專利名稱::具有優良耐溶劑性的多層可成像元件的制作方法
技術領域:
:本發明涉及平版印刷。具體地講,本發明涉及用作平版印刷版前驅體的具有優良耐溶劑性的多層可成像元件,和由其提供平版印刷版的方法。
背景技術:
:在常規或"濕"平版印刷中,在親水表面上產生吸油墨區域(也稱為圖像區域)。在表面用水濕潤并施加油墨時,親水區域保留水而排斥油墨,吸油墨區域則接受油墨而排斥水。油墨轉印到要在上面復制圖像的材料的表面上。一般油墨首先轉印到中間橡皮布上,橡皮布再將油墨轉印到要在上面復制圖像的材料的表面上。可用作平版印刷版前驅體的可成像元件一般包括在基片的親水表面上施加的可成像層。可成像層包含一種或多種可在適合粘合劑中分散的輻射敏感性組分。或者,輻射敏感性組分也可以為粘合劑物質。成像后,可成像層的曝光區域或非曝光區域由適合的顯影劑除去,露出基片的下面親水表面。如果曝光的區域除去,則前驅體為陽圖制版。相反,如果非曝光區域除去,則前驅體為陰圖制版。在各情況下,保留的可成像層的區域(即圖像區域)為吸墨性,并且由顯影方法露出的親水表面的區域接受水和水溶液(一般為潤版液),并排斥油墨。可成像元件用紫外線和/或可見輻射常規成像通過具有透明和不透明區域的蒙版進行。成像發生在蒙版透明區域下的區域,而不發生在不透明區域下的區域。然而,排除需要通過蒙版成像的直接數字成像在印刷業正變得愈加重要。也已開發利用紅外激光的制備平版印刷版用的可成像元件。可熱成像的多層元件公開于例如Shimazu的美國專利6,294,311、美國專利6,352,812和美國專利6,593,055、Patel的美國專利6,352,811、Savariar-Hauck的美國專利6,358,669和美國專利6,528,228以及Kitson的美國專利申請公布2004/0067432。在使用時,平版印刷版與潤版液接觸。另外,印刷版通常經過侵蝕性橡皮布洗滌液,如"UV洗滌液",以除去可紫外固化的油墨。然而,這些系統很多有有限的對潤版液和/或侵蝕性橡皮布洗滌液的耐性。因此,需要用作平版印刷版前驅體的對這些溶劑具有耐性的陽圖制版、多層可熱成像元件。在熱成像后,使經成像的陽圖制版可成像元件顯影,以除去所有層的曝光區域,從而露出親水基片。在此步驟期間,由于除去的聚合物粘合劑(特別是來自頂層的聚合物粘合劑)的溶解度不足,可能在顯影劑中積累相當的殘余物。除了降低顯影劑的使用壽命外,淤渣或殘余物積累還導致一些維護問題。因此,需要可成像元件能夠顯影提供平版印刷版,而不由于在不同元件層中(特別在頂層)所用聚合物粘合劑的不溶解性在顯影劑中顯著積累相當量的殘余物或淤渣。發明概述本發明提供一種陽圖制版可成像元件,可成像元件包括光熱轉化物質、基片、在基片上的可由堿性顯影劑除去的底層和在底層上的吸油墨頂層,其中在熱成像前,頂層可比底層慢得多的溶于堿性顯影劑,在熱成像以在元件中形成曝光區域和非曝光區域后,曝光區域比非曝光區域可更容易由堿性顯影劑除去,并且頂層包含聚合物質,所述聚合物質包含含酐的重復單元,所述聚合物質以基于頂涂層干燥重量至少60%重量的量存在。本發明還提供一種形成平版印刷版的方法,所述方法包括(A)使本發明的陽圖制版可成像元件以圖像方式曝光,以形成曝光區域和非曝光區域,(B)使成像的可成像元件與堿性顯影劑接觸,以選擇性除去曝光區域。因此,本發明還提供一種由所述方法得到的平版印刷版。可成像元件和由其制備的成像元件對平版印刷版制備和使用中所用的化學品和溶劑顯示極佳的耐性。另外,本發明的可成^^元件在外層中包含易溶于處理所用顯影劑的聚合物粘合劑。因此,在顯影劑中積累最少的殘余物或淤渣。通過在可成像元件的頂層中使用包含酐的聚合物粘合劑,可取得這些優點。意外的是,使用這種聚合物粘合劑不僅具有在顯影劑中的極佳溶解性,而且提供在元件非曝光區域中的優良吸墨性和顯影劑耐性,從而產生優良的圖像復制。發明詳述除非本文另外指明,在說明書和權利要求書中,術語聚合物質、共聚物、添加的聚合物、取代的苯乙烯、取代的馬來酸酐、含羧酸單體、馬來酸酐聚合物、光熱轉化物質、表面活性劑和類似術語也包括此類物質的混合物。因此,除非另外指明,修飾詞"一"(a)、"一,,(an)和"所述"(the)不限于單數意義。除非另外指明,所有的百分率均為重量百分率,所有溫度均為百分度(攝氏度)。熱成像是指利用熱體(如熱頭)或紅外輻射成像。可成像元件本發明為一種可成像元件,所述元件包括基片(以下限定)、底層和頂層。元件也包括在不同位置中的光熱轉化物質,如以下更詳細描述。頂層在熱成像前,頂層比底層慢得多的溶于堿性顯影劑。"慢得多"是指在堿性顯影劑中溶解頂層需要的時間為在堿性顯影劑中溶解底層所需時間的至少5倍(優選至少IO倍)。在熱成像后,元件中的曝光區域(包括頂層)比非曝光區域可更容易由堿性顯影劑除去。底層也可由堿性顯影劑除去。頂層包含基于全部頂層干燥重量至少60%重量的聚合物質。優選聚合物質以基于全部頂涂層干燥層至少75%重量存在,更優選至少90%重量,最優選至少95%重量。此聚合物質包括含酐的重復單元,如以下更詳細描述。優選含酐基的聚合物粘合劑為在頂層中用作粘合劑的聚合物質的唯一類型,但可以此方式使用此類型聚合物質的混合物。頂層也可包含為可成像元件常規成分的其他成分,如光熱轉化物質、染料或著色劑和表面活性劑。可存在表面活性劑(如氟化的表面活性劑或聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物)或表面活性劑的混合物,以幫助分散涂料溶劑中的其他成分和/或用作涂料助劑。可存在染料或著色劑,以幫助視覺檢查成像或顯影的元件。在處理期間,印出的染料使曝光區域與非曝光區域區分開。對比染料則使經顯影可成像元件(例如得到的平版印刷版)中的非曝光區域與曝光區域區分開。頂層一^L基本由聚合物質和任選的一種或多種光熱轉化物質、一種或多種染料或著色劑和一種或多種表面活性劑組成。當頂層中不存在光熱轉化物質時,頂層一般基本由聚合物質和任選的一種或多種染料或著色劑或一種或多種表面活性劑或一種或多種著色劑和一種或多種表面活性劑組成。聚合物質頂層包含聚合物質,這種聚合物質為具有包含酐基的重復基團的聚合物。"酐"指取代的和未取代的酐基。酐基為聚合物的疏水主鏈的部分。雖然聚合物質可以為均聚物,但一般為由一種或多種含酐單體和一種或多種苯乙烯或苯乙烯衍生物衍生的共聚物。因此,可用這兩種類型的單體的混合物制備聚合物質。具有酐基的聚合物一般具有至少1,000的重均分子量,一般約1,500至約8,000。包含酐基的重復單元一般占聚合物鏈中全部重復單元的至少15%摩爾,優選約40至約60%摩爾。