專利名稱：一種高透明聚酯薄膜及其制備方法
技術領域：
本發明涉及一種聚酯薄膜及其制備方法，尤其是一種高光透過率、低霧度的高透明聚酯薄膜及其制備方法。
背景技術：
雙向拉伸聚酯薄膜具有諸多優良特性機械強度高、光學性能優良、電絕緣性能佳、阻隔性能好、使用溫度范圍寬(_70°C -200°C )、耐化學腐蝕性及尺寸穩定性良好等，因此廣泛應用于包裝、電子電力以及照相、磁性產品等領域。近年來由于液晶顯示方面的發展，聚酯薄膜在光學領域方面也有重要應用。從目前液晶顯示面板的結構來看，有至少一半以上的液晶顯示組件使用的是聚酯膜片。聚酯薄膜在光學應用方面比起包裝或電子電力方面的應用有更高的要求，除了機械強度、熱穩定性等方面，還要求更優異的光學性能。比如用于液晶顯示面板里的擴散膜和增亮膜方面，要求作為基膜的聚酯薄膜的光透過率達到90%以上，用作液晶顯示保護膜用的基膜甚至要求達到94%以上。除了高的光透過率，還要求低的霧度，有些光學用基膜要求霧度達到1 %以內。目前普通包裝用的聚酯基膜一般光透過率為85 %左右，霧度為3 %左右，這樣的光學性能很難達到光學應用的要求。影響薄膜光學性能的因素，除了聚酯原料本身外，還跟制膜配方和工藝有關。在普通的聚酯薄膜生產中，為了適應可加工性的要求，聚酯表層必須含有少量的微細固體粒子， 以起到薄膜收放卷的抗粘連作用。一般這樣的無機粒子為二氧化硅、磷酸鈣、高嶺土等，粒子直徑一般在1-6 μ m之間。傳統的做法是先將無機微粒添加到聚酯原料中做成母料切片， 然后通過母料添加的方式將無機粒子添加到整個薄膜(單層擠出)或薄膜表層(ABA三層共擠中的A層)中。如圖1所示，現有聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材1和添加在整個薄膜中的無機抗粘連粒子2。這些無機粒子的添加雖然解決了膜表面的抗粘連性問題，但不可避免地降低了薄膜的光學性能。一方面，無機粒子阻止部分光線使得光透過率降低；另一方面， 這些微粒會使部分光線偏離原來的方向使得霧度提高。雖然可以通過減少無機粒子的添加量來改善光學性能，但其效果并不理想，而且會明顯降低薄膜的加工性能。雖然采用ABA三層結構使得中間層可以不用添加無機微粒，從而一定程度上減緩光學性能的下降，但其效果往往不是很明顯(實際上使用三層共擠的目的主要還是為了減少母料的用量而降低材料成本)。按目前國內的聚酯原料和絕大多數的生產線和工藝水平很難生產出高要求的光學級聚酯薄膜，現階段國內所使用的光學級聚酯基膜幾乎全部從國外進口。國外生產光學級聚酯薄膜的廠家主要集中在日本和韓國，這些廠家無論是在原料上還是在工藝上都各自進行嚴格地保密。國內廠商要生產出高品質的光學級聚酯薄膜，需要在原料和工藝上有所突破。
發明內容
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本發明所要解決的技術問題是在整個聚酯薄膜中添加抗粘連粒子降低了薄膜的光學性能(透明度降低及霧度提高)。為了解決上述技術問題，本發明提供一種高透明聚酯薄膜，本發明采用在線涂布技術將抗粘連粒子粘結在聚酯薄膜基材表面。一方面，表面粒子的存在達到了薄膜抗粘連效果，而且粒子粒徑可以比添加型的更微小、抗粘連效果更為明顯；另一方面，由于抗粘連粒子僅粘結在膜表面，盡可能低地減少了抗粘連粒子對基膜光學性能的影響。為了達到上述目的，本發明采用下述技術方案第1項，本發明提供一種高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材和抗粘連粒子，所述聚酯薄膜基材的厚度為12-250 μ m，所述抗粘連粒子通過水性樹脂粘結在所述聚酯薄膜基材的表面。所述聚酯薄膜的透光率為85-95%，霧度為 0. 5-1. 8%。所述水性樹脂干燥后粘附在所述聚酯薄膜基材的表面，水性樹脂的作用是將抗粘連粒子粘結在所述聚酯薄膜基材的表面；粘附在聚酯薄膜基材表面的水性樹脂可以是連續的，也可以是不連續的。連續的水性樹脂可以形成水性樹脂粘結層。第2項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜基材的厚度為12-72 μ m。