疊層反射體、認(rèn)證卡、條形碼標(biāo)簽、認(rèn)證系統(tǒng)以及認(rèn)證區(qū)域形成系統(tǒng)的制作方法

專利名稱：疊層反射體、認(rèn)證卡、條形碼標(biāo)簽、認(rèn)證系統(tǒng)以及認(rèn)證區(qū)域形成系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及針對惡意地進(jìn)行偽造或重寫等行為的第三者或出售偽造 產(chǎn)品的第三者，利用其隱秘性和認(rèn)證性，具有容易判定真?zhèn)蔚恼J(rèn)證信息的 疊層反射體及使用該疊層反射體的認(rèn)證卡、條形碼標(biāo)簽、認(rèn)證系統(tǒng)及認(rèn)證 區(qū)域形成系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在信用卡(credit card)或ID卡記錄認(rèn)證信息，利用在卡的背面設(shè)置 的磁記錄部或在前面貼合的全息攝影等進(jìn)行對其真?zhèn)蔚谋鎰e。例如在下述 專利文獻(xiàn)1、 2中舉出的美國專利中公開了利用全息攝影圖像的認(rèn)證。另外，在下述專利文獻(xiàn)3中公開的護(hù)照(passport)中，在由高分子 液晶材料形成的層上形成不借助偏振片而不可目視辨識的潛像，在其下面 形成反射層。接著，還公開了通過照射偏振光，借助偏振片觀察反射光， 進(jìn)行作為潛像形成的圖案的認(rèn)證的方法。另外，作為在相位差薄膜形成潛像的方法，如下述專利文獻(xiàn)4所公開， 向相位差薄膜部分地賦予?；瘻囟纫陨系臒?，使該部分的相位差(分子的 取向比)降低的方法或通過涂敷可以使相位差薄膜溶解或溶脹的藥液，使 該部分的相位差降低的方法。進(jìn)而，還包括下述專利文獻(xiàn)5中公開的光學(xué)元件改變相位差層的光學(xué) 軸的方位角而形成潛像，并借助偏振片的觀察而進(jìn)行認(rèn)證的方法。專利文獻(xiàn)l:美國專利第5574790號專利文獻(xiàn)2:美國專利第5393099號專利文獻(xiàn)3:特開2001—232978號公報專利文獻(xiàn)4:特開平8—334618號公報專利文獻(xiàn)5:特表2001—525080號公報在專利文獻(xiàn)l、 2中公開的信用卡等的認(rèn)證的情況下，全息攝影部分的偽造存在問題。全息攝影的情況下，是在pm級(order)的凹凸上形成 鋁等高反射率的金屬薄膜來制造的。另外，全息攝影圖案可以目視，如果 有切削裝置，則有時可以仿造。所述專利文獻(xiàn)3的情況下，公開了潛像的形成使用對熱致 (thermotropic)的高分子液晶層的熱過程等來制作。該方式的情況下， 高分子液晶的取向機構(gòu)因壓力等外力而不同，所以為了得到充分的取向性 而必需在高壓力下的加壓或充分的"剪切應(yīng)力"。因而，為了得到對應(yīng)加 熱圖案的調(diào)制相位差后的潛像，液晶的取向必需在面內(nèi)具有雙折射，所以 為了使滯相軸具有面內(nèi)的特定方向而必需在液晶狀態(tài)下向液晶施加充分 的"剪切應(yīng)力"。因此，在加熱下向基材或液晶層本身施加壓力，所以存 在基材的變形或發(fā)生對液晶層的損壞等問題，例如，接觸的壓痕成為凹凸 的圖案，從而存在即使不使用偏振片也可以使?jié)撓窨梢娀⒖梢姷膯栴}。進(jìn)而，在專利文獻(xiàn)4中公開的方法中，雖然可以制作潛像，但如果需 要消除相位差薄膜的相位差，必需將相位差薄膜的溫度加熱至玻化溫度以 上，進(jìn)而必需保持規(guī)定時間以上。如上所述，通過將相位差薄膜加熱到玻 化溫度以上，會在相位差薄膜產(chǎn)生分子取向的緩和，由于表面形狀形成凹 凸而使?jié)撓窨梢娀?，從而變成可見。這與在非接觸狀態(tài)下進(jìn)行的加熱情況 相同，即使在無壓力下，取向緩和也會導(dǎo)致薄膜的永久變形。進(jìn)而，涂敷藥液的情況也一樣，相位差薄膜產(chǎn)生分子取向緩和必需相 對形成相位差薄膜的高分子給予高度的自由度，結(jié)果伴隨著緩和，產(chǎn)生了 表面形狀的變形。涂敷藥液的情況下，藥液本身的滲入盡管可以控制該變 形，但由于是從表面的滲入，所以在不伴隨形狀緩和的程度的情況下，不 能充分地減小相位差。即，存在不能加大潛像的對比度的問題。進(jìn)而，藥 液溶脹的情況下，由于向相位差薄膜的厚度方向滲入的同時會產(chǎn)生向?qū)挾?方向的擴展，所以存在不能得到以相位差發(fā)生變化的部分與沒有發(fā)生變化 的部分形成的潛像的析像度的問題。在為專利文獻(xiàn)5中公開的方法的情況下，必需形成光取向膜，借助掩?；蛘邟呙枵丈湎蛞?guī)定方向的偏振光紫外線，然后照射向其他方向的偏振 光紫外線，形成聚合性液晶或液晶高分子薄膜，并使其取向，固定的工序，具有非常復(fù)雜的工序。此時，確定液晶的取向方向的光取向膜價格高，而 且，聚合性液晶或液晶高分子的價格也較高。進(jìn)而，必需準(zhǔn)備2個具有不 同方向的偏振光方向的一樣強的偏振光紫外線光源，效率較低且裝置本身 的價格也高。液晶層通常利用涂敷工序制作，但由于液晶自身的雙折射的 大小較大，所以如果需要得到一定的相位差，則難以控制薄膜的厚度。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明正是鑒于上述實際情況而提出的，其課題在于提供一種在相位 差薄膜部分地產(chǎn)生分子取向的緩和從而形成認(rèn)證信息的潛像時不需要復(fù) 雜的工序而且不會由于在表面形成凹凸而使?jié)撓窨梢娀寞B層反射體以 及使用該疊層反射體的認(rèn)證卡、條形碼標(biāo)簽、認(rèn)證系統(tǒng)以及認(rèn)證區(qū)域形成 系統(tǒng)。為了解決上述課題，本發(fā)明中的疊層反射體是具有設(shè)定成相對觀察波長X的相位差A(yù)nd,為mX人/4(m為正的奇數(shù))的相位差薄膜和在該相位 差薄膜的背面?zhèn)券B層的反射機構(gòu)的疊層反射體，其特征在于，將在相位差薄膜上預(yù)先形成的規(guī)定的認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū)域形成為與 所述相位差A(yù)n山不同的相位差A(yù)nd2，進(jìn)而在相位差薄膜的正面?zhèn)刃纬晒馍⑸鋵?。