鍍膜玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發明適用于玻璃領域，提供了一種鍍膜玻璃及其制備方法，該鍍膜玻璃包括透光基體層，該透光基體層一側依次疊設有第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層。本發明鍍膜玻璃，通過設置第一金屬組合層和第二金屬組合層，并且在第一金屬組合層和第二金屬組合層中使用銅作為原料之一，通過銅層對波段為450至550nm光的吸收作用，大大減少了綠光的透過率；本發明鍍膜玻璃制備方法，操作簡單，成本低廉，生產效益高，非常適于工業化生產。
【專利說明】鍍膜玻璃及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于玻璃【技術領域】，尤其涉及一種鍍膜玻璃及其制備方法。
【背景技術】
[0002]目前，鍍膜玻璃的應用范圍廣泛，在汽車、建筑領域中都有較高頻率的使用。但傳統的需要具有高的選擇系數，這種高選擇系數會不可避免的會導致在450至550nm波段透過較高，這種高透過率會不可避免的導致玻璃的透過顏色呈綠色，而使用者可能要去玻璃的顏色為無色和其他顏色，這和玻璃使用者的透過色色彩還原性要求相矛盾。
【發明內容】
[0003]有鑒于此，本發明的目的在于提供一種鍍膜玻璃，解決現有技術中鍍膜玻璃在450至550nm波段透過較高的技術問題。
[0004]本發明是這樣實現的，
[0005]一種鍍膜玻璃，包括透光基體層，該透光基體層一側依次疊設有第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層，該第一金屬組合層包括銀層及層疊于該銀層之上的銅層或鈀層，該銀層的厚度為O?20納米，該銅層或鈀層的厚度為5?20納米，該第二金屬組合層包括銀層及層疊于該銀層之上的銅層或鈀層，該銀層的厚度為5?20納米，該銅層或鈀層的厚度為O?20納米。
[0006]本發明進一步提供上述鍍膜玻璃玻璃的制備方法，包括如下步驟:
[0007]取透光基體層；
[0008]在該透光基體層上依次派射形成第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層，使該第一金屬組合層包括銀層及層疊于該銀層之上的銅層或鈀層，該銀層的厚度為O?20納米，該銅層或鈀層的厚度為5?20納米，該第二金屬組合層包括銀層及層疊于該銀層之上的銅層或鈀層，該銀層的厚度為5?20納米，該銅層或鈀層的厚度為O?20納米。
[0009]本發明鍍膜玻璃，通過設置第一金屬組合層和第二金屬組合層，并且在第一金屬組合層和第二金屬組合層中使用銅作為原料之一，通過銅層對波段為450至550nm光的吸收作用，大大減少了綠光的透過率；本發明鍍膜玻璃制備方法，操作簡單，成本低廉，生產效益高，非常適于工業化生產。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0010]圖1是本發明實施例鍍膜玻璃一種結構示意圖；
[0011]圖2是本發明實施例鍍膜玻璃另一種結構示意圖；
[0012]圖3是本發明實施例一鍍膜玻璃結構示意圖；
[0013]圖4是本發明實施例二鍍膜玻璃結構示意圖。【具體實施方式】
[0014]為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。
[0015]請參閱圖1，圖1顯示本發明實施例提供鍍膜玻璃結構圖，該鍍膜玻璃包括透光基體層0，該透光基體層O —側依次疊設有第一電介質層1、第一金屬組合層2、第一阻隔層3、第二電介質組合層4、第二金屬組合層5、第二阻隔層6及第三電介質層7，該第一金屬組合層2包括銀層21及層疊于該銀層2 I之上的銅層22，該銀層21的厚度為O~20納米，該銅層22的厚度為5~20納米；該第二金屬組合層5均包括銀層51及層疊于該銀層51之上的銅層52，該銀層51的厚度為5~20納米，該銅層52的厚度為O~20納米。
[0016]具體地，玻璃基板0的材質可以是普通玻璃或鋼化玻璃，或本領域的其他類型的玻璃。
