專利名稱：低反光增印保護膜的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種增印保護膜，尤其涉及一種低反光增印保護膜。
背景技術：
薄膜面板例如手機觸摸按鍵，薄膜開關等產品在搬運和使用過程中，其表面容易受到接觸性污染或磨痕劃傷，通常采用保護膜覆蓋在其表面使之免受損傷和污染。保護膜一般由基材層和涂覆在該基材層上的膠粘劑層構成。當保護膜用來保護各種薄膜面板例如手機觸摸按鍵，薄膜開關等產品的表面時，需要在保護膜上印刷文字、圖案等。傳統的保護膜一般都沒有經過耐磨增印處理，因此很難在保護膜上進行印刷作業，其次，現有增印保護膜中雖然原紙或淋膜以后的紙的表面具有凹凸狀的花紋結構，可以使得感壓膠的膠面有一定的霧度，但是由于凹凸形狀的不均勻，使得有機感壓膠膠面的霧度不均勻，有反光發亮的現象。
發明內容本實用新型提供一種低反光增印保護膜，此低反光增印保護膜解決了現有保護膜不能印刷文字、圖案的問題，且能大大降低了吸附灰塵和雜質的幾率，從而有效避免了靜電引起的嚴重損失。為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種低反光增印保護膜，包括一基材層，此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層，此基材層下表面通過有機硅壓敏膠與一離型膜粘合連接；所述離型膜包括上表面涂覆有霧面抗靜電涂層的原紙層和薄膜層，此薄膜層和原紙層通過一膠粘劑層粘接；所述霧面抗靜電涂層另一表面涂覆有離型劑涂層，此霧面抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.821um 3.324um，離型劑涂層另一表面具有若干個凸起部。上述技術方案中進一步改進的技術方案如下:1、上述方案中，所述霧面抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.921um 或者 3.12 um。2、上述方案中，所述薄膜層為聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。由于上述技術方案運用，本實用新型與現有技術相比具有下列優點:本實用新型低反光增印保護膜，其有利于油墨圖案與保護膜粘接，滿足了印刷文字、圖案的需要；其次，保護膜中霧面抗靜電涂層，阻抗值達到上IO9 IOki Ω/sp，大大降低了吸附灰塵和雜質的幾率，從而有效避免了靜電引起的嚴重損失。
附圖1為本實用新型低反光增印保護膜結構示意圖；附圖2為本實用新型離型膜結構示意圖。以上附圖中:1、基材層；2、增印涂層；3、有機硅壓敏膠；4、離型膜；41、霧面抗靜電涂層；42、原紙層；43、薄膜層；44、膠粘劑層；45、離型劑涂層；46、凸起部。
具體實施方式
以下結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述:實施例1:一種低反光增印保護膜，包括一基材層1，此基材層I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2，此基材層I下表面通過有機硅壓敏膠3與一離型膜4粘合連接；所述離型膜4包括上表面涂覆有霧面抗靜電涂層41的原紙層42和薄膜層43，此薄膜層43和原紙層42通過一膠粘劑層44粘接；所述霧面抗靜電涂層41另一表面涂覆有離型劑涂層45，離型劑涂層45另一表面具有若干個凸起部46。上述霧面抗靜電涂層I與離型劑涂層5接觸的表面的粗糙度為2.921 um，上述薄膜層43為聚丙烯薄膜。實施例2:—種低反光增印保護膜，包括一基材層1，此基材層I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2，此基材層I下表面通過有機硅壓敏膠3與一離型膜4粘合連接；所述離型膜4包括上表面涂覆有霧面抗靜電涂層41的原紙層42和薄膜層43，此薄膜層43和原紙層42通過一膠粘劑層44粘接；所述霧面抗靜電涂層41另一表面涂覆有離型劑涂層45，離型劑涂層45另一表面具有若干個凸起部46。上述霧面抗靜電涂層I與離型劑涂層5接觸的表面的粗糙度為3.12 um，上述薄膜層43為聚氯乙烯薄膜。采用上述低反光增印保護膜時，其有利于油墨圖案與保護膜粘接，滿足了印刷文字、圖案的需要；其次，保護膜中霧面抗靜電涂層，阻抗值達到上IO9 IOki Ω/sp，大大降低了吸附灰塵和雜質的幾率，從而有效避免了靜電引起的嚴重損失。上述實施例只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內容并據以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍。凡根據本實用新型精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求1.一種低反光增印保護膜，其特征在于:包括一基材層(1)，此基材層(I)上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層(2)，此基材層(I)下表面通過有機硅壓敏膠(3)與一離型膜(4)粘合連接；所述離型膜(4)包括上表面涂覆有霧面抗靜電涂層(41)的原紙層(42)和薄膜層(43)，此薄膜層(43)和原紙層(42)通過一膠粘劑層(44)粘接；所述霧面抗靜電涂層(41)另一表面涂覆有離型劑涂層(45)，此霧面抗靜電涂層(41)與離型劑涂層(45)接觸的表面的粗糙度為2.821um 3.324um,離型劑涂層(45)另一表面具有若干個凸起部(46)。
2.根據權利要求1所述的低反光增印保護膜，其特征在于:所述霧面抗靜電涂層(I)與離型劑涂層(5)接觸的表面的粗糙度為2.921 um或者3.12 um。
3.根據權利要求1所述的低反光增印保護膜，其特征在于:所述薄膜層(43)為聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
專利摘要本實用新型公開一種低反光增印保護膜，包括一基材層，此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層，此基材層下表面通過有機硅壓敏膠與一離型膜粘合連接；所述離型膜包括上表面涂覆有霧面抗靜電涂層的原紙層和薄膜層，此薄膜層和原紙層通過一膠粘劑層粘接；所述霧面抗靜電涂層另一表面涂覆有離型劑涂層，此霧面抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.821um～3.324um，離型劑涂層另一表面具有若干個凸起部。本實用新型低反光增印保護膜解決了現有保護膜不能印刷文字、圖案的問題，且能大大降低了吸附灰塵和雜質的幾率，從而有效避免了靜電引起的嚴重損失。
文檔編號B32B27/06GK202934876SQ201220532510
公開日2013年5月15日 申請日期2012年10月17日 優先權日2012年10月17日
發明者金闖, 張慶杰 申請人:斯迪克新型材料(江蘇)有限公司