專利名稱：霧面轉印膜結構的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種轉印膜結構，具體講是涉及一種霧面轉印膜結構。
背景技術：
產品外觀構裝為影響消費行為的重要因素，具備獨特構圖設計與時尚質感的產 品往往能夠得到較多青睞。模內裝飾(IMD，In-mold decoration)為一項新型塑料加工 技術，是將上方印有裝飾圖紋的轉印膜定位于射出機的模具內，在塑料制品射出成形同 時，進行圖紋轉印，完成殼體外觀裝飾。相對于傳統噴涂、印刷、電鍍等加工方式， 模內裝飾技術可配合制品批量生產，連續完成圖紋轉印，可簡化生產步驟、縮短制程時 間，己廣泛應用于電子裝置、家用電器等諸多領域。霧面化為常見的外觀設計方式，為達到霧面效果，必須對轉印膜結構采取特殊 處理。圖1為現有技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖，圖2為圖1的霧面轉印膜結構 的應用狀態剖面示意圖。如圖所示，霧面轉印膜結構10包括一基底薄膜層11、一凸塊 結構層12、一離型層13、一硬化膜層14、一飾紋層15以及一黏著膜層16。基底薄膜層 11可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用來提供表面平坦且不易變形的基材，以利于后續涂 布與印刷等加工工藝。凸塊結構層12通過網版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜層11 表面上方，用來使基底薄膜層11表面形成凹凸結構。離型層13設置于基底薄膜層11及 凸塊結構層12的表面上方，用來輔助基底薄膜層11離型。硬化膜層14設置于離型層13 表面上，由樹脂溶液干燥形成，為具有高硬度的保護層，由于硬化膜層14是間隔著離型 層13鄰接于基底薄膜層11及凸塊結構層12，因此其下表面同樣形成凹凸結構。飾紋層 15設置于硬化膜層14表面上，是由印刷形成的油墨裝飾圖紋。黏著膜層16設置于飾紋 層15表面上方。在轉印的時候，提供一定的制程條件(例如預定溫度值)，使黏著膜層16緊 密黏著于物品80表面，從而將霧面轉印膜結構10結合于物品80。最后，借著離型層13 將基底薄膜層11與凸塊結構層12撕離，完成圖紋轉印。硬化膜層14的表面凹凸結構將 可達到霧面化的視覺效果。上述的霧面轉印膜結構10雖可達到霧面化效果，但是其必須 額外經由繁瑣工序，制版印刷完成凸塊結構層12的制作，不僅耗費工時，更造成制程成 本提高。圖3為另一現有技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖。圖中的霧面轉印膜結構 20系由次序堆棧的一基底薄膜層21、一離型層22、一硬化膜層23、一飾紋層24以及一 黏著膜層25共同構成。其中，硬化膜層23中摻雜有由微粒子230所構成的抗眩光劑， 從而達到霧面化效果。然而，由于硬化膜層23的機能為提供高硬度防護膜，摻雜其中的 微粒子230將破壞結構連續性，而降低其結構強度，致使膜層劣化風險提高，影響產品 的品質。另外，現有的霧面轉印膜，在飾紋層和黏著膜層之間沒有沒有間隔，直接緊 貼。因此，這樣的結構會造成黏著膜層的膠水向下滲漏，滲漏下去的膠水會破壞飾紋層的油墨圖紋，嚴重影響轉印效果，降低產品品質。
發明內容
為解決現有技術的不足，本發明目的在于提供一種霧面轉印膜結構，不僅使轉 印膜應用時達到霧面化效果，而且可精簡霧面轉印膜結構的制程工序，從而達到縮短工 時、降低成本的功效。同時，還可以防止黏著膜層的膠水向下滲漏，從而保護飾紋層的 油墨圖紋。為達上述目的，本發明是通過以下的技術方案來實現的。一種霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子構成的 抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設置于該基底薄膜層 的上表面；一第一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該第一硬化 膜層的上表面；一第二硬化膜層，設置于該飾紋層的上表面；一黏著膜層，設置于該第 二硬化膜層的上表面。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于該抗眩光劑的微粒子的粒徑為0.1微米至 20微米。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化 鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的基底薄膜層為一高分子聚合物基 材，所述的高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、 聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的基底薄膜層為一纖維系薄膜，所述 的纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的離型層的材料為聚硅氧烷系樹脂、 三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠 系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂中的一種，其厚度為0.5微米至40微米。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的第一硬化膜層的材料為聚胺酯系樹 脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、 聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜 系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯中的一 種，其厚度為3微米至60微米。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層，油墨層的材料 為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛 系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂中的一種加入顏料混合制得。