對此結(jié)構(gòu)的疊層反射體的作用，效果進(jìn)行說明。疊層反射體具有相位 差薄膜和在該相位差薄膜的背面?zhèn)券B層的反射機構(gòu)、在相位差薄膜的正面 側(cè)形成的光散射層。在相位差薄膜預(yù)先形成基于規(guī)定的認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū) 域。相位差薄膜設(shè)定成相對觀察波長X的相位差A(yù)nd,為mXV4(m為正 的奇數(shù))。因此，例如如果借助偏振片入射相對該相位差薄膜的滯相軸具 有45°的偏振光方向的直線偏振光(觀察光)，則具有所述相位差，所以 直線偏振光轉(zhuǎn)換成圓偏振光。該圓偏振光利用設(shè)置于相位差薄膜的背面?zhèn)?的反射機構(gòu)，被轉(zhuǎn)換成相反的極性的圓偏振光，進(jìn)而被反射。該反射光重 新透過相位差薄膜，從而成為與原來的直線偏振光大致正交的角度的直線 偏振光。因而，不能透過偏振片而成為黒顯示。即，對于相位差薄膜的非 認(rèn)證區(qū)域，可以觀察到黑顯示。另一方面，對于形成有認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū)域，形成為與非認(rèn)證區(qū)域的相位差A(yù)n山不同的相位差A(yù)nd2。認(rèn)證區(qū)域的形成例如通過將該部分加 熱至?；瘻囟纫陨系臏囟?，產(chǎn)生取向緩和，變成比原來的相位差A(yù)nd,小 的相位差A(yù)nd2。因而，如果入射與前面相同的直線偏振光，則成為與在 非認(rèn)證區(qū)域得到的圓偏振光相比橢圓率較小的橢圓偏振光，所以用反射機 構(gòu)反射時的偏振光的逆轉(zhuǎn)變小。因而，再次透過相位差薄膜的偏振光不會 成為與原來的直線偏振光正交的方式，所以與來自非認(rèn)證區(qū)域的反射光相 比，來自認(rèn)證區(qū)域的反射光的一方的透過率變高。因而，可以辨識在認(rèn)證 區(qū)域形成的認(rèn)證信息。另外，認(rèn)證信息可以通過使用偏振片確認(rèn)，不能利 用通常光(沒有偏振片的狀態(tài)下)確認(rèn)。另外，在相位差薄膜的正面?zhèn)刃纬晒馍⑸鋵?。例如通過加熱非認(rèn)證區(qū) 域，用印模(stamp)按壓，特別是在非認(rèn)證區(qū)域與認(rèn)證區(qū)域的邊界部分 產(chǎn)生凹凸，有時其即使在通常光下也看得見。因此，通過形成光散射層， 可以實際上不能看出這樣的凹凸。結(jié)果，能夠提供一種在相位差薄膜部分 地產(chǎn)生分子取向的緩和，在形成認(rèn)證信息的潛像時，不會由于在表面發(fā)生 凹凸而使?jié)撓窨梢娀寞B層反射體。本發(fā)明中的相位差薄膜的所述相位差A(yù)nd,優(yōu)選以土V16的誤差制造。如果誤差超過士V16，則在所述的觀察方法中，非認(rèn)證區(qū)域中的反射 光透過偏振片的量變大，與認(rèn)證區(qū)域的對比度變小。通過將誤差抑制在 ±X/16，可以得到規(guī)定的對比度，變得容易辨認(rèn)(或者讀取)觀察時的認(rèn) 證信息。本發(fā)明中的認(rèn)證區(qū)域中的相位差A(yù)nd2優(yōu)選被設(shè)定成nXV4 (n為0 或正的偶數(shù)，其中，n<m)。如果設(shè)定成這樣的相位差A(yù)nd2，向相位差薄膜入射與前面相同的直 線偏振光，則透過相位差薄膜的偏振光也為直線偏振光，所以在反射機構(gòu) 中的反射時不會產(chǎn)生偏振光轉(zhuǎn)換。因而，被反射機構(gòu)反射，再次透過相位 差薄膜的反射光成為與入射時相同的偏振光方向的直線偏振光，所以幾乎 均透過偏振片。即，非認(rèn)證區(qū)域幾乎不透過反射光，與此相對，認(rèn)證區(qū)域 幾乎透過反射光，所以可以得到最大的對比度，能夠容易地辨認(rèn)認(rèn)證信息。本發(fā)明中的認(rèn)證區(qū)域的相位差A(yù)nd2優(yōu)選以士V8的誤差制造。如果誤差超過土V8，則在所述的觀察方法中，透過偏振片的反射光的量減少，與非認(rèn)證區(qū)域的對比度變小。通過將誤差抑制在士A78，可以 得到規(guī)定的對比度，變得容易辨認(rèn)觀察時的認(rèn)證信息。特別是所述認(rèn)證區(qū)域的相位差A(yù)nd2優(yōu)選為以下。從容易控制相 位差的大小的觀點出發(fā)，在所述式中，最好m二l、 n=0，相位差A(yù)nd2 的誤差為X/8以下。這樣，可以簡單地形成需要的相位差的認(rèn)證區(qū)域，而 且還能夠保證對比度。本發(fā)明中的認(rèn)證區(qū)域優(yōu)選如下所述地形成通過在相位差薄膜按壓或 者在極為接近處配置具有對應(yīng)認(rèn)證信息的加熱圖案的印模來熱緩和相位 差薄膜的取向。具有認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū)域的形成可以通過暴露加熱圖案進(jìn)行。例如包 括通過在相位差薄膜按壓或者在相位差薄膜的極為接近處配置具有預(yù)先 圖案化的高溫區(qū)域的印模來熱緩和取向的方法。形成的圖案表示規(guī)定的認(rèn) 證信息。只要預(yù)先準(zhǔn)備印模即可，例如與專利文獻(xiàn)5的結(jié)構(gòu)相比，可以利 用簡單工序形成認(rèn)證區(qū)域。本發(fā)明中的認(rèn)證區(qū)域優(yōu)選如下所述地形成通過在相位差薄膜使對應(yīng) 認(rèn)證信息圖案化的光線曝光或者相對相位差薄膜掃描光線，來曝光形成規(guī) 定的圖案，進(jìn)而熱緩和相位差薄膜的取向。作為暴露加熱圖案的其他方法，包括通過在相位差薄膜使圖案化的光 線曝光或者相對相位差薄膜掃描光線，來邊形成邊曝光加熱圖案的方法。 這樣，利用光線具有的熱能量，可以熱緩和相位差薄膜的取向。向相位差 薄膜曝光的光線必需至少被相位差薄膜或反射機構(gòu)吸收并變成熱，更優(yōu)選 使用具有可以被它們吸收的波長的光線。例如，可以使用紅外線激光、二 氧化碳激光、YAG激光等。相對本發(fā)明中的認(rèn)證區(qū)域的加熱溫度優(yōu)選為相位差薄膜的玻化溫度 (Tg)以上的溫度。