第3項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜基材的厚度為50-250 μ m。第4項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，聚酯薄膜基材原料包括聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或其共聚改性聚酯，優選為PET或PEN。所述聚酯原料的特性粘度值為 0. 55-0. 70dl/g，玻璃化轉變溫度一般要求大于65°C，最好大于70°C，熔點一般要求大于 250°C，最好大于260°C，其他性能指標符合國家相關標準。所述抗粘連粒子為無機粒子，通過水性樹脂粘結在聚酯薄膜基材表面。第5項，本發明提供一種如技術方案4所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述抗粘連粒子為二氧化硅顆粒，所述水性樹脂包括水溶性聚丙烯酸酯、水溶性聚氨酯或水溶性磺化聚酯。第6項，本發明提供一種如技術方案1至5之一所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述水性樹脂和抗粘連粒子在粘結在所述聚酯薄膜基材表面之前，先配制成涂布液，通過涂布技術涂布到所述聚酯薄膜基材表面，干燥后，抗粘連粒子通過水性樹脂粘結在所述聚酯薄膜基材表面；所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂0.9-8%膠體硅0. 1-2%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分。第7項，本發明提供一種如技術方案6所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂2.5-6%膠體硅0.5-1.6%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分；所述聚酯薄膜基材厚度優選為100-250 μ m。第8項，本發明提供一種高透明聚酯薄膜的制備方法，它的特點是，所述聚酯薄膜厚度為12-250 μ m，包括聚酯薄膜基材，所述聚酯薄膜基材外表面通過水性樹脂粘結有抗粘連粒子或顆粒，所述聚酯薄膜制備方法如下所述聚酯薄膜基材采用雙向拉伸工藝制備，所述雙向拉伸工藝包括原料干燥，熔融擠出，鑄片，縱向拉伸，橫向拉伸，熱定型，冷卻，牽引， 收卷工序；在所述縱向拉伸和橫向拉伸工序之間增加了涂布工序，在所述縱向拉伸工序完成之后，在所述涂布工序中，將含有所述水性樹脂和抗粘連粒子的涂布液涂布到聚酯薄膜基材表面，所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂 0.9-8%膠體硅0. 1-2%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分；所述涂布液在橫向拉伸的預熱段完成干燥。第9項，本發明提供一種如技術方案8所述的高透明聚酯薄膜的制備方法，它的特點是，所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂 2.5-6%膠體硅0.5-1.6%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分；所述聚酯薄膜基材厚度優選為12-150 μ m。第10項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜厚度為12-72 μ m，所述涂布工序中采用的涂布方式為凹版涂布或棒式涂布。第11項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜基材的厚度為Μ-60 μ m,所述抗粘連粒子的粒徑優選為0. 2-0. 6 μ m。