在苯乙烯或取代的苯乙烯(衍生物)或其混合物也用于制備聚合物時,自苯乙烯或苯乙烯衍生物的重復單元一般占聚合物鏈中全部重復單元的至少15%摩爾,并且最多85%摩爾。也可存在另外的單體的重復單元,以提供小于20。/。摩爾重復單元,如丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯單體,如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯和曱基丙烯酸丁酯;丙烯腈;甲基丙烯腈;甲基丙烯酰胺,如甲基丙烯酰胺和N,N-二甲基甲基丙烯酰胺;及丙烯酰胺,如丙烯酰胺和N,N-二甲基丙烯酰胺。優選這些另外的重復單元不存在,而共聚物基本由具有肝基的重復單元和衍生自苯乙烯或取代的苯乙烯的重復單元組成。也可用式CHRK:R乂C6H4l^)限定苯乙烯或苯乙烯衍生物,其中R和RM蟲立為氫或具有1至6個碳原子的取代或未取代烷基。優選R和R1獨立為氫或取代或未取代的甲基(如曱基和氯甲基)。取代基R2可以在單體中乙烯基(CH^CH-)的鄰、間或對位。R2可以為氫、鹵素、羥基、氰基、氨磺酰、具有1至6個碳原子的取代或未取代烷基、具有1至6個碳原子的取代或未取代烷氡基、具有1至7個碳原子的取代或未取代酰基、具有1至7個碳原子的取代或未取代酰基氧基或具有1至7個碳原子的取代或未取代烷氧羰基(carboalkoxy)。鹵素包括氟(F)、氯(Cl)和溴(Br)。氨磺酰基的實例為-S02NH2。1至6個碳原子的烷基包括但不限于甲基、氯曱基、甲氧基甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、異戊基、新戊基、正己基、異己基、1,1-二甲基-丁基、2,2-二甲基-丁基、環丙基、環丁基、環戊基、曱基環戊基和環己基。l至6個碳原子的烷氧基為-0113基團,其中R為如上所列的1至6個碳原子的取代或未取代烷基。實例包括但不限于曱氧基、乙氡基、正丙氧。1至7個碳原子的酰基為-C(O)R3基團,其中W為如上所列的1至6個碳原子的取代或未取代烷基。實例包括但不限于CH3CO-(乙酰基)、CH3CH2CO-、CH3(CH2)2CO-、CH3(CH2)3CO-、(CH3)3CCO)3CCH2CO-。1至7個碳原子的酰基氧基為-OC(0)R基團,其中W為如上所列的1至6個碳原子的取代或未取代烷基。實例包括但不限于H3CC(0)0-(乙酰氧基)、CH3CH2C(0)0-、CH3(CH2)2C(0)0-、CH3(CH2)3C(0)0-、(CH3)3CC(0)0-和(CH3)3CCH2C(0)0-。1至7個碳原子的烷氧羰基為-(:02113基團,其中W為如上所列的1至6個碳原子的烷基。實例包括但不限于-C02CH3(甲氧羰基)、-(302012013(乙氧羰基)、-C02(CH2)2CH3、-C02(CH2)3CH3、-C02C(CH3)3(叔丁氧羰基)、-C02CH2C(CH3)3、-C02(CH2)4CH3和-C02(CH2)5CH3。優選R2為氫或取代或未取代的甲基。由所提到式表示的最優選的單體為苯乙烯,但在以下實施例中說明其他有用的苯乙烯衍生物,如4-甲基苯乙烯、a-甲基苯乙烯和p-甲基苯乙烯。雖然R2在所提到的式中顯示為苯基上的單一取代基,但可設想最多4個相同或不同的W基團結合到單體中的苯基。因此,可存在相同或不同的R"基團的混合物。制備聚合物含酐基的聚合物可通過自由基聚合來制備。在一般制備中使一種或多種單體聚合產生聚合物。自由基聚合為本領域的技術人員所熟悉,并描述于例如Macromolecules(大分子),第2版,第2巻,第20章和第21章,H.G.Elias,Plenum,NewYork,1984。可用的自由基引發劑為過氧化物,如過氧化苯甲酰;氫過氧化物,如枯基過氧化氫;和偶氮化合物,如2,2'-偶氮雙(異丁腈)(AIBN)。可用鏈轉移劑控制化合物的分子量,如十二烷硫醇。自由基聚合所用的適合溶劑包括對反應物為惰性并且不另外不利影響反應的液體,例如水;S旨,如乙酸乙酯和乙酸丁酯;酮,如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、曱基丙基酮和丙酮;醇,如甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、1-曱氧基乙醇(MethylCELLOSOLVE)、正丁醇;醚,如二氧雜環己烷和四氫呋喃;酰胺,如N,N-二曱基甲酰胺和N,N-二曱基乙酰胺及其混合物。添加的聚合物也可在頂層中存在一種或多種其他添加聚合物。存在時,添加的聚合物基于頂層干燥總重量占頂層約0.1%重量至約20%重量,優選約1%重量至約20%重量。添加的聚合物一般為酚醛樹脂,如酚醛清漆樹脂、可熔可溶酚醛樹脂或聚乙烯基苯酚。存在時,優選的添加聚合物為酚醛清漆樹脂。酚醛清漆樹脂可以購得,并且為本領域的技術人員所熟悉。它們一般通過在酸催化劑存在下酚(如苯酚、間甲酚、鄰甲酚、對甲酚等)與醛(如甲醛、低聚曱酪、乙搭等)或酮(如丙酮)的縮合反應制備。重均分子量一般為約1,000至15,000。一般酚醛清漆樹脂包括例如苯酚-甲醛樹脂、甲酚-甲醛樹脂、苯酚-甲酚-甲醛樹脂、對叔丁基苯酚-甲醛樹脂和連苯三酚-丙酮樹脂。可特別使用具有至少IO,OOO重均分子量的溶劑可溶性酚醛清漆樹脂、包含至少10%摩爾對曱酚和至少8,000重均分子量的溶劑可溶性間甲酚/對甲酚酚醛清漆樹脂及其混合物。底層底層在頂層和基片之間。它處于基片上,一般直接處于基片上。底層包含可由顯影劑除去,并且優選可溶于顯影劑的聚合物質。另外,聚合物質優選不溶于涂覆頂層使用的溶劑,使得頂層可涂于底層上而不使底層溶解。也可在底層中存在其他成分、另外的聚合物、光熱轉化物質和表面活性劑。可用的聚合物質包括羧基官能丙烯酸類、乙酸乙烯酯/巴豆酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物酚醛樹脂、馬來酸化木松香及其組合。同時提供對潤版液和侵蝕性洗滌液耐性的底層公開于Shimazu的美國專利6,294,311,所述專利通過引用結合到本文中。特別有用的聚合物質為聚乙烯醇縮乙醛和包含N-取代馬來酰亞胺(尤其是N-苯基馬來酰亞胺)、甲基丙烯酰胺類(尤其是甲基丙烯酰胺)和丙烯酸和/或甲基丙烯酸(尤其是甲基丙烯酸)的共聚物。