如果從熱緩和取向的觀點出發(fā)，加熱溫度通常為Tg 十20。C以上。優(yōu)選為Tg+30。C以上。進(jìn)而優(yōu)選為TG+50。C以上。在該熱 緩和過程中，在加熱下，構(gòu)成相位差薄膜的分子成為更活躍的狀態(tài)，其取 向狀態(tài)發(fā)生變化，成為更隨機的取向狀態(tài)。特別是只要用大大地超過Tg 的溫度的加熱，在該熱緩和過程中，相位差薄膜成為非常柔軟的狀態(tài)，伴隨著取向狀態(tài)的變化，表面狀態(tài)也變化，形成凹凸。這樣，可以形成認(rèn)證 信息。作為本發(fā)明中的認(rèn)證信息的例子，包括利用一維或二維條形碼形成。 通常的條形碼標(biāo)簽雖然利用印刷工序制作，但通常在光下可以容易地辨 識。在可以辨識的狀態(tài)下，條形碼代碼位置的特定、信息的讀取變得容易， 可以被簡單地復(fù)制。如果利用使用本發(fā)明中的疊層反射體構(gòu)成這種條形碼 信息，則能夠難以復(fù)制信息。在本發(fā)明中，光散射層的光散射要素的尺寸優(yōu)選小于在認(rèn)證區(qū)域形成 的圖案的尺寸。特別是有時在非認(rèn)證區(qū)域與認(rèn)證區(qū)域的邊界部分形成凹 凸，有時在通常光下看得見認(rèn)證信息。因此，設(shè)置光散射層，但如果光散 射層中的光散射要素大于圖案，則不能得到實際上看不見凹凸形狀的效果 (隱蔽效果)。因此，光散射要素的尺寸優(yōu)選小于圖案的尺寸。本發(fā)明中的光散射要素為光散射層的表面的凹凸形狀及/或在光散射 層中分散的粒子狀物，其尺寸小于所述圖案的尺寸的1/4。光散射要素的尺寸越小于圖案的尺寸，效果越好，但特別是通過小于 1/4，可以進(jìn)一步發(fā)揮隱蔽效果。本發(fā)明中的光散射層通過粘附于相位差薄膜的正面?zhèn)葋硇纬?，可以進(jìn) 一步發(fā)揮隱蔽效果。本發(fā)明中的光散射層優(yōu)選利用透明的樹脂和分散于其中的透明的微 粒的混合物形成。利用這樣的結(jié)構(gòu)，可以使光散射，能夠隱蔽凹凸形狀。本發(fā)明中的反射機構(gòu)優(yōu)選由用衍射光柵形成的相位型全息攝影構(gòu)成。 通過使用這種相位型全息攝影，可以提高偽造困難性。本發(fā)明中的疊層反射體可以設(shè)置于認(rèn)證卡。作為認(rèn)證卡，例如可以舉出預(yù)付卡(prepaid card)、信用卡、ID卡等。另外，還可以設(shè)成圖案為 一維或二維的條形碼的條形碼標(biāo)簽。為了證明這些認(rèn)證卡的真?zhèn)?，可以?用粘接劑或粘合劑，貼付使用本發(fā)明中的疊層反射體?？梢岳帽景l(fā)明中的疊層反射體構(gòu)成認(rèn)證系統(tǒng)，其特征在于，具有相對疊層反射體照射光的光源，和用于讀取來自疊層反射體的反射光的受光部，和配置于疊層反射體與受光部之間的直線偏振片；該直線偏振片的吸收軸被設(shè)定成與構(gòu)成疊層反射體的相位差薄膜的光學(xué)軸不同的角度。通過使用該認(rèn)證系統(tǒng)，可以可見化作為潛像形成的認(rèn)證信息。作為讀 取用的光源，使用輸出具有觀察波長的光的光源。在光源與疊層反射體之 間，根據(jù)需要配置偏振片，轉(zhuǎn)換成直線偏振光。在為激光光源之類的具有 直線偏振光的振動的光源的情況下，不必配置所述偏振片。另外，在疊層 反射體與受光部之間的光程中配置直線偏振光，其吸收軸被設(shè)定成與相位 差薄膜的光學(xué)軸不同。因而，如上所述，在來自認(rèn)證區(qū)域的反射光與來自 非認(rèn)證區(qū)域的反射光之間產(chǎn)生對比度，可以借助直線偏振片，利用受光部 讀取認(rèn)證信息。在沒有直線偏振片的狀態(tài)下，認(rèn)證信息為潛像不變，不能 利用受光部讀取。在本發(fā)明中，通過使所述角度大致為45。，可以得到較大的對比度， 可以容易地讀取認(rèn)證信息。在本發(fā)明中，優(yōu)選具備配置于受光部和疊層反射體之間的針孔或縫 隙，禾口借助該針孔或縫隙掃描在疊層反射體形成的認(rèn)證信息的掃描機構(gòu)； 構(gòu)成為利用所述受光部對被掃描的認(rèn)證信息進(jìn)行受光。 認(rèn)證信息的讀取也可以通過借助針孔或縫隙，在受光部對來自疊層反 射體的反射光進(jìn)行受光。這種情況下，通過使針孔或縫隙相對疊層反射體 相對地移動，可以掃描、讀取認(rèn)證信息。例如，可以通過使針孔或縫隙相 對疊層反射體移動或者固定針孔或縫隙而使疊層反射體移動，來掃描、讀 取認(rèn)證信息。為了在本發(fā)明中的疊層反射體形成認(rèn)證區(qū)域而使用的認(rèn)證區(qū)域形成 系統(tǒng)的特征在于，具有可以加熱到相位差可以變化的溫度以上的加熱機 構(gòu)。作為加熱機構(gòu)的具體例，如上所述，可以舉出具有加熱圖案的印?；?使用激光等光線的曝光機構(gòu)等。


圖1是表示疊層反射體的剖面結(jié)構(gòu)的圖。圖2是說明對認(rèn)證區(qū)域進(jìn)行可見化的原理的圖。圖3是表示利用加熱印模形成認(rèn)證區(qū)域的方法的圖。圖4是表示利用使用了掩模的光線形成認(rèn)證區(qū)域的方法的圖。 圖5是利用光線掃描形成認(rèn)證區(qū)域的方法的圖。圖6是表示作為反射層使用相位型全息攝影的情況的構(gòu)成例的圖。圖7是表示疊層反射體的制造工序的圖。圖8是表示認(rèn)證系統(tǒng)的構(gòu)成例的圖。圖9是表示認(rèn)證系統(tǒng)的其他構(gòu)成例的圖。圖中，l一疊層反射體，2—偏振片，5 —印模，IO —相位差薄膜，10a 一認(rèn)證區(qū)域，10b —非認(rèn)證區(qū)域，ll一金屬反射板，12 —光散射層，13 — 第1粘合劑層，14一第2粘合劑層，20 —薄膜輥，21—粘合劑輥，22 —金 屬箔輥，23 —粘合劑輥，30 —光源，31—偏振片，32 —半透半反鏡，33 一偏振片，34 —受光部，35 —讀取裝置，36 —顯示部，37 —反射層，38 一全息攝影形成層，Kl、 K2、 K3、 K4一工序，x—滯相軸，y—進(jìn)相軸。具體實施方式

使用