第12項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜基材的厚度為50-100 μ m,所述抗粘連粒子的粒徑優選為0. 2-0. 6 μ m。第13項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜基材的厚度為100-150 μ m。第14項，本發明提供一種如技術方案1所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述聚酯薄膜基材的厚度為150-250 μ m,所述抗粘連粒子的粒徑優選為0. 4-0. 8 μ m。第15項，本發明提供一種如技術方案1至3或11至14之一所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述抗粘連粒子的粒徑為0. 2-0. 8 μ m。第16項，本發明提供一種如技術方案1至3或11至14之一所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述抗粘連粒子的粒徑為0. 2-0. 6 μ m。第17項，本發明提供一種如技術方案1至3或11至14之一所述的高透明聚酯薄膜，它的特點是，所述抗粘連粒子的粒徑為0. 4-0. 8 μ m。所述的雙向拉伸工藝，與現有的聚酯薄膜雙向拉伸工藝相同，包含如下步驟原料干燥，熔融擠出，鑄片，縱向拉伸，橫向拉伸，熱定型，冷卻，牽引，收卷，分切。由于無需添加功能母料，不需要三層擠出，所以推薦單層結構。所述的在線涂布技術，其工序位于上述雙向拉伸工藝的縱向拉伸之后，橫向拉伸之前。在薄膜縱向拉伸之后即進行涂布處理，之后即進入橫向拉伸階段。為使涂布材料(水性樹脂和抗粘連粒子)得到干燥并粘結在聚酯薄膜基材表面，需在橫拉預熱段做相應的工藝調整。一般來說，可以通過預熱段加長(如由原來的三段加長成四段)或加溫(如由原來的100°C提高至110°C )來滿足涂布干燥的需要。此后膜片的處理工藝與普通薄膜拉伸工藝相同。上述涂布工序可以單面涂布，也可以雙面涂布。涂布方式可以采用凹版涂布或棒式涂布中的任意一種。凹版涂布是采用表面刻有細微網眼的涂布輥，涂布液通過涂布輥的網眼轉移到基材膜片上。棒式涂布是采用表面均勻纏繞細鋼絲的涂布棒(或稱絲棒涂布器)，涂布液通過鋼絲間的凹槽轉移至基材膜片上。是否單面涂布或雙面涂布視涂布設備功能而定，如果涂布設備可實現同時雙面涂布功能則建議進行雙面涂布。一般來說雙面涂布的薄膜表面抗粘連性更優而且更穩定，但其光學性能(光透過率和霧度)會有所下降。如果只能單面涂布則建議盡可能地提高涂布量，以保證膜表面足夠的抗粘連性。所述的涂布材料，一般采用可水溶或可分散于水中的高分子物質。涂布材料的有效成分由水性樹脂和水性硅膠兩組分構成，所述水性樹脂優選水性聚酯樹脂，其中的水性樹脂起到將硅膠物質固定到薄膜表面的橋接作用。所用水性樹脂材料在干燥后必須具備高透明性，同時具有與聚酯材料接近的光學性能，以盡可能降低對薄膜光學性能的影響。一般選擇的水性樹脂材料的光折射率與聚酯薄膜基材接近或相同，即水性樹脂材料的光折射率為1.7左右。水性硅膠在干燥時凝聚成微小顆粒，起到薄膜表面抗粘連作用。在使用前，涂布材料一般混和配制成固體重量百分比為1-10%的水溶液。所述制備得到的聚酯薄膜，其厚度為12-250 μ m，薄膜有一表面或兩表面進行涂布處理。薄膜表面的摩擦系數(動、靜摩擦系數)一般為0. 2-0. 8，最好情況下為0. 3-0. 5，滿足薄膜收放卷的抗粘連性要求。薄膜的透光率為85-95%，霧度為0. 5-1. 8%，其光學性能依所用聚酯原料和膜厚度有所不同，但總體上比同等情況下采用在整個聚酯薄膜內添加抗粘連粒子所得薄膜有所提高(一般普通薄膜的透光率為82-86%，霧度為2. 5-5. 0% )。與現有技術相比，本發明的優點在于無需在基膜中添加抗粘連粒子，從而很好地保持基膜原有的光學性能。所涂布的抗粘連物質僅附著在薄膜的外表面，抗粘連粒子的粒徑及其在薄膜表面分布的量可以通過涂布液配方得到調整，因而薄膜的抗粘連性可通過改變涂布液配方進行調整。本發明提供的高透明聚酯薄膜具有良好的光學性能，其透光率為 85-95%，霧度為0. 5-1. 8%，可用作光學薄膜，廣泛應用于液晶顯示設備。本發明提供的高透明聚酯薄膜的制備方法，生產工藝簡單，易于操作。
