專利名稱：復(fù)層粘合體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種復(fù)層粘合體，它具有一個柔韌的輔助載體層和一個設(shè)置于輔助載體層的至少一面上的隔離層，該隔離層改良了在此呈平面接觸的功能層的完全解離或局部揭開。
所說明類型的復(fù)層粘合體，例如自粘的表面裝飾膜、不干膠標(biāo)簽、單面或雙面粘貼膠帶等等的保護(hù)膜。復(fù)層粘合體還可以僅僅是商業(yè)產(chǎn)品的一部分，例如信封不干膠封口的保護(hù)膜。復(fù)層粘合體還可以是自粘的傷口繃帶的保護(hù)膜。這些應(yīng)用實例的共同點是，功能層為一種壓力敏感的粘貼-或黏附物質(zhì)，而粘合體具有一載體層和一層保護(hù)膜，它可以避免粘貼物質(zhì)層面被污染或不希望的表面黏附。這種載體層和保護(hù)膜在應(yīng)用前先被揭去。
另外一種應(yīng)用情況是，在由熔體、溶液和/或分散體形成的載體層上，制成一個功能層，然后又將載體層立即或在后面的應(yīng)用中去除。在此例如可以提及的有多層矯正帶，其載體層上構(gòu)成有染色的覆蓋層，其上方大多形成一個粘貼層。這種薄片層用以覆蓋錯誤的書寫字符。此外，還可以列舉的有彩色轉(zhuǎn)印帶，例如熱轉(zhuǎn)印帶，其載體層上設(shè)置有彩色轉(zhuǎn)印層面。在印制過程中，例如通過加熱的印刷頭將彩色轉(zhuǎn)印層面的圖形由載體層上顯現(xiàn)出來，并且轉(zhuǎn)印到可吸收的基底上。
粘合體的柔韌性輔助載體層大多為紙張，但是存在一種使用薄膜基底的強(qiáng)烈趨勢，因為薄膜比紙張具有更大的堅固性，從經(jīng)濟(jì)的角度考慮，以及在卷筒時出于體積方面的原因，均可以減小柔韌性輔助載體層的厚度。為了易于解離輔助載體層和功能層，在輔助載體層和功能層之間構(gòu)成一個隔離層，它通常含有聚有機(jī)硅氧烷。薄膜基底在這里有其優(yōu)點，即與紙張相比其表面不為多孔性的，因此以其經(jīng)濟(jì)上的有利方式，可以只需要較少量的聚有機(jī)硅氧烷用以涂層。但是其較低的表面粗糙性同時顯示出應(yīng)用薄膜基底的一個主要缺點，因為平滑的載體層使涂層平滑。這種平滑的表面又會在使用時帶來麻煩。
在粘貼層被一載體層暫時覆蓋的情況下進(jìn)行應(yīng)用時，平滑的表面可使粘貼層與載體層完全接觸，但是這樣又使載體層需要很大地用力，才能將載體層從粘貼層解離開，這樣有可能撕破例如標(biāo)簽。
在某些應(yīng)用情況下，由液相在載體層上形成一個層面，此時可以觀察到，該層面的表面在揭下載體層以后呈現(xiàn)出不希望有的發(fā)光的外觀，這是因為其表面光滑。此外，轉(zhuǎn)印層面的平滑表面例如在矯正材料上還形成明顯的書寫痕跡。
US-PS 5 165 976有助于更好地理解以下闡述的本發(fā)明。該專利書說明了帶有釋解層的基底層。通過涂布由可硬化的硅酮體系和微粒狀成分所組成的一種乳劑、優(yōu)選為一種樹脂，可以獲得該釋解層。將硅酮體系在熱作用下進(jìn)行硬化處理。同時除去水分。因此，具有其解離作用可調(diào)節(jié)的釋解層用作基底層，尤其是當(dāng)稀釋層帶有涂敷的黏附劑時如此。優(yōu)選基底層為紙類。當(dāng)釋解層面中硅酮含量約為35重量％時，則硅酮處于連續(xù)相中，可以包繞分散的微粒。硅酮含量較低則不足以包繞微粒，因此，所產(chǎn)生的混合物的特性既由硅酮又由微粒所決定。因此釋解效應(yīng)也可以通過硅酮與微粒的比例、微粒的類型、硅酮與微粒之間的交互作用程度、硬化了的硅酮的交聯(lián)度和涂層重量來進(jìn)行調(diào)節(jié)。根據(jù)提示應(yīng)用一種“乳劑”對基底層涂層，可以推斷它總的來說為一種液態(tài)系統(tǒng)，也即，可乳化的分散微粒并非固態(tài)微粒，它們最終或多或少地包埋于和結(jié)合于硬化了的硅酮中。釋解層面中的硅酮含量在5-80重量％范圍之間，優(yōu)選在約20-40重量％范圍之間，基于上述二種成分的總重量計。