一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，它的組成包括玻璃基片、第一介質層、第二介質層、第三介質層、第一減反射層、第二減反射層、第三減反射層、第四減反射層、第一保護層、第二保護層、第三保護層、第四保護層、第一功能層銀層、第三功能層銀層。該鍍膜玻璃采用了雙層功能層銀層并通過控制各膜層的厚度實現了可鋼雙銀低輻射的效果。本實用新型可經受鋼化高溫，滿足切磨、鋼化的需求，并且可以保證長期運輸、儲存過程中不易劃傷、氧化，可實現大面積生產。
【專利說明】一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及玻璃鍍膜【技術領域】，尤其是涉及一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術】
[0002]目前，為了滿足對自然采光并且節能建筑玻璃幕墻的需求，低輻射鍍膜玻璃存在鋼化易脫膜氧化、透光率低、遮陽效果不佳、不易大面積生產的問題，開發了此更低輻射率、遮陽性能好的可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃產品。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的在于解決雙銀低輻射鍍膜玻璃鋼化易脫膜氧化、遮陽性能不佳、不易大面積生產的問題。
[0004]本實用新型通過以下技術方案得以實現:
[0005]一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片、第一介質層、第一減反射層、第一保護層、第一功能層銀層、第二保護層、第二減反射層、第二介質層、第三減反射層、第三保護層、第三功能層銀層、第四保護層、第四減反射層、第三介質層。
[0006]玻璃基片作為載體，第一介質層、第二介質層、第三介質層為耐腐蝕、耐高溫、高硬度的氮化硅材料，第一保護層、第二保護層、第三保護層、第四保護層為鎳鉻合金，第一減反射層、第二減反射層、第三減反射層、第四減反射層為有低折射率屬性的高純氧化鋅鋁、第一功能層銀層、第三功能層銀層，按示意圖順序依次濺射在玻璃基片上。
[0007]生產工藝方式為真空磁控濺射，各膜層厚度控制精準，均勻性好、致密性好，鋼化不易氧化脫膜，輻射率低至0.03左右，鋼化后可見光透光率不低于60%，且產品在耐摩擦、耐水洗、抗氧化等方面均能滿足生產要求本實用新型有益之處在于:
[0008]本實用新型的可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃解決了鋼化易脫膜氧化、遮陽性能不佳、不易大面積生產的問題，具備更通透、更舒適的可見光透過，產品在耐摩擦、耐水洗、抗氧化等方面均能滿足生產要求。
[0009]一種真空磁控濺射可鋼高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片、第一介質層、第一減反射層、第一保護層、第一功能層銀層、第二保護層、第二減反射層、第二介質層、第三減反射層、第三保護層、第三功能層銀層、第四保護層、第四減反射層、第三介質層，其中:
[0010]玻璃基片為載體，第一介質層、第一減反射層、第一保護層、第一功能層銀層、第二保護層、第二減反射層、第二介質層、第三減反射層、第三保護層、第三功能層銀層、第四保護層、第四減反射層、第三介質層為濺射在玻璃基片(I)上的納米級膜層。
[0011]第一功能層銀層、第三功能層銀層是實現低輻射功能的主要膜層，第一保護層、第二保護層、第三保護層、第四保護層為保護第一功能層銀層、第三功能層銀層的必備層;第一減反射層、第二減反射層、第三減反射層、第四減反射層為實現高可見光透光率的重要膜層。
[0012]所述的玻璃基片厚度范圍為3?19毫米。
[0013]所述的第一保護層、第二保護層、第三保護層、第四保護層成分為鎳鉻合金。
[0014]所述第一介質層、第二介質層、第三介質層成分為氮化硅。
[0015]所述第一減反射層、第二減反射層、第三減反射層、第四減反射層成分為高純氧化鋅鋁。
[0016]根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于采用了真空磁控濺射方式濺射出均勻致密的納米級銀層，把玻璃的輻射率由0.85降至0.03左右，鋼化后可見光透光率不低于60%，且產品在耐摩擦、耐水洗、抗氧化等方面均能滿足生產要求。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0017]下面將結合實施例和附圖對本實用新型作進一步的詳細描述:
[0018]圖1為本實用新型的結構示意圖；
[0019]圖2為本實用新型的膜層成分示意圖。
【具體實施方式】