本發(fā)明中的疊層反射體的優(yōu)選實施方式。圖1是表示疊 層反射體1的剖面結(jié)構(gòu)的示意圖。在圖1中，在相位差薄膜10的背面?zhèn)?疊層金屬反射板11 (相當(dāng)于反射機構(gòu))，在相位差薄膜10的正面?zhèn)刃纬?硬涂層12 (相當(dāng)于光散射層)。另外，設(shè)置用于貼付相位差薄膜10和金 屬反射板11的第1粘合劑層13，同時也在金屬反射板11的背面?zhèn)仍O(shè)置 第2粘合劑層14。制作相位差薄膜10以使其相位差A(yù)n山滿足下式(1)。<formula>formula see original document page 12</formula>…(1) (人為觀察波長m為正的奇數(shù))在上述式中，士X/16表示制造誤差。在相位差薄膜10中形成形成了認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū)域10a、和其以外 的非認(rèn)證區(qū)域10b。在認(rèn)證區(qū)域10a中記錄用于認(rèn)證的認(rèn)證信息作為潛像。 認(rèn)證信息形成為在通常光下不能觀察到，但在特殊的環(huán)境下可以觀察。所 述(1)式為在非認(rèn)證區(qū)域10b中的相位差A(yù)nd,，認(rèn)證區(qū)域10a中的相位 差A(yù)nd2形成為下式(2)。對于認(rèn)證區(qū)域10a的形成方法，后面敘述。<formula>formula see original document page 12</formula>…(2)'a為觀察波長n為0或正的偶數(shù)，其中，n<m)， 認(rèn)證區(qū)域10a的更優(yōu)選相位差A(yù)nd2用下式(3)表示。 And2^ i/8... (3)艮P，在式(2)中，相當(dāng)于n二0的情況。 <觀察原理>下面參照圖2，對觀察認(rèn)證信息時的原理進(jìn)行說明。首先，對相位差 薄膜10，入射具有規(guī)定的偏振光方向的直線偏振光Ll。相位差薄膜10 的滯相軸x和進(jìn)相軸y如圖2所示，以偏振光方向相對滯相軸x傾斜規(guī)定 角度的狀態(tài)入射。最優(yōu)選以偏振光方向相對滯相軸x傾斜45。的狀態(tài)入 射。在以下的說明中，將其設(shè)定成45° ，進(jìn)行說明。另外，將相位差薄 膜10的非認(rèn)證區(qū)域10b中的相位差A(yù)nd,設(shè)為X/4(m二0，即1/4波阻片)， 將認(rèn)證區(qū)域10a中的相位差A(yù)nd2設(shè)為0 (n=0)，進(jìn)行說明。如圖2所示，在非認(rèn)證區(qū)域10b中，如果入射直線偏振光L1從而透 過相位差薄膜10，則轉(zhuǎn)換成圓偏振光L2。如果該圓偏振光L2利用金屬 反射板11反射，則成為相反極性的圓偏振光L3。如果該圓偏振光L3再 次透過相位差薄膜IO，則作為直線偏振光L4的反射光射出，但該反射光 的偏振光方向成為相對入射光的偏振光方向正交的方向。因此，如果將觀 察用的偏振片2配置成其吸收軸與反射光的偏振光方向一致，則反射光不 能通過偏振片2。因而，非認(rèn)證區(qū)域10b可以觀察到黑顯示。接著，在認(rèn)證區(qū)域10a中，即使直線偏振光L1同樣地入射，也沒有 相位差，所以即使在金屬反射板ll中的反射前后，也為直線偏振光L2'、 L3'不變，偏振光方向也不改變。這種直線偏振光L3'即使在從相位差薄膜 IO射出之后，也為與入射時相同的偏振光方向的直線偏振光L4'。因而， 反射光不被觀察用的偏振片2吸收而透過，所以如圖2所示，可以以可見 化的狀態(tài)觀察在認(rèn)證區(qū)域10a形成的潛像"N"。另外，只要在上述式(2)的范圍，向認(rèn)證區(qū)域10a入射的直線偏振 光Ll如果透過認(rèn)證區(qū)域10a，則成為橢圓偏振光，但與非認(rèn)證區(qū)域10b 中的圓偏振光相比，橢圓率變小。因而，金屬反射板11中的逆轉(zhuǎn)程度與 非認(rèn)證區(qū)域10a的情況相比變小。因而，該反射光的大部分可以透過偏振 片2。通過制作成非認(rèn)證區(qū)域10b的相位差成為式(1)的范圍，而且制作成認(rèn)證區(qū)域10a的相位差成為式(2)、 (3)的范圍，可以充分地保證認(rèn)證 區(qū)域10a與非認(rèn)證區(qū)域10b中的對比度。因而，可以容易地讀取認(rèn)證信息。 關(guān)于式(1)，如果誤差為土X716的水平，則反射光中的極少一部分透過偏 振片2，而關(guān)于認(rèn)證信息的讀取，應(yīng)該不是成為問題的水平。另外，關(guān)于 式(2)，如果誤差為土X/8的水平，則反射光中的一部分未透過偏振片2， 而關(guān)于認(rèn)證的讀取，應(yīng)該不是成為問題的水平。而且，在制造相位差薄膜10時，容易控制相位差A(yù)nd的大小的是在 m=l (g卩，為l/4波阻片的情況)，且n二O的情況。這種情況下，認(rèn)證信 息10a的相位差A(yù)nd2可以用式(3)表示。<相位差薄膜的具體例>作為相位差薄膜，可以舉出用薄膜支撐單向或雙向拉伸處理高分子原 材料而成的雙折射性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、液晶聚合物的取向?qū)?的相位差薄膜等。拉伸處理例如可以利用輥拉伸法、長間隙沿拉伸法、拉 幅機拉伸法、管式(tubular)拉伸法等進(jìn)行。拉伸倍率在單向拉伸時通常 為1.1 3倍左右。對相位差薄膜的厚度沒有特別限制，但通常為10 200(im，優(yōu)選為20 100pm。作為所述高分子材料，例如可以舉出聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚 甲基乙烯基醚、聚丙烯酸羥乙基酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲 基纖維素、聚碳酸酯、聚烯丙酯、聚砜、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘 二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基砜、聚乙烯醇、 聚酰胺、聚酰亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素系聚合物、或它們的二 元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、混合物等。