總之得出的結(jié)論是，當(dāng)可乳化的微粒在總質(zhì)量中占有較大的分量時，反而起著與釋解效應(yīng)相反的作用，也即可乳化的微粒例如當(dāng)其允許劑量為95重量％時，完全不起釋解作用，而是起粘附作用。所提及過的微粒類型，例如丙烯酸樹脂或苯乙烯/丁二烯樹脂(SBR)，可以證明這一點。相反地，以下說明的本發(fā)明要求在隔離層中結(jié)合一種固態(tài)填充物質(zhì)，它不影響硅酮的特性，而是為了形成釋解層面和隔離層的粗糙表面。DD 299 522 A5在內(nèi)容上很大程度地類同于所說明的US-PS 5165 976。作為本發(fā)明的工藝技術(shù)背景還有以下印刷出版文件DE 2753 675 A1、DE 41 14 964 A1、DE 38 34 007 A1、DE 26 22 126 C3和“吸附”1984年，第9卷，第18/19頁。
通過按照本發(fā)明的方法解決了前面所列舉的現(xiàn)有技術(shù)中的問題，即隔離層含有一個連續(xù)相和一種微粒狀填充物質(zhì)，其濃度占隔離層的0.01-50重量％，在此填充物質(zhì)的表面完全被連續(xù)相所覆蓋，該連續(xù)相含有交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷，并且隔離層面向輔助載體層的表面具備Rt約為400-50000nm的粗糙深度和Ra約為40-5000nm的平均粗糙值。
通過并入填充物質(zhì)，隔離層面向輔助載體層的那一個表面變得粗糙，這樣便在橫斷面可見具有高低不平的輪廓(“山丘”和“山谷”)。
在一個實施形式中，功能層可以為具有光滑表面的一個層面。在這種情況下，功能層僅僅以其“山丘”與粗糙的隔離層接觸，這樣較小的接觸面使功能層易于從粘合體剝離。這種實施形式特別是在功能層為粘貼層的應(yīng)用中具有意義。該功能層尤其可以是膠粘物質(zhì)層、尤其是粘貼層、一種透明的或著色的塑料層，尤其是一種顏料上色的層，一種由一膠粘物質(zhì)層和一透明的或著色的、尤其是經(jīng)過顏料上色的層面所構(gòu)成的薄片層。在另外一種實施方式中，功能層與隔離層完全接觸。某一功能層例如矯正帶的覆蓋層，可以按照本發(fā)明相應(yīng)地調(diào)節(jié)成“亞光”至“透光”。換句話說，如果使小凸起和小山谷在填充物質(zhì)填充的硅酮層中更加明顯地突出，則與隔離層揭下分開后的層面會變得較更為亞光。當(dāng)隔離層的粗糙度較小時，則會明顯削弱亞光程度，還可以變成“發(fā)光”。
在功能層和隔離層解離后，功能層此時裸露的表面為隔離層表面的“負(fù)片”。因此可以得到一個亞光的或粗糙的功能層表面。這一點在載體層上由液相析出的層面中具有特殊意義，例如彩色轉(zhuǎn)印帶和多層矯正帶。在解離和揭下功能層后，在輔助載體層上剩余下隔離層。
所應(yīng)用的填充物質(zhì)類型并非關(guān)鍵。合適的填充物質(zhì)例如有碳酸鈣、硅藻土、礬土、空腔玻璃珠、硅酸鋁、熟石膏、碳酸鎂、PTFE和其它的聚合物微粒材料、滑石粉、方解石、纖維、石灰、云母、無定形二氧化硅、硅酸鹽、顏料等等?？晒┻x擇的填充物質(zhì)范圍寬廣，但是它應(yīng)該通過含有交聯(lián)的了聚有機(jī)硅氧烷的連續(xù)相而被完全包繞，以使填充物質(zhì)微粒的整個表面均被包繞。此外填充物質(zhì)不允許負(fù)面地影響聚有機(jī)硅氧烷的交聯(lián)過程。填充物質(zhì)還必須能夠通過連續(xù)相與柔韌的輔助載體層牢固固定。原則上有必要且也是本發(fā)明所力求的是，在最大程度的“釋解-效應(yīng)”和解離效應(yīng)的情況下完全包繞填充物微粒。如果要達(dá)到所謂的“受控釋解”和調(diào)節(jié)了的解離-和釋解效應(yīng)，則一小部分填充物質(zhì)表面、例如至多10％的填充物質(zhì)表面未被覆蓋是無所謂的。這種情況見于，例如，在總質(zhì)量中填充物質(zhì)材料成分相對較高，例如約50％或更高時。