前述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的黏著膜層的材料為聚胺酯系樹脂、 環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂中的一種，其厚度為3微米 至50微米。本發明的有益效果為本發明的霧面轉印膜結構是在基底薄膜層添加由微粒子構成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙表面，使得間隔著離型層鄰接于基底薄膜 層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，在轉印膜應用時達到霧面化效果。本發明將可精 簡霧面轉印膜結構的制程工序，從而達到縮短工時、降低成本等功效。同時，本發明還 可維持硬化膜層的完整性，保持膜層結構強度。另外，在飾紋層和黏著膜層之間增設的 第二硬化膜層可以阻擋黏著膜層的膠水向下滲漏，防止飾紋層的油墨圖紋受到破壞，且 可進一步加強膜層結構強度，提高產品的品質。
圖1為現有技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖。圖2為圖1的霧面轉印膜結構的應用狀態的剖面示意圖。圖3為另一現有技術的霧面轉印膜結構的剖面示意圖。圖4為本發明的霧面轉印膜結構的第一實施例的剖面示意圖。圖5為本發明的霧面轉印膜結構的第二實施例的剖面示意圖。圖中主要標記含義說明10、20、40、50霧面轉印膜結構，11、21、41、51基 底薄膜層，12凸塊結構層，13、22、42、52離型層，14、23硬化膜層，15、24、44、 54飾紋層，16、25、46、56黏著膜層，230、410、510微粒子，440、540油墨層，43、 53第一硬化膜層，45、55第二硬化膜層，541金屬薄膜層，80物品。
具體實施例方式以下結合附圖和具體實施例，對本發明作詳細的介紹。首先，請參閱圖4，圖4為本發明的霧面轉印膜結構的第一實施例的剖面示意 圖。如圖所示，此實施例中，本發明的霧面轉印膜結構40包括一基底薄膜層41、一離型 層42、一第一硬化膜層43、一飾紋層44、一第二硬化膜層45，以及一黏著膜層46。基 底薄膜層41摻雜有由微粒子410構成的抗眩光劑，使基底薄膜層41具有一凸凹粗糙的上 表面。離型層42設置于基底薄膜層41的上表面。第一硬化膜層43設置于離型層42的 上表面。飾紋層44包括一油墨層440，設置于第一硬化膜層43的上表面。第二硬化膜 層45設置于飾紋層44的上表面。黏著膜層46設置于第二硬化膜層45的上表面。由于第一硬化膜層43是間隔著離型層42鄰接于基底薄膜層41，因此第一硬化膜 層43的表面將同樣形成凹凸粗糙表面，在應用時可以達到霧面化效果。基底薄膜層41是提供后續涂布與印刷等加工工藝的基材，具備高平坦度且不易 變形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系 樹脂、聚氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用玻璃紙、涂布紙、賽珞凡等纖維系 薄膜，或上述薄膜組成的復合薄膜基材。在制程中，摻入由微粒子410構成的抗眩光劑 混合制備原料，經由熱吹膜成形為片狀結構，或制作成可連續進行涂布及印刷工序的大 面積卷裝結構。基底薄膜層41的厚度約為5微米(丨I m)至300微米(}l m)。所述的抗眩光劑可選用氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石、氧化鋇等陶瓷 材料，微粒子410的粒徑約為0.1微米(丨I m)至20微米(P m)，分散于基底薄膜層41 內部及表面，將可使其表面凹凸粗糙。離型層42用來輔助基底薄膜層41離型，是通過涂布設備將原料溶液涂布在基底薄膜層41表面上方，經過加熱干燥或紫外線照射固化而形成，可選用聚硅氧烷系樹脂、 三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠 系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂等材料，并根據材料種類，采取適當的固化方式。離型層 42的厚度約為0.5微米(〖I m)至40微米(丨I m)。第一硬化膜層43為具有高硬度的保護層，是通過涂布設備將原料溶液涂布于離 型層42表面上方，經過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、 聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲 酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯 丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。第一硬化膜層33的厚度約為3微 米(〖I m)至60微米(丨I m)。第一硬化膜層43鄰接離型層42的表面將同樣形成凹凸粗 糙表面，可以在霧面轉印膜結構40應用的時候，達到霧面化效果。飾紋層44包括一油墨層440，是采用網版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印 刷方式制作形成，提供油墨裝飾圖紋，其印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系 樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系 樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂等樹脂為結合劑加上顏料混合制得。黏著膜層46可選用聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹 脂、聚酰胺系樹脂等材料，以涂布設備將原料溶液涂布于飾紋層44表面上方，經過干燥 形成。黏著膜層46的厚度為3微米(JLI m)至50微米(Mm)。霧面轉印膜結構40中，第一硬化膜層43將同樣形成凸凹粗糙表面，而于應用時 達到霧面化效果。同時，飾紋層44與黏著膜層46之間增設的第二硬化膜層45將可阻擋 黏著膜層46的膠水向下滲漏，防止飾紋層44的油墨圖紋受到破壞，且可進一步加強膜層 結構強度。