圖1為現有添加無機抗粘連粒子的薄膜結構示意圖；圖2為本發明提供的表面涂布二氧化硅粒子的高透明聚酯薄膜結構示意圖；圖3為本發明提供的單面涂布二氧化硅粒子的高透明聚酯薄膜剖面示意圖；圖4為本發明提供的雙面涂布二氧化硅粒子的高透明聚酯薄膜剖面示意圖；圖5為本發明提供的單面涂布二氧化硅粒子的高透明聚酯薄膜剖面示意圖。圖中1為聚酯薄膜基材，2為無機抗粘連粒子，3為二氧化硅粒子，4為水性樹脂。
具體實施例方式以下結合實施例更加具體地說明本發明的技術方案，其中，聚酯薄膜制備原料采用市場上銷售的膜級聚酯切片，一般為市場上銷售的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或其共聚改性聚酯；水性樹脂可以是水溶性聚丙烯酸酯、水溶性聚氨酯、水溶性磺化聚酯；膠體硅一般為市場上常見的二氧化硅膠體水溶液。實施例中所述的百分含量為重量百分含量。所述水性樹脂的百分含量為水性樹脂溶液中有效成分(水性樹脂固體部分)的百分含量；所述膠體硅的百分含量為硅膠體溶液中有效成分(膠體硅固體部分)的百分含量，例如，涂布液是10%固含量的水性樹脂及膠體硅水溶液，主要成分8%水性樹脂，2%膠體硅，余量為純凈水。其中，8%水性樹脂是指8% 水性樹脂固體，2%膠體硅是指2%的膠體硅固體。配制100公斤上述所例舉的涂布液的計量方法如下需加入8公斤的水性樹脂固體，2公斤的膠體硅固體；如果水性樹脂溶液(原材料)的有效成分為觀％，則8/0. 28 = 28. 57公斤，即需要加入觀.57公斤水性樹脂溶液； 如果膠體硅溶液(原材料)的有效成分為34%，則2/0. 34 = 5. 88公斤，即需要加入5. 88 公斤膠體硅溶液，余量的純凈水為100-28. 57-5. 88 = 65. 55公斤，即需要加入65. 55公斤水。實施例中所用涂布液原料及配制過程、聚酯薄膜基材原料及制備工藝、所得薄膜表面性能及評價等如下所述。(1)涂布液原料及其配制水性樹脂使用荷蘭DSM NeoResins B. V.公司生產的聚氨酯水溶液，商品名NeoRez R-630(帝斯曼利康樹脂)，有效成分含量觀％。膠體硅使用EKA (依卡)化學品公司生產的納米膠體硅，商品名NYACOL 2034DI，有效成分含量34% (可由EKA化學品公司直接購買， 也可由中國廣州和氏璧化工材料有限公司提供)。涂布液是1-10%固含量的水性樹脂及膠體硅水溶液，主要成分0. 9-8%水性樹脂，0. 1-2%膠體硅，余量為純凈水。涂布液制備過程將計算量的水和水性樹脂溶液混和均勻，緩慢加入計算量的膠體硅水溶液，攪拌均勻，過濾備用。(2)聚酯薄膜原料及制備過程聚酯薄膜基材原料采用中國儀征化纖有限公司生產的膜級聚酯切片，商品牌號 FG620。上述聚酯薄膜基材原料在日本三菱重工公司或德國布魯克納公司生產的聚酯薄膜拉伸生產線上進行聚酯薄膜的制備。薄膜的制備步驟如下聚酯原料經干燥后熔融擠出鑄片，所得厚片在100°c下縱向拉伸4倍，使用所配制的涂布液進行雙面或單面涂布，在橫向預熱段經98°C干燥之后，在104°C下橫向拉伸3.8倍，在225°〇下熱定型處理，冷卻之后收卷，最終制成厚度為12-250 μ m的聚酯薄膜(可簡稱薄膜)。(3)制備所得聚酯薄膜的表面抗粘連性通過摩擦系數的測定來評價，抗粘連性越高對應的摩擦系數越低。摩擦系數的測定依據是GB 10006-88塑料薄膜和薄片摩擦系數測定方法，在濟南蘭光機電技術有限公司的MXD-OlA摩擦系數儀上進行。(4)制備所得聚酯薄膜的光學性能通過光透過率和霧度的測定來評價，薄膜的光透過率越高及霧度越低則其光學性能越高。光透過率和霧度的測定依據是GB/T 2410-2008 標準，在英國Diffusion公司的EEL 57D霧度儀上進行。