優(yōu)選應(yīng)用填充物質(zhì)的濃度為占隔離層的約0.01-50重量％，優(yōu)選約0.1-33重量％，特別是約0.5-15重量％。還可以應(yīng)用油吸附作用小的材料。提高填充物質(zhì)的含量可以降低昂貴的硅酮層的成本。
填充物質(zhì)可以初級粒子的形式或者附聚物的形式存在，根據(jù)有效微粒直徑來確定。平均粒子大小優(yōu)選為0.01-20μm，尤其是約為0.05-10μm，其中以0.1-8μm范圍內(nèi)的平均粒子大小特別優(yōu)選。聚有機(jī)硅氧烷-填充物質(zhì)-混合物的涂布量通常在占固態(tài)物質(zhì)含量的約0.3-3.0g/m2的范圍內(nèi)，特別是至多1.5g/m2。
必須相應(yīng)于涂層厚度和所要達(dá)到的對吸附、粘合和層面剝脫值的作用效應(yīng)，選擇填充物質(zhì)濃度和微粒大小。通過使填充物質(zhì)的屈折指數(shù)與硅酮體系相匹配，可以獲得明亮的粗糙化的層面，而應(yīng)用不同的屈折指數(shù)可以獲得透光的表面。在透明表面不重要時，可以構(gòu)成透光的層面，以檢測涂層過程中層面上薄膜的層面覆蓋能力。為了檢測第二面上的覆蓋能力，可以應(yīng)用顏料或紫外線示蹤物。
如果隔離層中包含填充物質(zhì)微粒，則表示隔離層和功能層之間的界面粗糙度的粗糙深度Rt至少為約400，平均粗糙值Ra至少為40nm。按照本發(fā)明，Rt為約400-50,000nm，尤其是600-2500nm,Ra為約40-5000nm，尤其是約70-250nm。特別優(yōu)選Rt為至少650nm,Ra至少80nm。
如果粗糙深度Rt未超過約400nm，則在制備復(fù)層粘合體和復(fù)層粘合體薄膜時，或多或少地會出現(xiàn)阻滯效應(yīng)。如果粗糙深度Rt超過50,000nm，則結(jié)果是隔離層太厚和太粗糙，使得在以后的涂層過程中會喪失過多的材料，這些過多的材料擠入特別粗糙隔離層的深谷中。在平均粗糙值Ra的范圍條件下，應(yīng)做出相應(yīng)的權(quán)衡。
粗糙深度Rt表示一種表面輪廓的基底輪廓和覆蓋輪廓之間的距離，也即最大的山丘-山谷之間的距離。平均粗糙值Ra為覆蓋輪廓和基底輪廓之間的平均距離絕對值，后者也稱為CLA(中心線平均值)，也即輪廓離中線偏差距離的算術(shù)平均值。適合于本發(fā)明目的的是，借助于一種FORM TALYSURF LASER(由RANK TAYLOR HOBSON公司可得)的方法分別求得Rt和Ra。按照BS 1134進(jìn)行粗糙度的測定。
隔離層的平均層厚優(yōu)選為至多約3g/m2，尤其是至多約1.5g/m2(與固態(tài)物質(zhì)含量相關(guān))。層厚數(shù)據(jù)“g/m2”表示實際的和商業(yè)的涂布量。這種說明通常見于膠片基底。它表示，例如優(yōu)選約0.5-2μm的層厚，則對應(yīng)于0.5-2g/m2的涂布量(基于干品物質(zhì)和干燥了的成品涂布量計)。
商業(yè)聚有機(jī)硅氧烷可分為含溶劑的、還有含水的體系，以及不含溶劑的體系，它們可以在熱力下、通過紫外光、通過電子射線進(jìn)行硬化和交聯(lián)處理。為了在柔韌性載體層上涂布含有這種聚有機(jī)硅氧烷的層面，可以采用經(jīng)典的方法如深壓法(直接-、間接-、多滾筒輥壓涂布)、Meyer-Rakel、反向輥壓涂層法、多次輥壓涂層法(例如5次輥壓涂層)等等。聚有機(jī)硅氧烷層面涂層完成以后，接著進(jìn)行交聯(lián)。
可交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷系統(tǒng)為流動性的材料，它們含有功能基團(tuán)，在此有多種交聯(lián)方法。它們尤其可以進(jìn)行熱處理法、通過紫外光或通過電子射線產(chǎn)生的交聯(lián)。此外還可以添加交聯(lián)催化劑，如過氧化物、偶氮化合物或金屬有機(jī)化合物。技術(shù)上很具有意義的是，借助于自由基形成劑進(jìn)行所謂的過氧化物交聯(lián)，例如雙-(2,4-二氯苯甲?；?-過氧化物、過氧化二苯甲酰、過氧化二枯基、叔-丁基過苯甲酸或2,5-雙-(叔-丁基-過氧)-2,5-二甲基己烷。