這些高分子原材料 通過拉伸等成為取向物(拉伸薄膜)。作為所述液晶聚合物，例如可以舉出在聚合物的主鏈或側(cè)鏈上導(dǎo)入了 賦予液晶取向性的共軛性的直線狀原子團(tuán)(mesogene)的主鏈型或側(cè)鏈型 的各種聚合物等。作為主鏈型液晶性聚合物的具體例，可以舉出具有在賦 予彎曲性的間隔部上結(jié)合了直線狀原子團(tuán)基的構(gòu)造的聚合物，例如向列取 向性的聚酯系液晶性聚合物、圓盤狀聚合物或膽甾醇型聚合物等。作為側(cè) 鏈型液晶性聚合物的具體例，可以舉出如下的化合物等，即，以聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架，作為側(cè)鏈隔著由 共軛性的原子團(tuán)構(gòu)成的間隔部而具有由賦予向列取向性的對位取代環(huán)狀 化合物單元構(gòu)成的直線原子團(tuán)部的化合物等。這些液晶性聚合物例如在玻 璃板上已形成的聚酰亞胺或聚乙烯醇等薄膜的表面進(jìn)行摩擦處理后的材 料、斜向蒸鍍了氧化硅的材料等的取向處理面上，鋪展液晶性聚合物的溶 液后進(jìn)行熱處理。<認(rèn)證區(qū)域的形成〉接著，對在相位差薄膜10形成認(rèn)證區(qū)域10a的方法進(jìn)行說明。成為 不同相位差的具有代表性的方法為暴露加熱圖案的方法。對相位差薄膜 10，通過加熱至?；瘻囟?Tg)以上的溫度，利用取向的熱緩和進(jìn)一步變 成實際上小于原來的相位差的相位差。圖2中"N"的文字(相當(dāng)于加熱 圖案)形成為認(rèn)證信息，但可以通過暴露對應(yīng)該文字的加熱圖案，形成認(rèn) 證區(qū)域10a。例如，如圖3所示，可以加熱具有圖案形狀5a的印模5，通過將該 圖案形狀5a壓向相位差薄膜10，生成取向的熱緩和，從而形成認(rèn)證區(qū)域 10a?；蛘撸部梢圆话磯合嗤挠∧?，而通過在相位差薄膜10的極為 接近處配置，來產(chǎn)生熱緩和。例如在相位差薄膜為20pm，反射層中Al 設(shè)為20|im、 PET設(shè)為100pm，印模5的溫度為180°C，壓上時間為0.1 秒時，可以形成良好的認(rèn)證區(qū)域。也可以不使用高溫的印模5，而利用光線的熱能量，產(chǎn)生取向的熱緩 和。S卩，通過對相位差薄膜曝光預(yù)先圖案化的光線，可以產(chǎn)生熱緩和。例 如，如圖4所示，可以準(zhǔn)備形成有圖案形狀3a的掩模3，通過借助該掩 模3，利用光源4曝光，產(chǎn)生熱緩和，形成潛像。另外，也可以不使用掩 模3，而如圖5所示，通過對相位差薄膜10掃描光線，來形成認(rèn)證信息。 在圖5中，可以使用由激光光源6、光調(diào)制元件7、多角鏡8、 fB透鏡9 構(gòu)成的光學(xué)系，通過掃描光線，形成認(rèn)證信息?？梢酝ㄟ^將認(rèn)證信息的電 子化數(shù)據(jù)送至光調(diào)制元件7，使激光發(fā)生光調(diào)制，產(chǎn)生對應(yīng)認(rèn)證信息的內(nèi) 容的強弱。而且，由于激光僅掃描相位差薄膜10的主掃描方向A，所以 可以通過使相位差薄膜10自身向與主掃描方向A正交的副掃描方向B移 動，而形成二維的認(rèn)證信息10a。也可以代替多角鏡8使用檢電鏡(galvanomirror)，這種情況下，薄膜的掃描也可以形成圖案。用于曝光相位差薄膜10的光線至少必需被相位差薄膜IO或金屬反射 板11吸收，從而被轉(zhuǎn)換成熱能量。因而，優(yōu)選使用這些相位差薄膜10或 金屬反射板11可以吸收的波長的光線。例如，優(yōu)選紅外線激光。作為激 光的方式，優(yōu)選二氧化碳激光或YAG激光。例如在相位差薄膜為20pm、 金屬反射板中Al為20itim， PET為100|im，激光為二氧化碳激光30W級。 輸出45%，掃描速度(scan speed) 3000mm/秒時，可以形成良好的認(rèn)證 區(qū)域。為了產(chǎn)生如上所述的熱緩和，必需將相位差薄膜IO加熱至?；瘻囟?(Tg)以上。從熱緩和的觀點出發(fā)，通常為Tg+20。C以上，優(yōu)選為Tg十 3(TC以上，更優(yōu)選為Tg+5(TC以上。在這樣的熱緩和工序中，在加熱下， 構(gòu)成相位差薄膜10的分子成為更活躍的狀態(tài)，其取向狀態(tài)發(fā)生變化，成 為更隨機的取向狀態(tài)。例如由于用大大地超過Tg的溫度進(jìn)行加熱，在該 熱緩和工序中，相位差薄膜10成為非常柔軟的狀態(tài)，伴隨著取向狀態(tài)的 變化，表面狀態(tài)也變化，產(chǎn)生凹凸。特別是在擠壓如圖3所示的加熱印模5從而形成認(rèn)證區(qū)域10a的情況 下，上述點變得顯著。利用印模5壓上的部分在壓入的壓力下暫時凹陷， 在印模5的圖案部的側(cè)面壓出剩余樹脂。接著，在印模5從相位差薄膜 10離開時，這些樹脂被拉伸，凹凸變得更顯著。使用激光器等非接觸型 熱源的情況下，由于相位差薄膜IO自身的應(yīng)力緩和而產(chǎn)生凹凸。如果產(chǎn)生這樣的凹凸，則即使不使用具有特定的觀察波長人的觀察 光，也可能讀取認(rèn)證信息。如果在通常光下的反射光的作用下，譯碼認(rèn)證 信息，則結(jié)果會容易地允許偽造等，所以即使產(chǎn)生凹凸，也必需想出將其 隱蔽的機構(gòu)。因此，在本發(fā)明中，在相位差薄膜10的正面?zhèn)刃纬晒馍⑸?層。<光散射層的構(gòu)成>在本發(fā)明中，在相位差薄膜10的正面?zhèn)刃纬晒馍⑸鋵樱岣卟豢梢?性，從而不能從外部實際上看見凹凸。光散射層利用形成其而使用的光散 射要素，成為凹凸的特別是邊界成為模糊狀態(tài)。另外，利用光散射層12 的平坦化效果，使相位差薄膜IO上形成的凹凸實際上不可見。因而，光散射層12優(yōu)選相對相位差薄膜10以粘附的狀態(tài)設(shè)置。如果簡單地從光散射性和隱蔽性的觀點出發(fā)，最好將光散射層12從認(rèn)證區(qū)域10a離開的狀 態(tài)下設(shè)置，但從讀取認(rèn)證信息的析像度的點出發(fā)，與其從認(rèn)證區(qū)域10a剝 離光散射層12，更優(yōu)選使其粘附。