此類型的優選聚合物質為N-苯基馬來酰亞胺、曱基丙烯酰胺和曱基丙烯酸的共聚物,更優選為包含約25至約75%摩爾(優選約35至約60%摩爾)N-苯基馬來酰亞胺、約10至約50%摩爾(優選約15至約40%摩爾)曱基丙婦酰胺和約5至約30%摩爾(優選約10至約30%摩爾)甲基丙烯酸的共聚物。可用其他親水單體(如曱基丙烯酸輕乙S旨)代替一些或全部甲基丙烯酰胺。可用其他堿可溶單體(如丙烯酸)代替一些或全部甲基丙烯氧雜環戊烷(15:42.5:42.5%重量)混合物。然而,它們不良溶于諸如丙酮和甲苯的溶劑,此溶劑可作為溶劑涂覆頂層于底層上而不使底層溶解。也可使用美國專利6,893,783(Kitson等人)和7,049,045(Kitson等人)公開的可烘烤底層,所述專利均通過引用結合到本文中。底層也可包含一種或多種其他聚合物質,其條件為加入這些聚合物質不會不利影響底層的化學耐性和溶解性。存在時,優選的其他聚合物質為酚醛清漆樹脂,可加入這些聚合物質,以通過顯影后烘烤過程改善印刷構件的運轉周期(mnlength)。光熱轉化物質要用紅外輻射成像的可成像元件一般包含紅外吸收劑,也被稱為光熱轉化物質。光熱轉化物質吸收輻射,并將輻射轉化成熱量。光熱轉化物質可存在于底層和/或頂層和底層之間的單獨吸收劑層。雖然光熱轉化物質不為熱體成像所必需,但也可用熱體使包含光熱轉化物質的可成像元件成像,熱體如熱頭或熱頭列。優選光熱轉化物質在底層中,更優選只在底層中。光熱轉化物質可以為任何能夠吸收輻射并將輻射轉化成熱量的物質。適合的物質包括染料和顏料。一般顏料包括例如炭黑、HeliogenGreen、NigrosineBase、氧化鐵(III)、氧化錳、普魯士藍和巴黎藍。顏料顆粒的大小應不大于包含顏料的層的厚度。顆粒的大小優選為層厚度的一半或更小。光熱轉化物質可以為具有適合吸收光譜和溶解度的染料。優選使用染料,尤其是具有700nm至1200nm高消光系數的染料。適合染料的實例包括以下種類的染料次甲基、多次甲基、芳基次甲基、菁、半菁(hemicyanine)、鏈菁(streptocyanine)、方酸(squarylium)、p比喃鎖、氧鐠醇、萘醌、蒽醌、卟啉、偶氮、克酮酸(croconium)、三芳基胺、噻唑輸、p引味輸、嗯唑貧1、吲哚菁、吲哚三碳菁(indotricarbocyanine)、氧雜三碳菁(oxatricarbocyanine)、敗菁、遂斧(thiocyanine)、辟u雜三碳菁(thiatricarbocyanine)、4分菁、隱菁、萘秋菁(naphthalocyanine)、聚苯胺、聚口比咯、聚遙吩、chalcogenopyryloarylidene和bis(chalcogenopyrylo)polymethine、羥口引漆、p比唑啉偶氮和螺"秦類。吸收染料公開于很多公布中,例如Nagasaka的EP0,823,327、DeBoer的美國專利4,973,572、Jandrue的美國專利5,244,771、Patel的美國專利5,208,135和Chapman的美國專利5,401,618中。有用的吸收染料的其他實例包括ADS-830A和ADS-1064(AmericanDyeSource,Montreal,Canada)、EC2117(FEW,Wolfen,Germany),CyasorbIR99和CyasorbIR165(GlendaleProtectiveTechnology)、EpoliteIV-62B和EpoliteIH-178(Epolme)、SpectraIR830A和SpectraIR840A(SpectraColors)及IR染料A、B和C,其結構如下所示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>IR染料A<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>水溶性光熱轉化物質包括例如具有一個或多個硫酸根和/或石黃酸根的菁染料。包含二至四個磺酸根的其他紅外吸收菁陰離子公開于例如West的美國專利5,107,063、Pearce的美國專利5,972,838、Chapman的美國專利6,187,502、Fabncius的美國專利5,330,884和日本未審查專利公開案63-033477中。制備具有多磺酸根陰離子的菁染料公開于例如美國專利申請公布2005/0113546(Tao等人),其公開內容通過引用結合到本文中。制備N-烷基硫酸菁化合物公開于例如美國專利7,018,775(Tao),其公開內容通過引用結合到本文中。元件中存在的光熱轉化的量一般足以在成像波長提供至少0.05的光密度,優選約0.5到至少約2至3的光密度。本領域的技術人員熟知,在具體波長產生具體光密度所需化合物的量可用比爾定律確定。雖然存在的量取決于所選擇的化合物,但當光熱轉化物質只存在于底層時,一般占底層約0.2%重量至約8%重量,更一般約0.5%重量至約4%重量。其他層光熱轉化物質可存在于單獨的吸收劑層中。當存在吸收劑層時,吸收劑層在頂層和底層之間。吸收劑層優選基本由光熱轉化物質和任選的表面活性劑組成。如果存在于單獨的吸收劑層中,則可使用較少光熱轉化物質。吸收劑層優選具有足以吸收至少90%(優選至少99%)成像輻射的厚度。一般吸收劑層具有約0.02g/n^至約2g/n^的涂層重量,優選約0.05g/m2至約1.5g/m2。包括吸收劑層的元件公開于Shimazu的美國專利6,593,055,其公開內容通過引用結合到本文中。為了使制造和儲存可成像元件期間光熱轉化物質從底層遷移到頂層最少,元件可在底層和頂層之間包括阻擋層。阻擋層包含可溶于顯影劑的聚合物質。如果此聚合物質不同于底層中的聚合物質,則優選可溶于其中底層中聚合物質不溶的至少一種有機溶劑。阻擋層所用的優選聚合物質為聚乙烯醇。當阻擋層中的聚合物質不同于底層中的聚合物質時,則阻擋層應小于底層厚度的約五分之一,優選小于底層厚度的十分之一。包括阻擋層的可成像元件公開于Patel的美國專利6,723,490,其公開內容通過引用結合到本文中。基片基片包括載體,可以為常用于制備用作平版印刷版的可成像元件的任何材料。載體優選強、穩定并且柔韌。它應在使用條件下抵制尺寸變化,以便顏色記錄定位于彩色圖像中。載體一般可以為任何自支承材料,包括例如聚合物薄膜(如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜)、陶瓷、金屬或硬紙或任何這些材料的層壓材料。金屬載體包括鋁、鋅、鈦及其合金。一般聚合物薄膜包含在一個或兩個表面上的膠層,以改善對其后層的粘合力。