[0020]為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0021]如圖1所示，一種真空磁控濺射可鋼高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片1、第一介質層2、第一減反射層3、第一保護層4、第一功能層銀層5、第二保護層6、第二減反射層7、第二介質層8、第三減反射層9、第三保護層10、第三功能層銀層11、第四保護層12、第四減反射層13、第三介質層14，其中:
[0022]玻璃基片I為載體，質層12、第一減反射層3、第一保護層4、第一功能層銀層5、第二保護層6、第二減反射層7、第二介質層8、第三減反射層9、第三保護層10、第三功能層銀層11、第四保護層12、第四減反射層13、第三介質層14為濺射在玻璃基片I上的納米級膜層。
[0023]第一功能層銀層5、第三功能層銀層11是實現低輻射功能的主要膜層，第一保護層4、第二保護層6、第三保護層10、第四保護層12為保護第一功能層銀層5、第三功能層銀層11的必備層；第一減反射層3、第二減反射層7、第三減反射層9、第四減反射層13為實現高可見光透光率的重要膜層。
[0024]所述的玻璃基片I厚度范圍為3?19毫米。
[0025]所述的第一保護層4、第二保護層6、第三保護層10、第四保護層12成分為鎳鉻合金。
[0026]所述第一介質層2、第二介質層8、第三介質層14成分為氮化硅。
[0027]所述第一減反射層3、第二減反射層7、第三減反射層9、第四減反射層13成分高純氧化鋅招。
[0028]如圖1所示，一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片、第一介質層、第一減反射層、第一保護層、第一功能層銀層、第二保護層、第二減反射層、第二介質層、第三減反射層、第三保護層、第三功能層銀層、第四保護層、第四減反射層、第三介質層。
[0029]如圖2所示，在具體實施過程當中，采用真空背景為10_6mbar級別的真空環境，生產真空環境控制在10_3mbar級別。工藝生產方式為磁控濺射，玻璃基片作載體，膜層濺射順序依次為:氮化硅34->高純氧化鋅鋁33->鎳鉻合金32->銀層31->鎳鉻合金30_>高純氧化鋅鋁29->氮化硅28->高純氧化鋅鋁27->鎳鉻合金26->銀層25_>鎳鉻合金24_>高純氧化鋅招23->氮化娃22。
【權利要求】
1.一種真空磁控濺射可鋼高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片(I )、第一介質層(2)、第一減反射層(3)、第一保護層(4)、第一功能層銀層(5)、第二保護層(6)、第二減反射層(7)、第二介質層(8)、第三減反射層(9)、第三保護層(10)、第三功能層銀層(11)、第四保護層(12)、第四減反射層(13)、第三介質層(14)， 其中，玻璃基片(I)為載體，第一介質層(2)、第一減反射層(3)、第一保護層(4)、第一功能層銀層(5)、第二保護層(6)、第二減反射層(7)、第二介質層(8)、第三減反射層(9)、第三保護層(10)、第三功能層銀層(11)、第四保護層(12)、第四減反射層(13)、第三介質層(14)為順次濺射在玻璃基片(I)上的納米級膜層， 第一保護層(4)和第二保護層(6)設于第一功能層銀層(5)兩側，第三保護層(10)第四保護層(12)設于第三功能層銀層(11)兩側， 第一減反射層(3)、第二減反射層(7)、第三減反射層(9)、第四減反射層(13)為實現高可見光透光率的重要膜層。
2.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的玻璃基片(I)厚度范圍為3?19毫米。
3.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的第一保護層(4)、第二保護層(6)、第三保護層(10)、第四保護層(12)成分為鎳鉻合金。
4.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一介質層(2)、第二介質層(8)、第三介質層(14)成分為氮化硅。
5.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一減反射層(3)、第二減反射層(7)、第三減反射層(9)、第四減反射層(13)成分高純氧化鋅招。
6.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于采用了真空磁控濺射方式濺射出均勻致密的納米級銀層。
【文檔編號】B32B17/00GK204196373SQ201420613819
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年10月23日 優先權日:2014年10月23日
【發明者】李賀儒 申請人:臺玻華南玻璃有限公司