光散射層12的光散射要素為在光散射層12的表面形成的微小凹凸形 狀或在光散射層12的內(nèi)部分散的粒子狀物?？梢岳眠@些光散射要素， 使認(rèn)證區(qū)域10a的凹凸的邊界散射，從而難以看見。作為光散射層12在表面形成微小凹凸的情況下，例如可以舉出在低 折射率的透明樹脂中分散高折射率的透明粒子的表面微小凹凸的涂敷固 化層或利用使氣泡分散的透明樹脂形成的表面微小凹凸的涂敷固化層，借 助溶劑使基材薄膜溶脹產(chǎn)生細(xì)微裂紋(craze夕^^X)從而成為表面微 小凹凸構(gòu)造或具有不規(guī)則的凹凸面的透明樹脂層或者在支撐基材尤其是 透明薄膜設(shè)置這些層的光散射層等。所述不規(guī)則的凹凸面可以通過在基材或其上設(shè)置的透明樹脂的涂敷 層的表面轉(zhuǎn)印粗糙面化處理后的輥或金屬模等粗糙面形狀的利用機械方 式或/及化學(xué)處理方式等適當(dāng)?shù)姆绞叫纬?。在所述透明粒子中可以使用?種或兩種以上例如平均粒徑為0.5 30pm的二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等可具有導(dǎo)電性的無機系粒子 或交聯(lián)或未交聯(lián)聚合物等有機系粒子等適當(dāng)?shù)耐该髁Ｗ?。其中，光散射?可以形成為如圖1的例子的單層物，也可以形成為在透明薄膜等透明的支 撐基材上設(shè)置表面微小凹凸層12b等的多層物。為了難以看見在認(rèn)證區(qū)域10a形成的凹凸，最好使光散射層12的厚 度大于在相位差薄膜10的認(rèn)證區(qū)域10a形成的凹凸的最大高度H (參照 圖6)。通過平坦化該凹凸，難以看見在通常光下的圖案。此時，由于難 以看見凹凸自身的存在，所以優(yōu)選使相位差薄膜10的折射率與光散射層 12的折射率盡可能接近。這樣，可以減小表面反射的大小，可以在通常 光的反射光的觀察下難以看見凹凸的存在。二者的折射率的差優(yōu)選為0.1 以下，更優(yōu)選為0.05以下，進(jìn)而優(yōu)選為0.03以下。光散射層12的光散射要素的尺寸優(yōu)選小于加熱圖案的尺寸。加熱圖 案的尺寸如圖3中W所示，在為文字的情況下，為該文字線寬，在為條形碼的情況下，為條的寬度。如果光散射要素大于加熱圖案的尺寸，則難 以發(fā)揮隱蔽效果。進(jìn)而優(yōu)選光散射要素的尺寸為加熱圖案的尺寸的1/4以 下。通過在該范圍內(nèi)，可以進(jìn)一步發(fā)揮隱蔽效果。對于光散射層12的形成方法(制造方法)，不限定于特定的方法。例如可以為在預(yù)先形成加熱圖案的相位差薄膜10的表面涂敷固化在透明樹脂中分散透明的微粒的混合物的方法，在預(yù)先形成加熱圖案的相位差薄膜10上涂敷透明的樹脂，按壓預(yù)先形成有光散射要素的凹凸的模，使其固 化，然后剝離模的方法等。通過形成這樣的光散射層12，加熱圖案(認(rèn) 證信息)通過使用偏振片，才可以觀察。對于光散射層12的材質(zhì)，沒有特別限定，例如可以使用紫外線固化 性樹脂、熱固化性樹脂等，但如果干燥或固化過程中樹脂收縮較大，則反 映下層的相位差薄膜10的形狀，光散射層12的形成效果變小，故不優(yōu)選。 因而，樹脂成分盡可能多時收縮變小，優(yōu)選。更優(yōu)選無溶劑。另外，還優(yōu) 選固化收縮小。固化收縮為10%以下，優(yōu)選為8%以下，進(jìn)而優(yōu)選為5% 以下。對于相位差薄膜10的材質(zhì)，如上所述，但優(yōu)選拉伸時可以形成一定 的相位差的熱塑性樹脂。另外，如果?；瘻囟?Tg)過低，則加熱圖案的 穩(wěn)定性變低，不優(yōu)選。另外，如果Tg過高，則加熱緩和性變低，不優(yōu)選。 優(yōu)選的Tg范圍為90。C以上180。C以下。例如聚碳酸酯樹脂、降冰片烯樹 脂、丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂等。因而，不優(yōu)選熱固化型樹脂或熱交聯(lián)型 樹脂或者UV固化型樹脂。另外，優(yōu)選在加熱溫度下不著色的材料。作為貼付相位差薄膜10和金屬反射板11的機構(gòu)，可以使用粘合劑或 粘接劑，但對于這些材料沒有特別限定。只要相對觀察波長^為透明即可。 另外，對于耐熱性優(yōu)選高的一方，只要在加熱圖案的暴露下在相位差薄膜 10與金屬反射板11之間不產(chǎn)生剝離、變形、變色等即可。作為粘合劑，例如優(yōu)選顯示出光學(xué)上透明性出色、適度的濕潤性、凝 聚性或粘接性的粘合特性的粘合劑。作為具體例子，可以舉出將丙烯酸系 聚合物或硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系或橡膠系等 聚合物作為適當(dāng)?shù)幕A(chǔ)聚合物配制而成的粘合劑等。另外，光散射層12或相位差薄膜10優(yōu)選為透明的材質(zhì)，這是指關(guān)于用于讀取認(rèn)證信息的觀察波長X為透明即可。因而，關(guān)于觀察波長X以外 的波長，也可以具有光吸收，可以用觀察波長人以外的波長在光散射層 12的表面印刷適當(dāng)?shù)男螤?，花紋。從認(rèn)證信息的不可見化的點出發(fā)，優(yōu) 選這樣的表面印刷。 <金屬反射板>對于金屬反射板11的材質(zhì)，沒有特別限定。例如可以優(yōu)選舉出鋁、不銹鋼、銅、鉻等金屬箔。為了良好地形成認(rèn)證區(qū)域10a，金屬箔的厚度 最好較厚。另外，在熱散射性和熱容量大的一方暴露于加熱圖案時，相位 差薄膜10的已熱緩和的區(qū)域限于一定范圍，所以優(yōu)選。特別是如果在金 屬反射板ll (金屬箔)的背面設(shè)置作為襯里的樹脂基材(PET薄膜等)， 則其收縮變小，優(yōu)選。另外，利用樹脂基材，剛性變高，伴隨相位差薄膜 10的熱緩和的收縮變形的影響變小，優(yōu)選。金屬箔容易嚴(yán)重地折斷，所 以通過將樹脂基材作為襯里，可以彌補這樣的缺陷。特別是在為鋁之類的 強度弱的金屬的情況下，樹脂基材的襯里是有效的。在為不銹鋼的情況下， 不一定必需樹脂基材。另外，金屬反射板11的表面形狀與鏡面相比，優(yōu) 選成為散射面。這樣可以模糊化圖案形狀。其中，如圖6所示，也可以代 替金屬反射板成為反射層用微細(xì)的凹凸的衍射柵格構(gòu)成的相位型全息攝 影。