[0017]具體地，該弟一電介質層I包括Zn0層、Si3N4層、Sn02層、ZnxSny0x+2y層或Ti02層中的一種或由該Zn0層、Si3N4層、Sn02層、ZnxSny0x+2y層、Ti02層中至少兩層疊設組成的復合層(x:y為2~18:1，例如，2:1，3:1和18:1)。例如，該第一電介質層1包括Zn0層及Si3N4層；或，ZnO層及Sn02層；或，Zn0層及ZnxSny0x+2y層，Si3N4層及Sn02層等。
[0018]該第一電介質層I的總厚度為10~50納米。
[0019]通過選用上述結構和厚度的第一電介質層，能大大提高第一層電介質組合層與透光基體層的結合強度，同時，通過調整該第一電介質層的材質和厚度，實現對該玻璃顏色的調節，從而提高或降低透過率。
[0020]具體地，該第一金屬組合層2包括層疊于該第一電介質層I上的銀層21及層疊于該銀層21之上的銅/鈀層22，該銀層21的厚度為0~20納米，優選為1_10納米，該銅/鈀層22的厚度為5~20納米。該銀層21層疊于該第一電介質層I之上。該第一金屬組合層2的總厚度為5~25納米。該銅/鈀22的材質為銅或鈀單質。
[0021]具體地，該第二金屬組合層5包括層疊于該第二電介質組合層4上的銀層51及層疊于該銀層51之上的銅/鈀層52，該銀層51的厚度為5~20納米，該銅/鈀層52的厚度為0~20納米，優選為1-10納米。該銀層51層疊于該第二電介質組合層4之上。該第二金屬組合層5的總厚度為5~25納米。該銅/鈀52的材質為銅或鈀單質。
[0022]通過第一金屬組合層和第二金屬組合層中的銅/鈀層及其厚度，能夠大大提升對波段為450至550nm的光的吸收作用，從而減少玻璃對綠光的透過率。
[0023]具體地，該第一阻隔層3的材質為NiCr (Cr重量含量為20%)或Nb，該第一阻隔層3的厚度0.5nnTl0nm，層疊于該第一金屬組合層2的銅/鈀層22之上，該第一阻隔層3能夠起到阻隔金屬離子遷移作用，保護第一金屬金屬組合層2，實現對該玻璃調節透過率反射率及顏色。
[0024]具體地，該弟二電介質組合層4包括Zn0層、Si3N4層、Ti02層或ZnxSny0x+2y層中的一種或由該Zn0層、Si3N4層、Ti02層或ZnxSny0x+2y層中至少兩層疊設組成的復合層，其中，x:y的為2~18:1，例如，2:1，3:1和18:1。例如，該第二電介質組合層4包括ZnO層及Si3N4層；或，Zn0層及Ti02層；或，Zn0層及ZnxSny0x+2y層，Si3N4層及Ti02層等。該第二電介質組合層4的總厚度為50~110納米。
[0025]通過選用上述結構和厚度的第二電介質組合層，整體起到相消干涉增透作用，局部起到改變玻璃顏色作用。
[0026]具體地，該第二阻隔層6的材質為NiCr (Cr重量含量為20%)或Nb，該第二阻隔層6的厚度0.5nnTl0nm，層疊于該第二金屬組合層5的銅/鈀層52上，該第二阻隔層6能夠起到阻隔金屬離子遷移作用，保護第二金屬組合層5，實現對該玻璃調節透過率反射率及顏色。
[0027]具體地，該第三電介質層7包括Si3N4層、ZnO層、ZnxSny0x+2y層或TiO2層中的一種或由該ZnO層、ZnxSny0x+2y層或TiO2層中至少兩層疊設組成的復合層(x:y為2~18:1,例如，2:1，3:1和18:1)。例如，該第三電介質層7包括Si3N4層及ZnO層;或，Si3N4層及Ti02層；或，Si3N4 層及 ZnxSny0x+2y 層；或 Si3N4 層及 ZnxSny0x+2y 層、TiO2 層；ZnO 層及 ZnxSny0x+2y 層等。該第三電介質層7的總厚度為25~40納米。
[0028]通過選用上述結構和厚度的第三電介質層，能大大提高第三層電介質組合層與透光基體層的結合強度，同時，通過調整該第三電介質層的材質和厚度，實現對該玻璃顏色的調節，從而提高或降低透過率。
[0029]請參閱圖2，圖2是本發明實施例鍍膜玻璃另一種結構示意圖，在該第一電介質層I和第一金屬組合層2之間還包括第三阻隔層8，該第三組隔8層疊于該第一電介質層I之上。該第三組隔層8的材質選自NiCHCr重量百分含量為20%)、Nb中的一種，總厚度0.5nnTl0nm，該第三組隔層8能夠起到保護金屬層不被氧化，保護金屬組合層，實現對該玻璃調節透過率反射率及顏色。
[0030]如果存在第三組隔層8，那么，第一金屬組合層2的銀層21層疊于該第三組隔層8上。