這層或這些層的性質取決于基片和隨后層的組成。膠層物質的實例為粘合促進物質,如烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和環氧官能聚合物以及在照相軟片中聚酯基底上使用的普通膠層物質。在基片包括鋁或鋁合金片時,基片應為足夠厚度,以承受印刷磨損,也應薄得足以纏繞在印刷機中滾筒的周圍,一般約10(Him至約600pm。基片一般通過本領域已知的多種方法清洗、粗糙化和陽極化。一般最初用表面活性劑、有機溶劑或堿性水溶液進行脫脂處理,以從片的表面除去油脂。然后,可通過熟知的技術使表面粗糙化,如機械粗糙化(例如球磨、刷磨、砂磨(blastpolishing)和皮磨(buffpolishing))、化學粗糙化(其中表面通過選擇性溶解粗糙化)或電化學粗糙化或此類化學、機械和/或電化學處理(多重磨版)的組合。腐蝕基片用熱酸性(如硫酸或磷酸)溶液或堿性溶液(如氬氧化鈉或與氫氧化鈉混合的磷酸三鈉)進行。可進行陽極氧化,以形成表面的氧化鋁親水層,一般氧化鋁層重量為至少0.3g/n^。通過在電解質溶液中用載體作為陽極使電流通過,可進行陽極氧化,電解質溶液包含電解質,例如硫酸、磷酸、鉻酸、硼酸、檸檬酸、草酸或其混合物。陽極氧化公開于例如Fromson的美國專利3,280,734和Chu的美國專利5,152,158。然后,經清洗、粗糙化和陽極化的載體可用堿金屬硅酸鹽親水化,如含水硅酸鉀、硅酸鋰,或一般為硅酸鈉。親水化描述于例如Jewett的美國專利2,714,066和Fromson的美國專利3,181,461。將載體浸入石成金屬硅酸鹽的水溶液,或在》成金屬硅酸鹽的水溶液中電解。一般基片在鋁載體和覆蓋層之間包括中間層。通過用例如硅酸鹽、糊精、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物或水溶性重氮樹脂處理鋁載體,可形成中間層。包含(l)膦酸基和/或磷酸基和(2)酸基和/或包含亞烷基二醇或聚亞烷基二醇側鏈的基團的用作中間層物質的共聚物也公開于美國專利申請公布2006/00040l(Hayashi等人),其公開內容通過引用結合到本文中。包含(l)酸基和/或膦酸基和(2)用三個烷氧基和/或苯氧基取代的曱硅烷基的用作中間層物質的共聚物公開于美國專利7,049,048(Hunter等人),其公開內容通過引用結合到本文中。載體的背側(即與頂層和底層相對的一側)可用抗靜電劑和/或滑層或糙面層涂覆,以改善可成像元件的處理和"手感"。制備可成像元件術語"溶劑"和"涂料溶劑"包括溶劑的混合物。雖然一些或所有物質可能懸浮于或分散于溶劑而不是在溶液中,但仍使用這些術語。涂料溶劑的選擇取決于不同層中存在的組分的性質。通過用普通技術依次在基片的親水表面上施加底層,在底層上施加吸收劑層或阻擋層(如果存在),然后施加頂層,可制備可成像元件。底層可通過任何常規方法施加,如涂覆或層壓。一般成分分散或溶于適合的涂料溶劑中,并且所得混合物通過常規方法涂覆,如旋涂、棒涂、凹版涂覆、模涂或輥涂。底層可例如由甲基乙基酮、1-甲氧基丙-2-醇、y-丁內酯和水的混合物、二乙基酮、水、乳酸甲酯和,丁內酯的混合物以及二乙基酮、水和乳酸甲酯的混合物施加。包括阻擋層的可成像元件的制備公開于Patel的美國專利6,723,490,其公開內容通過引用結合到本文中。包括吸收劑層的可成像元件的制備公開于Shimazu的美國專利6,593,055,其公開內容通過引用結合到本文中。當阻擋層或吸收劑層均不存在時,頂層涂于底層上。為了防止底層溶解并與頂層混合,頂層應由其中底層基本不溶的溶劑涂覆。因此,頂層所用涂料溶劑應為其中頂層的組分充分溶解以便能夠形成頂層并且其中任何底層基本不溶的溶劑。一般涂覆底層所用溶劑比涂覆頂層所用溶劑更為極性。頂層可例如由二乙基酮和/或甲基異丁基酮、或二乙基酮和/或甲基異丁基酮與乙酸l-甲氧基-2-丙酯的混合物施加。也可用中間干燥步驟防止層的混合,即,在其上面涂覆頂層之前將底層干燥,以除去涂料溶劑。或者,通過常規擠出涂覆方法,由層組分的熔體混合物施加底層、頂層或這兩層。一般此熔體混合物不含揮發性有機溶劑。成像和處理可成像元件可利用在可成像元件吸收的波長區域發射調制近紅外或紅外輻射的激光或激光列熱成像。成像一般使用紅外輻射,尤其是約700nm至約1200nrn范圍的紅外輻射。成像很方便用在約830nm、約1056nm或約1064nm發射的激光進行。適合的市售成像裝置包括圖文^己錄才幾,^t口CREOTrendsetter(EastmanKodakCompany,Burnaby,BritishColumbia,Canada)、ScreenPlateRite4300型、8600型和8800型(Screen,RollingMeadows,Chicago,Illinois,USA)禾口GerberCrescent42T(GerberSystems,SouthWindsor,CT,USA)。或者,可用熱體使可熱成像元件熱成像,如包含熱印刷頭的常用裝置。適合的裝置包括至少一個熱頭,但通常包括熱頭列,如在熱敏傳真機和升華印刷機,GS618-400熱繪圖機(OyoInstruments,Houston,TX,USA)或VP-3500型熱敏印刷機(SeikoshaAmerica,Mahwah,NJ,USA)中使用的TDKModelNo.LV5416。成像產生成像的元件,成像的元件包括成像(曝光)區域和互補非成像(非曝光)區域的潛像。通過除去成像區域并露出下面基片的親水表面,成像的元件顯影形成印刷版或印版使潛像轉化成圖像。顯影劑可以為任何能夠穿透并除去頂層的曝光區域、下面的吸收劑層或阻擋層(如果存在)區域和下面的底層區域而不實質影響互補非曝光區域的任何液體或溶液。顯影進行足夠長時間,以除去顯影劑中頂層的曝光區域、下面的吸收劑層或阻擋層(如果存在)區域和下面的底層區域,但不能長得除去頂層的非曝光區域。因此,將曝光區域描述為在顯影劑中"可溶"或"可除去",因為它們在顯影劑中比非曝光區域更快除去、溶解和/或分散。一般底層溶于顯影劑,吸收劑層溶于或分散于顯影劑,而頂層分散于顯影劑。可用的顯影劑為pH約7或更高的水溶液。顯影劑的一般組分為表面活性劑、螯合劑(如乙二胺四乙酸的鹽)、有機溶劑(如節醇和苯氧基乙醇)和堿性組分(如無機硅酸鹽、有機硅酸鹽、氬氧化物或碳酸氬鹽)。一般含水堿性顯影劑為pH約8至約13.5的那些顯影劑,一般至少約11,優選至少約12。顯影劑可包含表面活性劑或表面活性劑的混合物。