(5)制備所得聚酯薄膜表面的抗粘連粒子的粒徑通過掃描電子顯微鏡(SEM)測量得出，為 0. 2-0. 8 μ m。(6)所述抗粘連粒子和水性樹脂在薄膜表面的用量，由下述方法推算出來涂布過程中，薄膜基材的速度是150m/min，膜寬為細，每小時涂布的總面積為 150X4X60 = 36000m2'每小時用掉的涂布液為7 ,平均每平方米的涂布液為72/36000 =0. 002kg = 2g，這是濕量。涂布液的固含量范圍1-10%，當涂布液的固含量是1 %時，干燥后，所述抗粘連粒子和水性樹脂在薄膜表面的用量為2X0. 01 = 0. 02g/m2 ；當涂布液的固含量是10%時，干燥后，所述抗粘連粒子和水性樹脂在薄膜表面的用量為2X0. 1 = 0. 2g/ m2。因此，抗粘連粒子和水性樹脂在薄膜表面的用量為0. 02g-0. 2g/m2。如圖2、圖3和圖4所示，本發明提供的高透明聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材1和抗粘連粒子3，所述抗粘連粒子3通過水性樹脂4粘結在所述聚酯薄膜基材的表面。如圖3所示，本發明提供的單面涂布二氧化硅粒子的高透明聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材1和抗粘連粒子3，所述抗粘連粒子3通過水性樹脂4粘結在所述聚酯薄膜基材1的表面。如圖2和圖4所示，本發明提供的雙面涂布二氧化硅粒子的高透明聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材1和抗粘連粒子3，所述抗粘連粒子3通過水性樹脂4粘結在所述聚酯薄膜基材的表面。粘附在聚酯薄膜基材1表面的水性樹脂4可以是連續的，如圖3和圖4所示；粘附在聚酯薄膜基材1表面的水性樹脂4也可以是不連續的，如圖5所示。粘附在聚酯薄膜基材1表面的水性樹脂4可以是部分連續，部分不連續的粘結物質。實施例1按前述方法制備薄膜，其中涂布工藝為單面涂布，所用涂布液有效成分的配方為 4.0%的水性樹脂和0.8%的膠體硅。制得的薄膜基材厚度為12 μ m，抗粘連粒子的粒徑為 0. 2-0. 8 μ m。所得薄膜表面抗粘連性能及光學性能測定結果見表1。實施例2按前述方法制備薄膜，其中涂布工藝為單面涂布，所用涂布液有效成分的配方為 8.0%的水性樹脂和1.6%的膠體硅。制得的薄膜基材厚度為12 μ m，抗粘連粒子的粒徑為 0. 2-0. 8 μ m。所得薄膜表面抗粘連性能及光學性能測定結果見表1。實施例3按前述方法制備薄膜，其中涂布工藝為雙面涂布，所用涂布液有效成分的配方為 2. 5%的水性樹脂和0. 5%的膠體硅。制得的薄膜基材厚度為12 μ m，抗粘連粒子的粒徑為 0. 2-0. 6 μ m。所得薄膜表面抗粘連性能及光學性能測定結果見表1。實施例4按前述方法制備薄膜，其中涂布工藝為雙面涂布，所用涂布液有效成分的配方為 5.0%的水性樹脂和1.0%的膠體硅。制得的薄膜基材厚度為12 μ m，抗粘連粒子的粒徑為 0. 2-0. 8 μ m。所得薄膜表面抗粘連性能及光學性能測定結果見表1。表權利要求
1.一種高透明聚酯薄膜，其特征在于所述聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材和抗粘連粒子，所述聚酯薄膜基材的厚度為12-250 μ m，所述抗粘連粒子通過水性樹脂粘結在所述聚酯薄膜基材的表面。
2.一種如權利要求1所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于所述聚酯薄膜基材的厚度為 12-72 μ m。
3.—種如權利要求1所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于，所述聚酯薄膜基材的厚度為 50-250 μ mo
4.一種如權利要求1所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于所述聚酯薄膜基材原料包括聚對苯二甲酸215酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 或其共聚改性聚酯；所述抗粘連粒子為無機粒子，通過水性樹脂粘結在聚酯薄膜基材表面。