作為可交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷系統(tǒng)，此外還可以考慮，每摩爾至少含有二個在硅原子上結(jié)合的鏈烯基或芳香鏈烯基的聚有機(jī)硅氧烷。例如聚烷基鏈烯基硅氧烷或聚芳香基鏈烯基硅氧烷。在這種情況下，烷基中碳原子的數(shù)目優(yōu)選在1-18的范圍內(nèi)。烷基或芳香基的優(yōu)選例子為甲基和苯基。鏈烯基的例子為乙烯基和烯丙基。聚烷基鏈烯基硅氧烷和聚芳香基鏈烯基硅氧烷中烷基和芳香基對鏈烯基的摩爾比優(yōu)選在0.02-0.3摩爾％的范圍內(nèi)。作為交聯(lián)催化劑可以應(yīng)用鉑類催化劑，例如氯鉑酸，以促進(jìn)鏈烯基的聚合作用。
含有乙烯基的聚有機(jī)硅氧烷還可以用硫交聯(lián)。能夠交聯(lián)的硅酮中的乙烯基含量為1-4摩爾％，硫含量為2％。
聚有機(jī)硅氧烷也可以通過硅-氫在雙鍵上的加成反應(yīng)被交聯(lián)。所應(yīng)用的催化劑為貴金屬鹽和-復(fù)合物，其中鉑-衍生物具有最重要的意義。
有巰基官能的聚有機(jī)硅氧烷可以在光引發(fā)劑存在的條件下，通過HS-基團(tuán)加成于烯丙基和乙烯基上，進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)。優(yōu)選的巰基烷基殘基具有的碳原子數(shù)目在1-4范圍內(nèi)，而有巰基官能的聚有機(jī)硅氧烷的其它有機(jī)殘基優(yōu)選具有2-3個碳原子或者為苯基。用于引起反應(yīng)的甲基乙烯基聚有機(jī)硅氧烷優(yōu)選每摩爾具有約3個乙烯基，其所應(yīng)用的劑量應(yīng)使每個結(jié)合了硅的巰基烷基殘基有0.2-1.0個硅-結(jié)合的乙烯基殘基。任選可以采用通常的膠凝抑制劑，例如二羥基苯酚和其烷基衍生物，以及任選采用一種感光劑，例如芳香酮如乙酰苯酮或苯并苯酮，或者采用偶氮化合物，例如偶氮二異丁腈。合適的系統(tǒng)例如可見DE-PS 26 22 126中。
也可以以光化學(xué)地例如在由六氟磷酸對-氯苯重氮鹽所產(chǎn)生的路易斯酸存在的條件下，對有環(huán)氧官能的聚有機(jī)硅氧烷進(jìn)行交聯(lián)。含有丙烯酰基的硅酮也可以按照光化學(xué)方法進(jìn)行交聯(lián)。
優(yōu)選的方法是應(yīng)用紫外射線。原因是只需應(yīng)用微量熱力，薄膜因此不會有變形的危險，在此僅應(yīng)用更小的厚度。紫外線交聯(lián)的系統(tǒng)通常具有較低的黏度，因此易于用添加劑改性。交聯(lián)機(jī)制對添加的添加劑非常的不敏感?？梢蕴砑虞^大劑量的填充物質(zhì)，而不會影響涂層能力。
在用γ-射線和β-射線交聯(lián)的過程中，產(chǎn)生游離基團(tuán)。還可以用電子束替代β-射線進(jìn)行處理。
縮合交聯(lián)在聚有機(jī)硅氧烷的交聯(lián)中同樣地起作用。一個結(jié)合在硅上的羥基與一個結(jié)合在硅上的基團(tuán)R反應(yīng)，后者例如可以是烷氧基-、酰氧基-、氨基-、羥基-、肟基-或酰氨基，伴有HR的分裂。根據(jù)交聯(lián)劑活性的不同，反應(yīng)可以用或不用催化劑進(jìn)行，這樣構(gòu)型成一種雙成分體系或者一個單成分體系。市售常見的交聯(lián)劑大多由硅酸酯和錫-催化劑組成，例如雙乙酸二丁基錫鹽、馬來酸二辛基錫、辛酸錫(Ⅱ)鹽或者這些成分的反應(yīng)產(chǎn)物、或者多價的異氰酸鹽。
在堿性催化劑或者錫-和鉑-化合物存在的條件下，在伴隨產(chǎn)氫下，硅-氫-基團(tuán)可以與硅烷醇基團(tuán)反應(yīng)。
