專利名稱：可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術領域：
可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃技術領域[0001]本實用新型涉及特種玻璃領域，尤其涉及一種可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃。
技術背景[0002]低輻射玻璃，又稱Low-E玻璃，是在玻璃表面鍍制包括銀層在內的多層金屬或其它化合物組成的膜系產品。由于銀層具有低輻射的特性，低輻射玻璃對可見光有較高的透射率，對紅外線有很高的反射率，具有良好的隔熱性能。[0003]采用真空磁控濺射法生產的普通茶色低輻射鍍膜玻璃的膜層結構一般為玻璃/ 基層電介質組合層/第一阻擋層/銀膜層/第二阻擋層/上層電介質組合層等。[0004]電介質組合層一般為金屬的氧化物或氮化物，或為非金屬的氧化物或氮化物，如 T i O2、SiSnOx、SnO2、SiO、S i O2、iTa2O5、S i NxOy、B i O2、A1203、Nb2O5、S i 3N4、AZO 等，為了達到茶色的效果，也有將基層介電質組合層加入氧化不銹鋼材料。[0005]第一阻擋層、第二阻擋層一般為金屬或金屬氧化(氮化)物，也可以是合金或合金氧化(氮化)物，如Ti、NiCr或NiCrOx、NiCrNx等。也有使用銅作為第一阻擋層。[0006]但是在傳統的茶色低輻射膜的加工中，只能對玻璃先采用鋼化再鍍膜的加工方式，或者雖能平鋼化，但不能進行彎鋼化和異地加工。這就限制了茶色低輻射玻璃的推廣。 這是因為[0007]1.不能實現彎弧玻璃鍍膜[0008]現代建筑廣泛采用彎鋼化玻璃，傳統離線茶色低輻射膜不能進行彎鋼化等后續加工處理。國內現有的建筑鍍膜玻璃生產線均不能在彎鋼化玻璃上鍍膜。[0009]2.鍍膜運行效率低[0010]鋼化玻璃鍍膜的裝載率只有75%左右，也就是只能發揮鍍膜線產能的75%。鋼化玻璃鍍膜靠人工裝片和卸片，需配置足夠的操作人員，增加了人工工資支出。同時人工裝、 卸片的速度慢，又限制了鍍膜線走速，鍍膜線運行不經濟。[0011]各種補片的生產周期長，鍍膜和中空工序出現的廢品要補片，玻璃在安裝現場的損壞也要補片。這些補片需要再次納入生產訂單來安排生產，補片周期長。[0012]由于要達到茶色的效果，需要使用特殊的靶材。限于設備的靶位數量和靶材排列順序，必須停機更換靶材，再經過長時間抽氣，才能生產茶色低輻射玻璃。這會嚴重影響其它膜系的生產，不利于成本的控制。[0013]3.無法異地加工[0014]由于不能彎鋼化，一些沒有鍍膜線的企業無法使用這種玻璃進行異地加工；并且因離線低輻射鍍膜玻璃必須合成中空玻璃使用，中空玻璃的運輸增加了運輸支出，限制了茶色低輻射玻璃的推廣。[0015]基于上述原因，有必要開發出一種能夠進行彎鋼化加工和異地加工的茶色低輻射鍍膜玻璃。發明內容[0016]本實用新型的目的在于，采用獨特的膜層配置構造出一種可以實現彎鋼化加工的茶色低輻射鍍膜玻璃。滿足在后續復合產品加工中的所有要求，可以推廣應用到民用建筑。[0017]為達到上述目的，本實用新型提出以下技術方案[0018]一種可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一側由內向外依次設置有基層電介質結合層、第一阻擋層、銀膜層、第二阻擋層及上層電介質組合層， 所述基層電介質組合層厚度為25 45nm。[0019]實施時，所述基層電介質組合層由金屬的氧化物或氮化物構成，或者由非金屬的氧化物或氮化物構成。[0020]實施時，所述上層電介質組合層由金屬的氧化物或氮化物構成，或由非金屬的氧化物或氮化物構成。[0021]實施時，所述上層電介質組合層厚度為20 35nm。[0022]實施時，所述銀膜層的厚度為10 25nm。[0023]實施時，所述第一阻擋層的材料為鎳鉻、鈦、氧化鎳鉻或氮化鎳鉻中的一種。[0024]實施時，所述第二阻擋層的材料為鎳鉻、鈦、氧化鎳鉻或氮化鎳鉻中的一種。[0025]實施時，所述第一阻擋層的單層厚度為4 15nm。[0026]實施時，所述第二阻擋層的單層厚度為4 15nm。[0027]本實用新型的有益效果是，從以上技術方案可以看出，本實用新型所提供的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，具有輻射率低(小于0. 05)，光學性能穩定、色彩鮮艷且容易調節、耐熱、耐候等性能。產品先鍍膜后熱處理，能長距離運輸，能儲存8個月以上不變質，實現彎鋼和異地加工，滿足在后續復合產品加工中的所有要求。可以推廣到民用建筑。