本發明的霧面轉印膜結構30是在基底薄膜層31摻雜抗眩光劑，即可使硬化膜 層33形成凸凹粗糙的表面，而不需要再額外印刷凸塊結構，相對于現有的霧面轉印膜結 構，本發明維持了硬化膜層33的結構完整性，可以保持膜層結構強度。上述實施例中的霧面轉印膜結構中，飾紋層44僅由單一油墨層構成。但是在實 際中，飾紋層44可為復合結構。圖5本發明的霧面轉印膜結構的第二實施例的剖面示意 圖。此實施例中，霧面轉印膜結構50包括一基底薄膜層51、一離型層52、一第一硬化 膜層53、一飾紋層54,、一第二硬化膜層55以及一黏著膜層56，基底薄膜層51摻雜有由 微粒子510構成的抗眩光劑。其中飾紋層54包括一油墨層540以及一金屬薄膜層541， 油墨層540設置于第一硬化膜層53的上表面，金屬薄膜層541則設置于油墨層540的上 表面，第二硬化膜層55設置于金屬薄膜層541與黏著膜層56之間。綜上所述，本發明的霧面轉印膜結構系于基底薄膜層添加由微粒子構成的抗眩 光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙表面，使得間隔離型層鄰接于基底薄膜層的硬化膜層 同樣形成凹凸粗糙表面，而于轉印膜應用時達到霧面化效果。本發明將可精簡霧面轉印 膜結構的制程工序，從而達到縮短工時及降低成本等功效。同時，本發明維持了硬化膜 層的完整性，可保持膜層結構強度。在飾紋層和黏著膜層之間增設的第二硬化膜層可以 阻擋黏著膜層的膠水向下滲漏，防止飾紋層的油墨圖紋受到破壞，且可進一步加強膜層結構強度，提高產品的品質。 上述實施例不以任何形式限制本發明，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲 得的技術方案均落在本發明的保護范圍內。
權利要求
1.霧面轉印膜結構，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子構成的抗眩光 劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設置于該基底薄膜層的上表 面；一第一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該第一硬化膜層的 上表面；一第二硬化膜層，設置于該飾紋層的上表面；一黏著膜層，設置于該第二硬化 膜層的上表面。
2.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于該抗眩光劑的微粒子的粒徑為 0.1微米至20微米。
3.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子為氧 化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
4.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的基底薄膜層為一高分子 聚合物基材，所述的高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺 系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。
5.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的基底薄膜層為一纖維系 薄膜，所述的纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。
6.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的離型層的材料為聚硅氧 烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系 樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯 共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂中的一種，其厚度為0.5微米至40微米。
7.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的第一硬化膜層的材料為 聚胺酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維 素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹 脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰 酸酯中的一種，其厚度為3微米至60微米。
8.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層，油 墨層的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、 聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂中的一種加入 顏料混合制得。
9.根據權利要求1所述的霧面轉印膜結構，其特征在于所述的黏著膜層的材料為聚胺 酯系樹脂、環氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂中的一種，其厚 度為3微米至50微米。
全文摘要
本發明涉及一種霧面轉印膜結構，包括一基底薄膜層、一離型層、一第一硬化膜層、一飾紋層、一第二硬化膜層以及一黏著膜層。基底薄膜層包括由微粒子構成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面，離型層設置于基底薄膜層的上表面，第一硬化膜層設置于離型層的上表面，硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，飾紋層設置于第一硬化膜層的上表面，第二硬化膜層設置于飾紋層的上表面，黏著膜層設置于飾紋層的上表面。本發明可精簡霧面轉印膜結構的制程工序，從而達到縮短工時、降低成本等功效。同時，還可維持硬化膜層的完整性，保持膜層結構強度，并可防止黏著膜層的膠水向下滲漏，破壞飾紋層的圖紋，提高產品的品質。
文檔編號B41M5/42GK102009541SQ2010105384
公開日2011年4月13日 申請日期2010年11月10日 優先權日2010年11月10日
發明者韓久康 申請人:琨詰電子(昆山)有限公司