通過選擇聚有機(jī)硅氧烷起始材料的類型和劑量，可以調(diào)節(jié)隔離層的釋解性能。如果粘合層具有較多的功能層/隔離層-界面，它們將按照一定的順序揭下，這一點特別重要。這種情況經(jīng)常出現(xiàn)于將連接材料卷成卷筒時。如果功能層對下一卷的黏附力小于其面向的隔離層的黏附力，則不能順序展開卷筒。為此目的，優(yōu)選在輔助載體層的背面構(gòu)成另一隔離層，它較為輔助載體層和功能層之間存在的釋解性(具有可控的釋解度的隔離層)具有更高的釋解性能(100％釋解能力的隔離層)。同樣地，按照本發(fā)明可優(yōu)選地獲得該背面的隔離層。還優(yōu)選形成這種背面隔離層，以使粘合體易于在滾筒和平滑表面上轉(zhuǎn)運(yùn)。
輔助載體層優(yōu)選為塑料薄膜，尤其是由熱塑材料制得的薄膜。合適的還有紙載體層和現(xiàn)有技術(shù)的其它已知載體材料。特別合適的塑料薄膜例如由熱塑性聚酯或聚烯烴形成。對此特別合適的起始材料還有聚對苯二甲酸亞烷基酯、例如聚對苯二甲酸亞乙基酯、聚對苯二甲酸亞丁基酯或聚(對苯二酸1,4-環(huán)己烷二亞甲基酯)、聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚異丁烯、聚苯乙烯、纖維素衍生物、特別是乙酸纖維素、丁酸纖維素和丙酸纖維素、和例如聚乙烯/聚丙烯的共擠出物、和例如紙張薄片和聚乙烯、聚乙酸乙烯基酯、聚氯乙烯、聚乙烯基醇、聚乙烯基丁醛、聚酰胺、乙烯-乙酸乙烯基酯-共聚物、PEN、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯-共聚物(ABS)、丙烯腈/苯乙烯/丙烯酸酯-共聚物(ASA)、肉桂/丙烯腈-共聚物(SAN)、聚羧酸酯、聚酰亞胺、PEEK、尼龍。優(yōu)選薄膜的厚度為約2-400μm，特別是約3.5-100μm，特別優(yōu)選約3.5-50μm。
在用紙載體層制備用硅酮涂層的粘合材料時表明，由于紙張夾雜空氣，在滾筒系統(tǒng)上(任意的涂敷系統(tǒng))裝備時不會出現(xiàn)明顯的問題。另外合適的是，用合成材料載體層和薄膜載體層取代紙載體層，它不夾雜空氣，而是具有光滑的表面。這里出現(xiàn)的一種“橡皮擦效應(yīng)”，使得涂層道不按照預(yù)期的方式通過涂層系統(tǒng)的各種滾筒?；谶@種效應(yīng)，例如可能會出現(xiàn)不利的阻滯。如果將材料送入Jumbo滾筒，還會在薄膜內(nèi)出現(xiàn)不希望的張力，由此部分抵消了涂層薄膜的預(yù)期“平整性”(起皺紋)。如果以后將用例如膠粘物質(zhì)對該連接薄膜和薄膜進(jìn)行涂層，這種不希望有的現(xiàn)象還將繼續(xù)產(chǎn)生不利影響，尤其是用聚烯烴薄膜涂層時，它與例如聚酯薄膜相比較具有更高的彈性，因而會出現(xiàn)這種現(xiàn)象。通過按照本發(fā)明加入顏料，完全消除了這些問題。
本發(fā)明此外還具有以下優(yōu)點通過隔離層的表面粗糙性，避免了或者起碼減少了已知連接體隔離層的多種缺點。在滑動固定存在的表面或滾筒時，明顯減少了與按照本發(fā)明粘合體的接觸面，這樣明顯降低了摩擦彈力的產(chǎn)生。這樣，隔離層在靜態(tài)表面具有更好的滑動性，導(dǎo)致靜電負(fù)荷減小和由此而產(chǎn)生的問題減少，避免了表面外薄膜由于電子靜荷出現(xiàn)的氧化，和因此引起的涂層時的不均勻性。在沿著固定的表面展開或卷滾時，明顯減少了與本發(fā)明粘合體的接觸面，因而抑制了摩擦彈力的形成。
制備本發(fā)明粘合體時更容易在滾筒上或沿著平滑表面轉(zhuǎn)移輔助載體層。當(dāng)應(yīng)用本發(fā)明粘合體暫時覆蓋粘貼層時，該粘貼層僅僅與粗糙隔離層的“山丘”接觸，較小的接觸面使粘合體易于剝離和易于釋解開。在載體層上設(shè)置由熔體、溶液和/或分散體形成的功能層的應(yīng)用情況下，可以在揭下載體層后形成預(yù)期的功能層亞光表面?？梢粤信e的實例如用以覆蓋錯誤書寫符號的多層改錯貼帶。在揭下輔助載體層后裸露的功能層表面為隔離層表面的“負(fù)片”。由此獲得亞光或粗糙的功能層表面。顯微鏡下粗糙的表面在觀察者看來是柔和亞光的。例如在改錯貼帶的情況下，可以重新書寫，在用墨水書寫時減少了甚至完全消除了模糊不清的危險，尤其是容易用鉛筆書寫，因為粗糙表面更易于磨下鉛筆芯。
