基底薄膜層的上方具有凹凸粗糙上表面，在基底薄膜層上方形成光面圖案，因此鄰接于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面圖案，在轉印膜應用時達到圖案化霧面效果，滿足多樣化的產品外觀設計需求。
文檔編號B41M5/44GK102009543SQ201010549859
公開日2011年4月13日 申請日期2010年11月19日 優先權日2010年11月19日
發明者韓久康 申請人:琨詰電子(昆山)有限公司