[0031]在該第二電介質組合層4和第二金屬組合層5之間還包括第四阻隔層9，該第四組隔9層疊于該第二電介質組合層4之上，該第四組隔層9的材質為NiCr (Cr重量百分含量為20%)、Nb中的一種，總厚度0.5nnTl0nm，該第四組隔層9能夠起到保護金屬層不被氧化作用，保護金屬組合層，實現對該玻璃調節透過率反射率及顏色。
[0032]如果存在第四組隔層9，那么，第二金屬組合層5的銀層51層疊于該第四組隔層9之上。
[0033]本發明實施例鍍膜玻璃的一種結構:該鍍膜玻璃包括玻璃基板和依次疊加設置在玻璃基板O —表面上的ZnO層、Ag層、Cu層，NiCr層、ZnxSny0x+2y層、ZnO層、Ag層、Cu層、NiCr層、ZnxSny0x+2y層、Si3N4層。其中,Ag層和Cu層組成第一層金屬組合層,ZnxSny0x+2y層、ZnO層組成弟二層電介質組合層，ZnxSny0x+2y層和Si3N4層組成弟二層電介質組合層。(x:y為 2:1)
[0034]本發明實施例鍍膜玻璃的另一種結構:該鍍膜玻璃包括玻璃基板O和依次疊加設直在玻璃基板一表面上的的Si3N4層、ZnO層、Ag層、Pb層，NiCr層、ZnxSny0x+2y層、ZnO層、Ag層、Cu層、NiCr層、ZnxSny0x+2y層、Si3N4層。其中，Si3N4層、ZnO層組成第一層電介質組合層，ZnxSny0x+2y層、ZnO層組成弟二層電介質組合層，ZnxSny0x+2y層、Si3N4層組成弟二層電介質組合層。(x:y*3:l)
[0035]本發明實施例進一步提供上述鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟:[0036]步驟SO I，提供透光基體層
[0037]取透光基體層；
[0038]步驟S02，濺射
[0039]在該透光基體層上依次濺射形成第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層，使該第一金屬組合層包括銀層及層疊于該銀層之上的銅層或鈀層，該銀層的厚度為O~20納米，該銅層或鈀層的厚度為5~20納米，該第二金屬組合層包括銀層及層疊于該銀層之上的銅層或鈀層，該銀層的厚度為5~20納米，該銅層或鈀層的厚度為O~20納米。
[0040]步驟SOl中，該透光基體層的材質度和前述相同，在此不重復闡述。具體地，步驟S02中，該第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層的材質和前述相同，在此不重復闡述。
[0041]步驟S02具體如下:本發明實施例制備方法中，濺射工藝為:本底真空度2*10-65*10_6mbar,灘射真空度 2*10-3 6*10-3mbar。 [0042]1、在透光基體層上通過磁控濺射方法濺射形成第一電介質層；
[0043]2、在該第一電介質層上通過磁控濺射形成銀層及層疊于該銀層之上的銅層，該銀層的厚度為5~20納米，該銅層的厚度為O~20納米；
[0044]3、在該第一金屬組合層上通過磁控濺射形成第一阻隔層；
[0045]4、在該第一阻隔層上通過磁控濺射形成第二電介質組合層；
[0046]5、在該第二電介質組合層上通過磁控濺射形成銀層及層疊于該銀層之上的銅層，該銀層的厚度為O~20納米，該銅層的厚度為5~20納米；
[0047]6、在該第二金屬組合層上通過磁控濺射形成第二阻隔層；
[0048]7、在該第二阻隔層上通過磁控濺射形成第三電介質層。
[0049]進一步，本發明實施例鍍膜玻璃的制備方法還包括制備第三組隔層及第四組隔層的步驟，該第三組隔層及第四組隔層的材質及厚度和前述相同，在此不重復闡述。
[0050]該第三組隔層的制備方法如下:
[0051 ] 在制備第一電介質層后，在該第一電介質層上通過磁控濺射形成第三組隔層。在制備得到第三組隔層后，在第三組隔層上制備第一金屬組合層，并進行后續的制備工藝。
[0052]該第四組隔層的制備方法如下:
[0053]在制備第二金屬組合層后，在該第二金屬組合層上通過磁控濺射形成第四組隔層。制備得到第四阻隔層后，在該第四阻隔層上制備形成第三電介質層。
[0054]本發明實施例鍍膜玻璃的制備方法操作簡單，成本低廉，生產效益高，非常適于工業化生產。
[0055]以下結合具體實施例對上述鍍膜玻璃及其制備方法進行詳細闡述。