優選的表面活性劑包括烷基萘磺酸的堿金屬鹽、一般具有6至9個碳原子的脂族醇的硫酸單酯的堿金屬鹽和一般具有6至9個碳原子的堿金屬磺酸鹽。優選的堿金屬為鈉。表面活性劑或表面活性劑的混合物一般占顯影劑重量約0.5%重量至約15%重量,優選約3%重量至約8%重量。本領域的技術人員熟知,很多表面活性劑作為表面活性劑水溶液提供。這些百分率基于顯影劑中表面活性劑的量(即,表面活性劑溶液中排除水和其他惰性物質的活性成分的量)。顯影劑可包含緩沖系統,以保持pH相對恒定,一般約5.0至約12.0,優選約6.0至約11.0,更優選約8.0至約10.0。很多緩沖系統為本領域的技術人員所熟悉。一般緩沖系統包括例如水溶性胺(如單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或三異丙基胺)與磺酸(如笨璜酸或4-甲^酸)的組合;乙二胺四乙酸(EDTA)的四鈉鹽和EDTA的混合物;磷酸鹽的混合物,如磷酸單堿金屬鹽與磷酸三堿金屬鹽的混合物;及硼酸堿金屬鹽和硼酸的混合物。水一般為顯影劑的其余部分。一些顯影劑包含一種或多種有機溶劑。此類顯影劑包含有機溶劑或有機溶劑的混合物。顯影劑為單一相。因此,有機溶劑必須與水溶混,或至少在其加入顯影劑的程度可溶于顯影劑,以免發生相分離。顯影劑適合使用以下溶劑或這些溶劑的混合物苯酚與氧化乙烯和氧化丙烯的反應產物,如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇);千醇;乙二醇與具有6個或更少碳原子的酸的酯和丙二醇與具有6個或更少碳原子的酸的酯;和乙二醇與具有6個或更少碳原子的烷基的醚、二乙二醇與具有6個或更少碳原子的烷基的醚和丙二醇與具有6個或更少碳原子的烷基的醚,如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。可使用單一有機溶劑或有機溶劑的混合物。有機溶劑一般以顯影劑重量約0.5%重量至約15%重量濃度存在于顯影劑中,優選約3。/。重量至約5%重量。此類含有機溶劑的顯影劑一般具有約6.5至約11的pH,優選約6.5至約8.5。有用的市售溶劑基顯影劑包括ND-1顯影劑、956顯影劑和955顯影劑(EastmanKodakCompany)。也可使用由1份ND-1顯影劑和3-5份水組成的顯影劑。另一種有用的溶劑基顯影劑以下標識為顯影劑A,為726.39份水、6.64份單乙醇胺、34.44份二乙醇胺、177.17份PELEXB-L(烷基萘磺酸鈉陰離子表面活性劑,KaoCorp.,Chuo-ku,Tokyo,Japan)和55.36份千醇的混合物。其他有用的顯影劑為含水堿性顯影劑,如3000顯影劑和9000顯影劑(EastmanKodakCompany)。一般通過用足夠力對元件噴霧將顯影劑施加到前驅體上,以除去曝光的區域。或者,可在裝配有浸沒型顯影浴、用水清洗的部分、涂膠部分、干燥部分和電導率測量裝置的處理器中進行顯影,或者可用顯影劑涂刷成像的前驅體。在各情況下產生印刷版。顯影可方便地在市售噴涂處理器(如85NS(KodakPolychromeGraphics))或市售浸沒型處理器(如PK910MarkII處理器(KodakPolychromeGraphics))中進行。顯影后,印刷版用水清洗并干燥。可很方便地用紅外輻射器或用熱空氣進行干燥。干燥后,用涂膠液處理印刷版。涂膠液包含一種或多種水溶性聚合物,例如纖維素、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酰胺、聚乙烯基甲基醚、聚甲基丙烯酸羥乙酯、明膠和多糖如葡聚糖、普魯蘭、阿拉伯樹膠和藻酸。優選的物質為阿拉伯樹膠。也可烘烤經過顯影和涂膠的版,以增加版的運轉周期。可例如在約220。C至約24(TC烘烤約7分鐘至10分鐘,或者在120。C溫度烘烤30分鐘。工業應用本發明的可成像元件對印刷中遇到的印刷車間化學品和溶劑具有優良的耐性。可使它們熱成像并顯影,以形成平版印刷版。一旦可成像元件經成像并顯影形成平版印刷版,就可隨后通過將潤版液和平印油墨施加到其表面上的圖像來進行印刷。可由成像和顯影過程露出的親水基片的表面接納潤版液,而未由顯影過程除去的層的區域接納油墨。然后使油墨直接或用膠版印刷橡皮布間接轉印到適合的接收材料上(如布、紙、金屬、玻璃或塑料),以在其上提供所需的圖像印刷。可參考以下實施例觀察本發明的有利特性,這些實施例說明但不限制本發明。實施例語匯解釋<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>顯影劑A2包含6重量份水和1重量份以下組分:<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>合成聚合物H:聚合物H為如下制備的N-苯基馬來酰亞胺/甲基丙烯酰胺/甲基丙烯酸共聚物將55.37gN-苯基馬來酰亞胺、24.35g甲基丙烯酰胺、20.28g甲基丙烯酸、132g1,3-二氧雜環戊烷和100g乙醇加到裝配有溫度計、冷凝器、攪拌器和氮氣入口管的四頸反應器。在氮氣氣氛下將反應混合物加熱到約60°C,并攪拌1小時。加入O.lgAIBN,并使聚合進行20小時。在用5滴鹽酸酸化的2升水中沉淀聚合物,然后過濾。然后在1000ml乙醇/水(80/20)中洗滌聚合物,并在放入烘箱并于5(TC千燥至恒重之前再次過濾。合成聚合物5:用加熱套、攪拌器、溫度計、冷凝器和氮氣氣氛裝配500ml反應容器。將馬來酸酐(15.07g)、4-乙酰氧基苯乙烯(24.93g)和%g無水二氧雜環戊烷的混合物加入到容器中,并在氮氣氣氛下加熱到60°C。使氮氣打泡通過混合物1小時。然后從混合物移去氮氣入口管,并加入l.OlgAIBN。將反應混合物在60。C氮氣下加熱8小時。使反應混合物冷卻到室溫,并通過將反應混合物倒入2升乙醚/己烷(50/50體積)分離所得共聚物。將共聚物濾出,用乙醚/己烷洗滌數次,并在50。C干燥48小時。產量37g聚合物5。合成聚合物6:如下合成由50%摩爾苯乙烯和50%摩爾2,3-二甲基馬來酸酐衍生的聚合物6(1.72g,4%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(1000ml)。2.