經(jīng)過證明，本發(fā)明特別的優(yōu)點是，與不含填充物質(zhì)的隔離層相比較，可以明顯地減少聚有機(jī)硅氧烷的使用劑量，它具有重要的成本優(yōu)點。一個突出的優(yōu)點是，復(fù)層粘合體的功能層稍許用力即可揭開，在揭開后功能層顯示預(yù)期的表面亞光度。另外一個突出的優(yōu)點是，已經(jīng)如前所述，按照本發(fā)明的復(fù)層粘合體非常容易在卷筒上或固定表面上滑動，例如在色帶盒內(nèi)或滾卷儀內(nèi)。應(yīng)該強(qiáng)調(diào)指出的是，本發(fā)明改進(jìn)了本文開頭描述的現(xiàn)有技術(shù)的所有學(xué)說。因此這些已知的學(xué)說經(jīng)過本發(fā)明改進(jìn)后，同樣地成為本發(fā)明的目的。
此外利用隔離層的表面粗糙性還具有優(yōu)點，即可以調(diào)節(jié)控制轉(zhuǎn)印粘貼層的起始黏著。這一點在圖3和4中圖示表示。上面顯示了粘貼層轉(zhuǎn)移至紙載體層2上，其中在圖3中，粘貼層1由通常的基底材料4與平滑隔離層3釋解開，而在圖4中，粘貼層1與本發(fā)明粗糙化處理的隔離層3釋解開。因為與第二載體層的接觸面局限于粘貼層的“山尖”，所以降低了轉(zhuǎn)移膠粘物質(zhì)層的粗糙面的迅即粘貼。這樣，例如當(dāng)?shù)谝淮味ㄎ徊粶?zhǔn)確時，可以揭開重新定位。在按壓時，將膠粘的溶化膠層一起按壓，以使如圖3所示達(dá)到相同的最終膠粘力。
通過后附的圖和以下實施例將進(jìn)一步闡明本發(fā)明。
圖1表示一種本發(fā)明的實施方案，具有光滑表面的功能層1僅僅與復(fù)層粘合體2的粗糙的隔離層2.1的“山丘”接觸，該粘合體2還具有一個柔韌性輔助載體層2.2，這樣便形成了充氣的中間腔隙3。微小的接觸面4使功能層易于從粘合體2上釋解開。隔離層包括一個含有交聯(lián)了的聚有機(jī)硅氧烷的連續(xù)相2.1.1，和一個微粒狀填充物質(zhì)2.1.2。
圖2表示粗糙的功能層10，它與隔離層2.1完全接觸，該隔離層包括一個含有交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷的連續(xù)相2.1.1，和一個微粒狀填充物質(zhì)2.1.2。隔離層2.1和輔助載體層2.2共同構(gòu)成本發(fā)明的粘合體2。由功能層與隔離層釋解開后(如圖2左側(cè)所示)，現(xiàn)在裸露的功能層表面成為隔離層表面的“負(fù)片”。由此獲得功能層的亞光的和粗糙的表面。
在以下實施例中，通過混合各種給定的組成成分，制備涂層物質(zhì)。通過來回涂抹，將它們涂布于厚度為20μm的聚酯薄膜上。將實施例1-3所獲得涂層進(jìn)行紫外線-硬化處理。將實施例4的硅酮涂層采用電子射線進(jìn)行硬化處理。將實施例5-7的涂層進(jìn)行熱硬化處理，方法是將它們在110℃下加熱10秒鐘。接著按照ASTM D1894/87測定所獲得的載體層材料的摩擦系數(shù)。其較低的摩擦系數(shù)值說明在轉(zhuǎn)移至滾筒和平滑表面時摩擦力小，并導(dǎo)致與之相關(guān)的、說明書中闡明的優(yōu)點。這種實施例形式具有優(yōu)點，當(dāng)帶有隔離層的柔韌輔助載體層的二個面被涂層時，與功能層不接觸的粘合體的背面也可以設(shè)置一個隔離層。實驗獲得的粗糙深度Rt在約400-50000nm的范圍內(nèi)，而平均粗糙值在約40-5000nm的范圍內(nèi)。
實施例1-不含填充物質(zhì)(紫外線系統(tǒng))的100％釋解的隔離層-對照實施例能起加成反應(yīng)的不含溶劑的甲基聚硅氧烷紫外線9500通用硅酮公司 15.0重份紫外線9400通用硅酮公司 15.0重份光引發(fā)劑 紫外線9380C通用硅酮公司 0.6重份黏附摩擦系數(shù)-*)滑動摩擦系數(shù)-*)-*)該數(shù)值不在測定范圍內(nèi)，數(shù)值＞3.0。