5.一種如權利要求4所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于所述抗粘連粒子為二氧化硅顆粒，所述水性樹脂包括水溶性聚丙烯酸酯、水溶性聚氨酯或水溶性磺化聚酯。
6.一種如權利要求1至5之一所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于所述水性樹脂和抗粘連粒子在粘結在所述聚酯薄膜基材表面之前，先配制成涂布液，通過涂布技術涂布到所述聚酯薄膜基材表面，干燥后，抗粘連粒子通過水性樹脂粘結在所述聚酯薄膜基材表面； 所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂 0.9-8%膠體硅0. 1-2%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分。
7.—種如權利要求6所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于所述涂布液的組成如下 (下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂2.5-6%膠體硅0.5-1.6%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分。
8.一種高透明聚酯薄膜的制備方法，其特征在于所述聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材， 所述聚酯薄膜基材的厚度為12-250 μ m，所述聚酯薄膜基材外表面通過水性樹脂粘結有抗粘連粒子或顆粒，所述聚酯薄膜制備方法如下所述聚酯薄膜基材采用雙向拉伸工藝制備，所述雙向拉伸工藝包括原料干燥，熔融擠出，鑄片，縱向拉伸，橫向拉伸，熱定型，冷卻，牽引，收卷工序；在所述縱向拉伸和橫向拉伸工序之間增加了涂布工序，在所述縱向拉伸工序完成之后，在所述涂布工序中，將含有所述水性樹脂和抗粘連粒子的涂布液涂布到聚酯薄膜基材表面，所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量)水性樹脂0.9-8%膠體硅0. 1-2%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分；所述涂布液在橫向拉伸的預熱段完成干燥。
9.一種如權利要求8所述的高透明聚酯薄膜的制備方法，其特征在于所述涂布液的組成如下(下述百分含量為重量百分含量) 水性樹脂2.5-6%膠體硅0.5-1.6%其余為純凈水；所述水性樹脂是指樹脂水溶液中的固體有效成分；所述膠體硅是指膠體硅水溶液中的固體有效成分。
10. 一種如權利要求1所述的高透明聚酯薄膜，其特征在于所述聚酯薄膜基材的厚度為12-72 μ m，所述涂布工序中采用的涂布方式為凹版涂布或棒式涂布。
全文摘要
本發明涉及一種聚酯薄膜及其制備方法，尤其是一種高光透過率、低霧度的高透明聚酯薄膜及其制備方法。為了解決現有技術中在整個聚酯薄膜中添加抗粘連粒子降低薄膜的光學性能的問題，本發明提供了一種高透明聚酯薄膜，該聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材和抗粘連粒子，所述聚酯薄膜基材的厚度為12-250μm，所述抗粘連粒子通過水性樹脂粘結在所述聚酯薄膜基材的表面；本發明提供的高透明聚酯薄膜具有良好的光學性能，其透光率為85-95％，霧度為0.5-1.8％，可用作光學薄膜，廣泛應用于液晶顯示設備。本發明還提供了一種高透明聚酯薄膜的制備方法，該制備方法工藝簡單，易于操作。
文檔編號B32B27/36GK102501522SQ2011103336
公開日2012年6月20日 申請日期2011年10月28日 優先權日2011年10月28日
發明者不公告發明人 申請人:寧波長陽科技有限公司