將所有反應物放入反應容器2,3-二甲基馬來酸酐(21.91g)、1,3-二氧雜環戊烷(452.09g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用41.91g1,3-二氧雜環戊烷稀釋18.09g苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入到反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65。C。5.將1.70克1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟#3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直到反應完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65。C。8.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到甲醇,以生成沉淀,將沉淀過濾,用甲醇洗滌,并再次過濾。10.在40。C干燥兩天。合成聚合物7:如下合成由50%摩爾苯乙烯和50。/。摩爾檸康酸酐衍生的聚合物7(7.97g,20%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(1000ml)。2.將所有反應物放入反應容器檸康酸酐(20.73g)、1,3-二氧雜環戊烷(453.27g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用40.73g1,3-二氧雜環戊烷稀釋19.27g苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65°C。5.將1.70克1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟#3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直至完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65。C。8.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到曱醇,以生成沉淀,將沉淀過濾,用甲醇洗滌,并再次過濾。10.在4(TC干燥兩天。合成聚合物8:如下合成由45%摩爾苯乙烯、5%摩爾4-甲基苯乙烯和50%摩爾馬來酸酐衍生的聚合物8(34.68g,87%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(簡0ml)。2.將所有反應物放入反應容器馬來酸酐(19.26g)和1,3-二氧雜環戊烷(454.6g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧雜環戊烷稀釋18.41g苯乙烯和2.32g4-甲基苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65。C。5.將1.70克1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟#3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直至完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65。C。8.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到乙醚,以生成沉淀,將沉淀過濾,用乙醚洗滌,并再次過濾。10.在40。C干燥兩天。合成聚合物9:如下合成由45%摩爾苯乙烯、5%摩爾a-甲基苯乙烯和50%摩爾馬來酸酐衍生的聚合物9(38.47g,96%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(1000ml)。2.將所有反應物放入反應容器馬來酸酐(19.26g)和1,3-二氧雜環戊烷(454.6g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧雜環戊烷稀釋18.41g苯乙烯和2.32ga-甲基苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65。C。5.將1.70克1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟#3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直至完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65。C。248.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到乙醚,以生成沉淀,將沉淀過濾,用乙醚洗滌,并再次過濾。10.在40。C干燥兩天。合成聚合物10:如下合成由45%摩爾苯乙烯、5%摩爾P-甲基苯乙烯和50%摩爾馬來酸酐衍生的聚合物10(31.43g,79%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(1000ml)。2.將所有反應物放入反應容器馬來酸酐(19.26g)和1,3-二氧雜環戊烷(454.6g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧雜環戊烷稀釋18.41g苯乙烯和2.32gP-甲基苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65。C。5.將1.70克1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟弁3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直至完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65°C。8.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到乙醚,以生成沉淀,將沉淀過濾,用乙醚洗滌,并再次過濾。10.在40。C干燥兩天。