實施例2-含填充物質(zhì)(可紫外線硬化處理)的100％釋解的隔離層能起加成反應(yīng)的不含溶劑的甲基聚硅氧烷紫外線9500通用硅酮公司15.0重份紫外線9400通用硅酮公司15.0重份光引發(fā)劑 紫外線9380C 通用硅酮公司0.6重份二氧化硅，微粒Syloid244Grace1.2重份直徑約2μm 股份有限公司黏附摩擦系數(shù)0.27滑動摩擦系數(shù)0.28實施例3-含填充物質(zhì)(可紫外線硬化處理)的受控釋解的隔離層能起加成反應(yīng)的不含溶劑的甲基聚硅氧烷紫外線9500 通用硅酮公司 15.0重份紫外線9400 通用硅酮公司 15.0重份調(diào)節(jié)劑的釋解 紫外線9430 通用硅酮公司 70.0重份光引發(fā)劑 紫外線9380C 通用硅酮公司 2.0重份二氧化硅，微粒Aerosil380 Degussa公司 3.0重份直徑約7μm黏附摩擦系數(shù)0.18滑動摩擦系數(shù)0.23
實施例4-含填充物質(zhì)(可電子射線硬化處理)的100％釋解的隔離層能起加成反應(yīng)的不含溶劑 TH Goldschmidt的甲基聚硅氧烷RC-450股份公司100重份無定形二氧化硅，微粒 SyloidGrace股份 2重份直徑約3μmED3有限公司黏附摩擦系數(shù)0.22滑動摩擦系數(shù)0.28實施例5-含填充物質(zhì)(熱硬化處理)的100％釋解的隔離層能起加成反應(yīng)的、預(yù)催化的、不含溶劑的、帶有功能基團(tuán)的聚硅氧烷 Dow 7702Dow Corning公司 100重份交聯(lián)劑 Dow 7215Dow Corning公司 6重份純二氧化硅，微粒直徑約4-8μm TK900 Degussa公司 2重份黏附摩擦系數(shù)0.24滑動摩擦系數(shù)0.26實施例6-含填充物質(zhì)(熱硬化處理)的受控釋解的隔離層能起加成反應(yīng)的不含Wacker溶劑的甲基聚硅氧烷 Dehesive 920股份有限公司 27.0重份釋解調(diào)控劑 CRA 17 Wacker 33.0重份股份有限公司交聯(lián)劑交聯(lián)劑24Wacker 2.4重份股份有限公司催化劑催化劑OLWacker 1.05重份股份有限公司黏附劑HF86Wacker 0.27重份股份有限公司疏水石英灰塵，HDK H-15Wacker 0.60重份微粒直徑約4μm股份有限公司黏附摩擦系數(shù)0.30滑動摩擦系數(shù)0.33實施例7-含填充物質(zhì)(熱硬化處理)的100％釋解的隔離層能起縮聚反應(yīng)的聚 Wacker甲基聚硅氧烷 Dehesive 810 股份有限公司15.0重份溶劑 白酒精 84.0重份交聯(lián)劑 V83 Wacker 0.7重份股份有限公司催化劑 C80 Wacker 0.3重份股份有限公司硅酸鋁礦土， Huber 95 Huber公司 0.3重份微粒直徑約0.4μm黏附摩擦系數(shù)0.30滑動摩擦系數(shù)0.權(quán)利要求
1．復(fù)層粘合體，它具有一個柔韌的輔助載體層和一個設(shè)置于輔助載體層的至少一面上的隔離層，該隔離層改良了在此呈平面接觸的功能層的完全解離或局部揭開性能，其特征為，該隔離層含有一個連續(xù)相和一種微粒狀填充物質(zhì)，后者的濃度占隔離層的0.01-50重量％，在此填充物質(zhì)的表面完全被連續(xù)相所覆蓋，該連續(xù)相含有交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷，并且隔離層面向輔助載體層的表面具備約400-50000nm的粗糙深度Rt和約40-5000nm的平均粗糙值。
2．按照權(quán)利要求1的復(fù)合粘合體，其特征為，隔離層的平均層厚為至多約3g/m2(基于干態(tài)的固態(tài)物質(zhì)計)，尤其是0,05-2g/m2。