[0056]實施例一
[0057]請參閱圖3，本發明實施例鍍膜玻璃的結構如下:
[0058]該鍍膜玻璃包括普通白玻璃基板O、層疊在該玻璃基板O —表面上的ZnO層1、Ag層 21、Cu 層 22，NiCr 層 3、ZnxSny0x+2y 層 41、ZnO 層 42、Ag 層 5、NiCr 層 6、ZnxSny0x+2y 層 71及Si3N4層72。其中，Ag層21和Cu層22組成第一層金屬組合層2，ZnxSny0x+2y層41、ZnO層42組成弟二層電介質組合層4，ZnxSny0x+2y層71、Si3N4層72組成弟二層電介質組合層7，各層厚度如表1所不:
[0059]鍍膜玻璃制備方法為:利用平板玻璃雙端連續式鍍膜機，采用下述表1中列出的
工藝參數，使用8個交流旋轉陰極，5直流平面陰極，共14個陰極進行生產，制備出本發明
鍍膜玻璃，其具體的工藝參數和陰極的位置見如下表1:
[0060]表1
[0061]
【權利要求】
1.一種鍍膜玻璃，包括透光基體層，其特征在于，所述透光基體層一側依次疊設有第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層，所述第一金屬組合層包括銀層及層疊于所述銀層之上的銅層或鈀層，所述銀層的厚度為O?20納米，所述銅層或鈀層的厚度為5?20納米，所述第二金屬組合層包括銀層及層疊于所述銀層之上的銅層或鈀層，所述銀層的厚度為5?20納米，所述銅層或鈀層的厚度為O?20納米。
2.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一金屬組合層和第二金屬組合層的厚度均為5?25納米。
3.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一電介質層包括ZnO層、Si3N4層、SnO2層、ZnxSny0x+2y層或TiO2層中的一種或至少兩層疊設組成的復合層，所述第一電介質層的厚度為10?50納米,所述x:y為2?18:1。
4.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三電介質層包括Si3N4層、TiO2層、ZnO層或ZnxSny0x+2y層中的一種或至少兩層疊設兩層疊設組成的復合層，所述第三電介質層的厚度為25?40納米，所述x:y為2?18:1。
5.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二電介質組合層包括ZnO層、Si3N4層、TiO2層或ZnxSny0x+2y層或中的一種或中至少兩層疊設兩層疊設組成的復合層，所述第二電介質組合層的厚度為50?110納米,所述x:y為2?18:1。
6.如權利要求1?5任一項所述的鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一阻隔層和第二阻隔層的厚度均為0.5?10納米。
7.如權利要求1任一項所述的鍍膜玻璃，其特征在于，還包括第三組隔層，所述第三組隔層疊設于所述第一電介質層與第一金屬組合層之間，所述所述第三組隔層的厚度為0.5?10納米。
8.如權利要求1任一項所述的鍍膜玻璃，其特征在于，還包括第四組隔層，所述第四組隔層疊設于所述第二電介質組合層與第二金屬組合層之間，所述第四組隔層的厚度為0.5?10納米。
9.如權利要求1所述的鍍膜玻璃制備方法，包括如下步驟: 取透光基體層； 在所述透光基體層上依次濺射形成第一電介質層、第一金屬組合層、第一阻隔層、第二電介質組合層、第二金屬組合層、第二阻隔層及第三電介質層，使所述第一金屬組合層包括銀層及層疊于所述銀層之上的銅層或鈀層，所述銀層的厚度為O?20納米，所述銅層或鈀層的厚度為5?20納米，所述第二金屬組合層包括銀層及層疊于所述銀層之上的銅層或鈀層，所述銀層的厚度為5?20納米，所述銅層或鈀層的厚度為O?20納米。
【文檔編號】B32B17/06GK103625042SQ201210299196
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2012年8月21日 優先權日:2012年8月21日
【發明者】董清世, 蔡法清 申請人:信義玻璃工程（東莞）有限公司