合成聚合物11:如下合成由40%摩爾苯乙烯、10%摩爾a-甲基苯乙烯和50%摩爾馬來酸酐衍生的聚合物11(38.47g,96%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(1000ml)。2.將所有反應物放入反應容器馬來酸酐(19.13g)和1,3-二氧雜環戊烷(454.6g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧雜環戊烷稀釋16.26g苯乙烯和4.61ga-甲基苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65°C。5.將1.70克1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟#3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直至完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65。C。8.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到乙醚,以生成沉淀,將沉淀過濾,用乙醚洗滌,并再次過濾。10.在40。C千燥兩天。合成聚合物12:如下合成由66.67。/。摩爾苯乙烯和33.33。/。摩爾馬來酸酐衍生的聚合物12(29.86g,75%收率)。1.用冷凝器、氮源、溫度計、攪拌器和加熱套裝配四頸圓底燒瓶(1000ml)。262.將所有反應物放入反應容器苯乙烯(5.15g)、馬來酸酐(12.80g)和1,3-二氧雜環戊烷(456.05g)。3.制備苯乙烯混合物溶液用37.95g1,3-二氧雜環戊烷稀釋22.05g苯乙烯。在時間0將3克此溶液加入反應容器。4.通過將氮氣打泡器連接到入口將氮源提供到反應溶液。將氮氣出口(冷凝器頂部)連接到Drechel瓶,并保持正氮壓。使溫度升高到60-65。C。5.將3.4g1%AIBN(在二氧雜環戊烷中)溶液加入到反應混合物。每小時重復此步驟一次。6.將1.5克從步驟#3制備的苯乙烯混合物溶液加入到反應混合物。每半小時(onehalfhour)重復此步驟一次,直至完成。7.在氮氣下將反應混合物攪拌20小時,同時保持恒定60-65。C。8.通過蒸餾從聚合物溶液脫去過量溶劑(約300g)。9.通過沉淀分離聚合物。在攪拌下將聚合物溶液緩慢加入到乙醚,以生成沉淀,將沉淀過濾,用乙醚洗滌,并再次過濾。10.在40。C千燥兩天。一般步驟制備可成像元件可成像元件由以下步驟制備。底層使用0.03英寸線繞棒,將在2-丁酮/l-甲氧基-2-丙醇/y-丁內酯/水(65:15:10:10重量比)的混合物中包含6.5%重量的84.5%重量聚合物A、15%重量IR染料A和0.5%重量Byk307的混合物的涂料溶液涂在基片A上,所得元件在135。C干燥35秒。底層的涂層重量為1.5g/m2。頂層使用0.006英寸線繞棒,將在二乙基酮/l-甲絲-2-丙醇乙酸酯(92:8,體積:體積)中包含7.1%重量的99.1%重量共聚物、0.4%重量乙基紫和0.5。/。重量Byk②307的混合物的涂料溶液涂在底層上,所得可成像元件在135匸干燥35秒。頂層的涂層重量為0.7g/m2。評價方法顯影劑滴試驗在22。C以30秒間隔使一大滴顯影劑Al置于頂層的表面上,長達5分鐘。記錄顯影劑侵蝕的第一可見跡象的時間和完全除去頂層的時間。耐溶劑性試驗在22。C以2分鐘間隔使一大滴BC(2-丁^乙醇,80%體積,在水中)或DAA(雙丙酮醇,80%體積,在水中)置于頂層的表面上,最長16分鐘。觀察發生頂層損傷所處的時間。評價除去頂層的量(1=未除去;10=完全除去)。成像和處理試驗使用繪點(plot)O和繪點12內部試驗;漢型,在CREOTrendsetter3244上以8瓦使可成像元件熱成像。成像能量為136、115、100、88和79mJ/cm2。使用顯影劑A和12秒浸入時間,使所得成像的可成像元件在30°CPK910II處理器(EastmanKodakCompany)中顯影。評價得到的平版印刷版的清除能力(成像區域被顯影劑完全除去的最低成像能量)和最佳分辨率(印刷版工作最佳的成像能量)。烘烤試驗將2xlO英寸可成像元件片放在230。CMathisLabdryer烘箱中8分鐘,風扇速度為1000rpm。將正像清除器PE3S(KodakPolychromeGraphics,JapanLtd)以30秒間隔施加到可成像元件,最長5分鐘。立即清洗可成像元件,并記錄圖像清除器除去層的時間。實施例1-4和比較實施例1制備包含苯乙烯/馬來酸酐共聚物的可成像元件,并如上所述評價。比較實施例l(Cl)為SWORDExcd,熱敏陽圖制版多層印刷版前驅體。結果顯示于表1和表2中。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>實施例5將自實施例2的可成像元件在40°〇和80%相對濕度的濕度箱放置1、3、7和10天。如上所述評價老化的可成像元件和未老化的可成像元件,不同之處在于在成像和處理試驗中使用126、119、112、105、100、95、90、86、82和79mJ/cm2的成像能量。結果在表4中給出。<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>實施例6和7如一般步驟所述評價在頂層中使用苯乙烯/馬來酸酐聚合物2和聚合物5制備的可成像元件,不同之處在于在顯影劑滴試驗中使用956顯影劑。結果在表5中給出。為了完全處理成像的可成像元件,實施例7需要更強機械攪拌。這通過在處理器中增加絨輥壓力來完成。表5<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>包含聚合物5的頂層能夠抵抗清除多達3分鐘。這表明在涂層發生某種程度交聯。交聯的涂層提供在印刷機上較佳的運轉周期。實施例8通過在基片A上涂覆兩個有機層制備可成像元件。第一涂層(底層)用0.012英寸線繞棒施加到基片A上。涂料作為甲基乙基酮/l-甲氧基-2-丙醇/丁內酯/水(50:30:10:10重量比)混合物的7.0%溶液施加,以產生1.5g/n^干燥涂層重量。將其在125。C溫度干燥35秒。第一涂層具有以下配方<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>第二有機涂層(頂層)用0.006英寸線繞棒施加到底層的頂部上。