在此，反射層37被蒸鍍于全息攝影形成層38。這種情況下，在通常 的狀態(tài)下，可見全息攝影的花樣。 <使用例>接著對本發(fā)明中的疊層反射體的使用例進(jìn)行說明。其中，對于在認(rèn)證 區(qū)域10a形成的認(rèn)證信息的內(nèi)容，沒有特別限定，可以由任意文字《數(shù) 字 符號 圖樣或者它們的任意組合構(gòu)成。另外，不僅是規(guī)定的認(rèn)證用的 圖案的正像，也可以形成逆轉(zhuǎn)像。認(rèn)證信息也可以用作一維條形碼或二維 條形碼。對于疊層反射體的用途，例如預(yù)付卡、信用卡、ID卡、條形碼標(biāo)簽、 認(rèn)證標(biāo)簽、護(hù)照、駕駛執(zhí)照、各種許可證(卡)等認(rèn)證卡等。針對證明它 們的真?zhèn)蔚膶ο笪铮梢酝ㄟ^用粘接劑(例如粘合劑)貼付使用。其中， 在圖l的剖面結(jié)構(gòu)中，表示預(yù)先形成粘合劑層的結(jié)構(gòu)。<疊層反射體的制造工序>接著用圖7說明圖1所示的疊層反射體1的制造工序。制造工序大致分為4個工序K1 K4構(gòu)成。另外，為了制造疊層反射體l，預(yù)先準(zhǔn)備相 位差薄膜10 (1/4波阻片)的輥20、用于形成第1粘合劑層13的粘合劑 輥21、用于疊層金屬反射板11的金屬箔輥22和用于形成第2粘合劑層 14的粘合劑輥23。從這些各輥引出的片材狀的材料用貼合輥24貼合、疊層。在第1工序K1中，認(rèn)證信息形成為潛像。在圖例中，表示通過照射 激光形成潛像的例子。即，使用激光光源25 (相當(dāng)于加熱機構(gòu))和光掃 描結(jié)構(gòu)26來曝光形成認(rèn)證信息的潛像。在第2工序K2中，進(jìn)行涂敷用 于形成光散射層12的表面層的工序。用涂敷工序27，在相位差薄膜10 的表面涂敷微粒與透明樹脂的混合物。在第3工序K3中，用UY曝光裝 置28進(jìn)行已涂敷的光散射層的交聯(lián)固化。在第4工序K4中，進(jìn)行貼標(biāo) (labeler ，X，一)力口工。<認(rèn)證系統(tǒng)的構(gòu)成〉接著，利用圖8的示意圖說明用于使用本發(fā)明中的疊層反射體1進(jìn)行 認(rèn)證的認(rèn)證系統(tǒng)。沿著光軸配置讀取用的光源30、偏振片31、半透半反 鏡32，從光源30照射的光線利用偏振片31成為特定的偏振光方向的直 線偏振光，直接通過半透半反鏡32，向疊層反射體l入射。偏振片31的 吸收軸被配置成與相位差薄膜10的滯相軸成規(guī)定的角度(優(yōu)選為45° )。在疊層反射體1的金屬反射板11反射的反射光在半透半反鏡32進(jìn)行 90°反射之后，向觀察用的偏振片33入射。該偏振片33的吸收軸被配置 成與相位差薄膜10的滯相軸成規(guī)定的角度(優(yōu)選為45。)。與偏振片33 鄰接配置受光部34，例如由二維CCD感受器構(gòu)成。讀取裝置35處理利 用受光部34受光的信號，在顯示部36顯示讀取的認(rèn)證信息。顯示部36 例如可以使用液晶顯示監(jiān)視器。偏振片31 、 33的吸收軸與相位差薄膜10的滯相軸可以設(shè)定成不同角 度，但如上所述成45。是比較理想的。優(yōu)選45° ±5° 。這是因為，如果 在該范圍內(nèi)，非認(rèn)證區(qū)域10b的黑顯示部的透過率會成為理想的3X以內(nèi)，這樣，可以保證對比度。對于光源30的種類，沒有特別限定，可以使用白熾燈、冷陰極管或熱陰極管、鹵素?zé)?、氙燈等具有多個發(fā)光波長的光源或者鈉蒸氣燈或激光 器之類的單色光源。具有多個發(fā)光波長的光源的情況下，為了單色光化可 以組合使用濾色片。另外，關(guān)于發(fā)光波長，以可見光線為主，還可以使用 紫外線、紅外線等任意波長的光。其中，在為被相位差薄膜10或光散射 層12、粘合劑吸收的波長的光的情況下，由于信號衰減，故不優(yōu)選。另外，可以選擇相對受光部34的波長的檢出特性為最優(yōu)的光源30的波長。 對于偏振片31，也可以借助直線偏振片和1/4波阻片的圓偏振片，向 疊層反射體1入射圓偏振光。另外，在光源30為激光器之類的具有直線 偏振光的振動的情況下，不一定必需配置在光源30的前面的偏振片31。圖9是表示認(rèn)證系統(tǒng)的其他實施方式的圖。只對與圖8不同的點進(jìn)行 說明。在該實施方式中，在偏振片33與受光部34之間配置縫隙37。受 光部34例如由一維CCD線感受器構(gòu)成。如果縫隙37的縫隙形成方向及 受光部34中的線感受器的排列方向為B方向，則可以通過向圖9的箭頭 C方向移動疊層反射體1來掃描認(rèn)證信息。即使代替縫隙37使用針孔， 也可以構(gòu)成掃描系。 <其他實施方式>本發(fā)明中的認(rèn)證信息不限定于特定方式的信息。例如可以利用文字、 數(shù)字、符號、它們的任意組合成為認(rèn)證信息。另外，也可以利用適當(dāng)?shù)男?狀、圖形、花紋、設(shè)計、它們的任意組合或它們與文字、數(shù)字等的組合來構(gòu)成認(rèn)證信息。疊層反射體使用的對象不限定于特定的物品。例如可以貼附于認(rèn)證卡或用作條形碼標(biāo)簽。作為認(rèn)證卡，除了信用卡、預(yù)付卡、ID卡，還可以 用于駕駛執(zhí)照、職員證、護(hù)照、任意的會員證等。另外，還可以用作一維 或二維條形碼標(biāo)簽。這種條形碼標(biāo)簽可以對任意物品(商品)貼付。
權(quán)利要求