3．按照權(quán)利要求1或2的復(fù)合粘合體，其特征為，填充物質(zhì)的微粒大小為約0.01-20μm。
4．按照權(quán)利要求3的復(fù)合粘合體，其特征為，填充物質(zhì)的微粒大小在約0.05-10μm的范圍內(nèi)。
5．按照權(quán)利要求1或2的復(fù)合粘合體，其特征為，填充物質(zhì)的平均微粒大小在約0.1-8μm的范圍內(nèi)。
6．按照權(quán)利要求1至5之一的復(fù)合粘合體，其特征為，粗糙深度Rt為約600-2500nm，平均粗糙值Ra約77-250nm。
7．按照權(quán)利要求1至6之一的復(fù)合粘合體，其特征為，粗糙深度Rt至少為約650nm，平均粗糙值Ra至少約80nm。
8．按照權(quán)利要求1至7之一的復(fù)合粘合體，其特征為，微粒狀填充物質(zhì)包括碳酸鈣、硅藻土、礬土、空腔玻璃珠、硅酸鋁、熟石膏、碳酸鎂、構(gòu)成微粒的聚合物材料、尤其是PTFE、滑石粉、纖維、方解石、石灰、云母、無定形二氧化硅和/或硅酸鹽。
9．按照權(quán)利要求1至8之一的復(fù)合粘合體，其特征為，輔助載體層為塑料薄膜。
10．按照權(quán)利要求9的復(fù)合粘合體，其特征為，塑料由熱塑性聚酯和/或聚烯烴形成。
11．按照上述權(quán)利要求之一的復(fù)合粘合體，其特征為，通過聚有機(jī)硅氧烷的自由基交聯(lián)，以制備交聯(lián)了的聚有機(jī)硅氧烷，它每摩爾至少含有二個在硅原子上結(jié)合的鏈烯基。
12．按照權(quán)利要求1至11之一的復(fù)合粘合體，其特征為，通過使一種含有結(jié)合于硅-原子上的氫原子的聚有機(jī)硅氧烷與一種含有結(jié)合于硅-原子上的鏈烯基的聚有機(jī)硅氧烷交聯(lián)，獲得交聯(lián)了的聚有機(jī)硅氧烷。
13．按照權(quán)利要求1至11之一的復(fù)合粘合體，其特征為，交聯(lián)了的聚有機(jī)硅氧烷由含有可水解成硅烷醇基的基團(tuán)的一種聚有機(jī)硅氧烷制備。
14．按照權(quán)利要求1至13之一的復(fù)合粘合體，其特征為，它在隔離層上還具有一個功能層。
15．按照權(quán)利要求14的粘合體，其特征為，功能層為膠粘物質(zhì)層、透明的或著色的塑料層、尤其是經(jīng)過顏料上色的塑料層、由膠粘物質(zhì)層和透明的或著色的、尤其是經(jīng)過顏料上色的層所構(gòu)成的薄片層。
16．制備按照權(quán)利要求1至14之一的復(fù)層粘合體的方法，其中將由一種含有可交聯(lián)基團(tuán)的聚有機(jī)硅氧烷與一種微粒狀填充物質(zhì)所形成的混合物按照本身已知的方法涂敷于一種柔韌性輔助載體層上，接著對該聚有機(jī)硅氧烷進(jìn)行交聯(lián)。
17．按照權(quán)利要求15的方法，其特征為，可以通過熱處理、借助于紫外光或者電子射線進(jìn)行交聯(lián)處理。
全文摘要
本文說明了一種復(fù)層粘合體，它具有一個柔韌的輔助載體層和一個設(shè)置于輔助載體居的至少一面上的隔離層，該隔離層改良了在此呈平面接觸的功能層的完全解離－或局部揭開性能。其特征為，隔離層含有一個連續(xù)相和一種微粒狀填充物質(zhì)，其濃度占隔離層的0.01－50重量%，在此填充物質(zhì)的表面完全被連續(xù)相所覆蓋，該連續(xù)相含有交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷，并且隔離層面向輔助載體層的表面具備約400－50000nm的粗糙深度Rt和約40－5000nm的平均粗糙值Ra。很小地用力即可將此功能層由載體層揭開，并且在由載體層揭開后還具有預(yù)期的亞光表面。
文檔編號B32B27/28GK1238722SQ97180076
公開日1999年12月15日 申請日期1997年11月5日 優(yōu)先權(quán)日1996年11月8日
發(fā)明者I·W·霍加斯, R·I·威爾金森, R·F·羅斯威爾 申請人:佩利坎蘇格蘭有限公司