涂料作為二乙基酮/1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯(92:8重量/重量)混合物的6.0%溶液施加,以產生0.6g/n^干燥涂層重量。將其在125。C溫度干燥35秒。第二涂層包含100重量份RX-04。試驗使可成像元件經過以下試驗。i)顯影劑滴試驗,只有底層的樣品將"顯影劑A2"的滴置于在上面只涂覆底層的樣品上。以2秒間隔施加滴,最長20秒,然后立即用水清洗。記錄顯影劑完全除去底層所需的時間。ii)顯影劑滴試驗,涂有頂層的樣品將"顯影劑A2"的滴置于可成像元件的樣品上。以20秒間隔施加滴,最長120秒,然后立即用水清洗。記錄顯影劑開始侵蝕涂層所需的時間。iii)成像和處理試驗利用830nm輻射,在Creo3244Trendsetter上使可成像元件以圖像方式曝光。利用162、144、129、117、108、99、92、86、81和78mJ/cm2曝光能量,以8瓦應用"繪點0"內部試驗模型。使用顯影劑A2,在KodakPolychromeGraphicsPK910II處理器中在3(TC使成像的元件顯影,浸入時間為12秒。評價得到的印刷版的清除能力(曝光區域被顯影劑完全除去的最低能量)和最佳分辨率(印刷版工作最佳的成像能量)。iv)利用包含印刷試驗所用適合圖像的文件,在144mJ/cmM吏成像元件樣品成像。將樣品如上處理,并固定在KomoriSprintII28英寸平版印刷機上。印刷1200個印張。從這四個試驗觀察到以下結果i)顯影劑需要10秒溶于底層。ii)在頂層未看到來自顯影劑的侵蝕,甚至在2分鐘后。iii)成像元件在PK910II處理器中處理快速并且容易。清除能量為92mJ/cm2,最佳分辨率在144mJ/cm2曝光產生,在此能量曝光產生高分辨率的極佳圖像。iv)成像元件具有極佳的印刷適性。它印刷出高分辨率的圖像,并且在小于5張中滾壓達到全墨密度。實施例9-1132對于這些實施例的每個實施例,將底層制劑用0.012英寸線繞棒施加到基片A上,以產生約1.5g/n^干燥薄膜重量。制劑作為曱基乙基酮/l-甲tt-2-丙醇/丁內酯/水(50:30:10:10重量比)混合物的7.0%溶液施加,并在約135。C干燥35秒。制劑包含以下組分<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>通過將組分(重量份)溶于二乙基酮/l-甲氧基-2-丙醇乙酸酯(92:8重量/重量)的混合物,制備以下頂層制劑,并以6.0。/ow/w濃度使用。<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>將頂層制劑用0.006英寸線繞棒施加到經千燥的底層上,并在約135"干燥35秒。干燥涂層重量為約0.6g/m2。用以下試驗評價所得可成像元件[比較實施例2(C2)和實施例9-11]。i).顯影劑滴試驗在22。C以20秒間隔使一大滴顯影劑A2置于各可成像元件上,最長5分鐘。記錄顯影劑侵蝕的第一可見跡象和完全除去頂層所需的時間。ii).成像和處理試驗利用808nm輻射,在ScreenPTR4300印版記錄機上使可成像元件曝光。用比較實施例2內部試驗模型以1000rpm滾筒速度繪出能量系列。利用5%增量,以50%至90%能量曝光總共9個繪點模型。然后使用顯影劑A2,在KodakPolychromeGraphicsPK910II處理器中在3(TC使曝光的元件顯影,浸入時間為12秒。評價得到的印刷版的清除能力(曝光區域被顯影劑完全除去的最低能量)和最佳分辨率(印刷版工作最佳的成像能量)。所有可成像元件產生快速且容易通過PK910II處理器顯影的高分辨率圖像。<table>tableseeoriginaldocumentpage34</column></row><table>雖然已具體關于某些優選的實施方案詳細描述了本發明,但應了解,可在本發明的精神和范圍內進行變化和修改。權利要求1.一種陽圖制版可成像元件,所述可成像元件包括光熱轉化物質、基片、在基片上的可由堿性顯影劑除去的底層和在底層上的吸油墨頂層,其中在熱成像前,頂層可比底層慢得多的溶于堿性顯影劑,在熱成像以在元件中形成曝光區域和非曝光區域后,曝光區域比非曝光區域可更容易由堿性顯影劑除去,并且頂層包含聚合物質,所述聚合物質包含含酐的重復單元,所述聚合物質以基于頂涂層干燥重量至少60%重量的量存在。2.權利要求1的元件,其中所述頂層聚合物質以基于頂層干燥重量至少75%重量的量存在。3.權利要求1或2的元件,其中所迷頂層聚合物質以基于頂層干燥重量至少90。/。重量的量存在,并且作為唯一的聚合物粘合劑存在于頂層中。4.權利要求1至3中任一項的元件,其中所述頂層聚合物質包含由馬來酸酐或取代的馬來酸酐和苯乙烯或苯乙烯衍生物衍生的重復單元。5.權利要求1至4中任一項的元件,其中所述頂層聚合物質為馬來酸酐或取代的馬來酸酐與一種或多種式CHR-CR乂C6H4R"的單體的共聚物或其混合物,其中R和Ri獨立為氫或具有1至6個碳原子的烷基,W為氫、鹵素、羥基、氰基、氨磺酰、l至6個碳原子的烷基、1至6個碳原子的烷氧基、1至7個碳原子的酰基、1至7個碳原子的酰基氧基、1至7個碳原子的烷氧羰基。6.權利要求1至5中任一項的元件,其中所迷頂層聚合物質包含基于全部重復單元約40至約60%摩爾衍生自馬來酸酐的重復單元,其余重復單元衍生自苯乙烯或甲基苯乙烯,并且所述頂層聚合物質以基于頂層千燥重量至少95%重量的量存在。7.權利要求1至6中任一項的元件,其中所述底層包含光熱轉化物質,并且頂層基本不含光熱轉化物質。8.—種形成平版印刷版的方法,所述方法包括(A)使權利要求1至7中任一項的陽圖制版可成像元件以圖像方式曝光,以形成曝光區域和非曝光區域,(B)使成像的可成像元件與堿性顯影劑接觸,以選擇性除去曝光區域。9.權利要求8的方法,其中所述顯影劑為pH小于11的包含節醇、2-苯氧基乙醇或其組合的含有機溶劑的顯影劑。10.—種平版印刷版,所述平版印刷版通過權利要求8或9的方法獲得。全文摘要本發明公開用作平版印刷版前驅體的多層可熱成像元件。可成像元件包括基片、在基片上的底層和在底層上的頂層。頂層包含含酐基的聚合物。此聚合物以基于層的干燥重量至少60%的量存在于頂層中。可成像元件具有優良的抗印刷車間化學品性。文檔編號B41M5/36GK101547791SQ200680056504公開日2009年9月30日申請日期2006年11月28日優先權日2006年11月28日發明者A·P·基特森,J·黃,K·B·雷申請人:伊斯曼柯達公司