1.一種疊層反射體，其具有設(shè)定成相對觀察波長λ的相位差Δnd1為m×λ/4(m為正的奇數(shù))的相位差薄膜；和在該相位差薄膜的背面?zhèn)券B層的反射機構(gòu)，所述疊層反射體的特征在于，將在相位差薄膜上預(yù)先形成有規(guī)定的認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū)域形成為與所述相位差Δnd1不同的相位差Δnd2，進(jìn)而在相位差薄膜的正面?zhèn)刃纬捎泄馍⑸鋵印?br> 2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層反射體，其特征在于， 相位差薄膜的所述相位差A(yù)喊以士A716的誤差制造。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的疊層反射體，其特征在于， 所述認(rèn)證區(qū)域的相位差A(yù)nd2被設(shè)定成nXV4 (n為0或正的偶數(shù)，其中，n<m)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的疊層反射體，其特征在于， 所述認(rèn)證區(qū)域的相位差A(yù)nd2以士V8的誤差制造。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于， 所述認(rèn)證區(qū)域的相位差A(yù)nd2為以下。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1 5中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于， 所述認(rèn)證區(qū)域如下形成通過在相位差薄膜按壓或者在極為接近處配置具有與認(rèn)證信息相對應(yīng)的加熱圖案的印模來熱緩和相位差薄膜的取向。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1 5中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于， 所述認(rèn)證區(qū)域如下形成通過在相位差薄膜使與認(rèn)證信息對應(yīng)而圖案化的光線曝光或者相對于相位差薄膜掃描光線，曝光形成規(guī)定的圖案，并 熱緩和相位差薄膜的取向。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的疊層反射體，其特征在于， 對于所述認(rèn)證區(qū)域的加熱溫度為相位差薄膜的玻化溫度以上的溫度。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1 8中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于，所述認(rèn)證信息通過一維或二維條形碼形成。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1 9中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于， 光散射層的光散射要素的尺寸小于在認(rèn)證區(qū)域形成的圖案的尺寸。
11. 根據(jù)權(quán)利要求io所述的疊層反射體，其特征在于，所述光散射要素是光散射層的表面的凹凸形狀及/或在光散射層分散的粒子狀物，其尺寸小于所述圖案的尺寸的1/4。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1 11中任意一項所迷的疊層反射體，其特征在于，所述光散射層粘附于相位差薄膜的正面?zhèn)榷纬伞?br> 13.根據(jù)權(quán)利要求1 12中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于， 所述光散射層利用透明的樹脂和分散于該透明的樹脂的透明的微粒 的混合物形成。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1 13中任意一項所述的疊層反射體，其特征在于， 所述反射機構(gòu)由用衍射光柵形成的相位型全息攝影構(gòu)成。
15. —種認(rèn)證卡，其具有權(quán)利要求1 14中任意一項所述的疊層反射體。
16. —種條形碼標(biāo)簽，其具有權(quán)利要求1 14中任意一項所述的疊層 反射體。
17. —種認(rèn)證系統(tǒng)，其特征在于，具有對權(quán)利要求1 14中任意一項所述的疊層反射體照射光的光源；用于讀取來自疊層反射體的反射光的受光部； 配置于疊層反射體與受光部之間的直線偏振片， 該直線偏振片的吸收軸被設(shè)定為與構(gòu)成疊層反射體的相位差薄膜的 光學(xué)軸不同的角度。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的認(rèn)證系統(tǒng)，其特征在于， 所述角度大致為45。。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的認(rèn)證系統(tǒng)，其中，如下構(gòu)成 具備，配置于受光部和疊層反射體之間的針孔或縫隙； 借助該針孔或縫隙掃描在疊層反射體形成的認(rèn)證信息的掃描機構(gòu)， 所述受光部對被掃描后的認(rèn)證信息進(jìn)行受光。20. —種認(rèn)證區(qū)域形成系統(tǒng)，其特征在于，具有可加熱到相位差可變化的溫度以上的加熱機構(gòu)，用以在權(quán)利要求 1 14中任意一項所述的疊層反射體形成認(rèn)證區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在相位差薄膜部分地產(chǎn)生分子取向的緩和從而形成認(rèn)證信息的潛像時不需要復(fù)雜的工序而且不會由于在表面形成凹凸而使?jié)撓窨梢娀寞B層反射體。其是一種具有設(shè)定成相對觀察波長λ的相位差Δnd₁為m×λ/4-λ/16≤Δnd₁≤m×λ/4m+λ/16(m為正的奇數(shù))的相位差薄膜(10)和在該相位差薄膜(10)的背面?zhèn)券B層的金屬反射板(11)的疊層反射體(1)，將在相位差薄膜(10)上預(yù)先形成的規(guī)定的認(rèn)證信息的認(rèn)證區(qū)域(10a)形成為其相位差Δnd₂為n×λ/4-λ/8≤Δnd₂≤n×λ/4+λ/8(n為0或正的偶數(shù)，其中，n＜m)，進(jìn)而在相位差薄膜(10)的正面?zhèn)刃纬晒馍⑸鋵?12)。
文檔編號B32B7/02GK101218090SQ20068002250
公開日2008年7月9日 申請日期2006年6月21日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月23日
發(fā)明者井田亙, 坂內(nèi)宗穗, 柴田和成, 梅本清司, 神野一仁, 竹內(nèi)逸雄 申請人:日東電工株式會社;日本發(fā)條株式會社