[0028]圖1是本實用新型的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃結構示意圖；[0029]圖2是本實用新型的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃的生產工藝流程示意圖。[0030]附圖標記說明1-玻璃基板；2-基層電介質組合層；3-第一阻擋層；4-銀膜層； 5-第二阻擋層；6-上層電介質組合層。
具體實施方式
[0031]為了使本實用新型的形狀、構造以及特點能夠更好地被理解，以下將列舉較佳實施例并結合附圖進行詳細說明。[0032]本實用新型提供的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板1，所述玻璃基板 1的一側由內向外依次設置有基層電介質結合層2、第一阻擋層3、銀膜層4、第二阻擋層5 及上層電介質組合層6。所述基層電介質組合層2厚度為25 45nm。[0033]所述基層電介質組合層2由金屬的氧化物或氮化物構成，或者由非金屬的氧化物或氮化物構成，如 Ti02、ZnSnOx、SnO2, ZnO, SiO2, Ta2O5, SiNxOy、Bi02、A1203、Nb2O5, Si3N4^AZO 等。所述上層電介質組合層6由金屬的氧化物或氮化物構成，或由非金屬的氧化物或氮化物構成，如 Ti02、ZnSnOx、SnO2, ZnO, SiO2, Ta2O5, SiNxOy、Bi02、A1203、Nb2O5, Si3N4, AZO 等。[0034]所述上層電介質組合層6厚度為20 35nm。所述銀膜層4的厚度為10 25nm。所述第一阻擋層3的材料為鎳鉻、鈦、氧化鎳鉻或氮化鎳鉻中的一種，所述第一阻擋層3的單層厚度為4 15nm，所述第二阻擋層5的材料為鎳鉻、鈦、氧化鎳鉻或氮化鎳鉻中的一種， 所述第二阻擋層5的單層厚度為4 15nm。[0035]在實際應用中，常用的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃的膜層結構及厚度為基層電介質結合層2為25 35nm，第一阻擋層3為4 12nm，銀膜層4為10 20nm，第二阻擋層5為4 12nm，上層電介質組合層6為22 30nm。[0036]下面為本實用新型提供的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃的一個應用實例的膜結構[0037]玻璃基片、Si3N4層、NiCr層、銀膜層、NiCr層及Si3N4層。[0038]其中，基層電介質組合層2的主要材料為氮含量可調的氮化硅(Si3N4),膜層厚度為 25 35nm。[0039]第一阻擋層3的主要材料為鎳鉻(NiCr)，膜層厚度為4 12nm。[0040]銀膜層4的膜層厚度為10 20nm。[0041]第二阻擋層5的主要材料為鎳鉻(NiCr)，膜層厚度為4 12nm。[0042]上層電介質組合層6是氮化硅(Si3N4)，膜層厚度為22 30nm。[0043]上述膜層的加工工藝為[0044]所有氮化硅層采用中頻電源加旋轉陰極在氬氮氛圍中濺射沉積，功率為55kw IOOkw,中頻電源頻率為30 50kHz ；[0045]所有鎳鉻層在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金平面靶材，功率為5 15kw ；[0046]銀膜層4 平面陰極或旋轉陰極、直流或直流加脈沖磁控濺射，在氬氣氛圍中沉積，功率為5 15kw。[0047]本實用新型提供的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃及其生產工藝特點在于[0048]1.傳統以銀膜為紅外反射膜層的低輻射玻璃不能進行后續熱處理的根本原因是 銀膜層在加熱過程中被破壞，如銀膜層被氧化、銀膜層面電阻升高等現象。從外觀上可以看到如下幾種情況膜面呈白色云霧狀，透過率下降，顏色不均勻，可能伴隨大面積掉膜；膜面有分散的片狀氧化；滿板針孔狀的小氧化點，類似滿天星；這些現象均是銀膜層被破壞的外在表現，不能批量生產。本實用新型從兩個方面解決產品在加厚銀膜層過程中透過率降低和外觀呈現干擾色的問題。一是膜層設計，讓膜層兩邊的膜層材料對銀膜層具有更好的遮擋能力，銀膜層兩邊的膜層厚度呈一定比例；二是鍍膜工藝，通過改變傳統工藝，讓銀膜層兩邊的阻擋層更加致密。[0049]2.基層電介質組合層為減反射膜層，起著連接玻璃和功能層的作用，要求膜層與玻璃之間粘結性能好，并緩解整個低輻射膜的內部應力。上層電介質組合層直接影響到產品的抗劃傷，耐磨和抗腐蝕性能，要求它既有很好的硬度又有很好的韌性。[0050]3.電介質組合層、銀膜層和阻擋層的相互配合，通過改變各膜層的厚度，沉積出顏色明亮鮮艷，透過率較高的茶色低輻射膜。同時解決了其它廠家的茶色鍍膜玻璃由于膜層設計不合理無法進行熱處理或膜層力學問題不能進行彎鋼化的問題。實現彎鋼化和熱彎加工的要求，并且在熱處理后仍能保持純正的茶色。[0051]以上所述實施事例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此理解為對本實用新型專利范圍的限制，應當指出的是對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型保護范圍應以所附權利要求為準。
權利要求1.一種可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的一側由內向外依次設置有基層電介質結合層、第一阻擋層、銀膜層、第二阻擋層及上層電介質組合層，所述基層電介質組合層厚度為25 45nm。
2.根據權利要求1所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述基層電介質組合層由金屬的氧化物或氮化物構成，或者由非金屬的氧化物或氮化物構成。
3.根據權利要求1所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述上層電介質組合層由金屬的氧化物或氮化物構成，或由非金屬的氧化物或氮化物構成。
4.根據權利要求3所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述上層電介質組合層厚度為20 35nm。
5.根據權利要求1所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述銀膜層的厚度為10 25nm。
6.根據權利要求1所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一阻擋層的材料為鎳鉻、鈦、氧化鎳鉻或氮化鎳鉻中的一種。
7.根據權利要求1所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二阻擋層的材料為鎳鉻、鈦、氧化鎳鉻或氮化鎳鉻中的一種。
8.根據權利要求6所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一阻擋層的單層厚度為4 15nm。
9.根據權利要求7所述的可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二阻擋層的單層厚度為4 15nm。
專利摘要本實用新型涉及一種可彎鋼的茶色低輻射鍍膜玻璃。玻璃的表面鍍覆有復合膜層，復合膜層的最外層為一保護膜層；復合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銀膜層，緊貼銀膜層上下兩面的兩層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層；在玻璃和金屬膜層之間是兩層電介質層。所述基層電介質組合層厚度為25～45nm。本實用新型提供的茶色低輻射鍍膜玻璃，其最顯著的特點是具有優良的可彎鋼及可異地加工性能，并且其熱工性能優異、色彩鮮艷且容易調節、質量穩定、制作效率高、成本低、易于推廣，能通過改變各膜層的厚度獲得不同透過率、透過色、反射率、反射色及遮陽系數、輻射率的多品種茶色低輻射鍍膜玻璃，以適應市場不同需求。
文檔編號B32B17/06GK202293507SQ20112043065
公開日2012年7月4日 申請日期2011年11月3日 優先權日2011年11月3日
發明者史小明, 楊志遠, 董清世 申請人:信義玻璃(天津)有限公司