專利名稱：：光學薄膜及其制造方法、及使用了該光學薄膜的圖像顯示裝置的制作方法
技術領域：
：本發明系涉及光學薄膜及其制造方法，及使用光學薄膜的圖像顯示裝置。更詳言的，本發明關于有助于薄型化，防止熱不均，且，可良好防止黑色顯示中漏光的光學薄膜及其簡便廉價的制造方法，及使用此類光學薄膜的圖像顯示裝置。
背景技術：
：作為VA模式的液晶顯示裝置，除了透過型液晶顯示裝置及反射型液晶顯不裝置的外，已提案有半透光反射型液晶顯示裝置(例如，參照專利文獻1及2)。半透光反射型液晶顯示裝置在明亮場所中，與反射型液晶顯小裝置同樣地利用外來光，在暗的場所為經由背光燈等內部光源則可辨識B示。換而言之，半透光反射型液晶顯示裝置為采用兼具反射型及透過型的顯示方式，根據周圍的明亮度而切換成反射模式、透過模式的任一種顯示方式。其結果，半透光反射型液晶顯示裝置為減低消耗電力、并且即使在周圍較暗的場所也可進行清楚的顯示，故適合利用于便攜式設備的顯示部。作為此類半透光反射型液晶顯示裝置的具體例，可列舉例如在下基板內側具備在鋁等的金屬膜上形成光透過用窗部的反射膜，并使該反射膜發揮半透光反射板功能的液晶顯示裝置。在此類液晶顯示裝置中，在反射模式的情況下，來自上基板側入射的外來光，在通過液晶層后被下基板內側的反射膜所反射，再透過液晶層由上基板側射出并且有助于顯示。另一方面，在透過模式的情況下，由下基板側入射的來自背光燈的光線，在通過反射膜的窗部并通過液晶層后，由上基板側射出并且有助于顯示。因此，在形成反射膜區域中，形成窗部的區域變成透過顯示區域，其它區域變成反射顯示區域。但是，在現有的反射型或半透光反射型的VA模式的液晶顯示裝置中，在黑色顯示中產生漏光，且對比度降低的問題長久以來未被解決。專利文獻1:日本專利特開平11-242226號專利文獻2:日本專利特開2001-209065號
發明內容本發明是為解決所述現有的問題而做成的，其目的在于提供有助于薄型化、防止熱不均(熱厶，)、且可良好防止黑色顯示中漏光的光學薄膜及其簡便廉價的制造方法，及使用此類光學薄膜的圖像顯示裝置。本發明的光學薄膜依次具有偏振鏡、具有nx〉ny二nz的折射率特性的第一光學補償層、和具有nx〉ny〉nz折射率特性的第二光學補償層，該偏振鏡的吸收軸與該第一光學補償層的滯相軸所成角度為+17°+27°或-17°-27°，該偏振鏡的吸收軸與該第二光學補償層的滯相軸所成角度為+85°+95°，該第二光學補償層的Nz系數為L2^NzS2。在優選的實施方式中，所述第二光學補償層為選自由聚酰亞胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亞胺及聚酯酰亞胺構成的組中至少一種的聚合物形成。在優選的實施方式中，所述第二光學補償層的厚度為lym10ixm。在優選的實施方式中，所述第二光學補償層為入/4板。在優選的實施方式中，所述第一光學補償層包含液晶單體及液晶聚合物的至少一種。在優選的實施方式中，所述第一光學補償層為入/2板。在優選的實施方式中，本發明的光學薄膜在所述第一光學補償層與所述第二光學補償層的間具有粘接劑層。若根據本發明的其它方式，則提供圖像顯示裝置。此圖像顯示裝置包含所述光學薄膜。若根據本發明的再其它方式，則提供光學薄膜的制造方法。此制造方法包括對透明保護薄膜(T)的表面實施取向處理的工序；在該透明保護薄膜(T)的所述已實施了取向處理的表面形成第一光學補償層的工序；在透明保護薄膜(T)的表面層疊偏振鏡的工序；和在該第一光學補償層的表面形成第二光學補償層的工序，該偏振鏡與該第一光學補償層彼此經由透明保護薄膜(T)配置于相反側，按照該第一光學補償層的滯相軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度為+17'+27°或-17-27'的方式，形成該第一光學補償層，按照該第二光學補償層的滯相軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度為+85'+95'的方式，形成該第二光學補償層。在優選的實施方式中，所述形成第一光學補償層的工序包括涂敷含有液晶材料的涂敷液的工序；和以該液晶材料顯示液晶相的溫度將該涂敷的液晶材料進行處理而取向的工序。在更優選的實施方式中，所述液晶材料包括聚合性單體及/或交聯性單體，且所述液晶材料的取向工序還包括進行聚合處理及/或交聯處理的步驟。在更優選的實施方式中，所述聚合處理及/或交聯處理為經由加熱或光照射而進行。在優選的實施方式中，按照所述第二光學補償層的Nz系數成為1.2^NzS2的方式形成所述第二光學補償層。在優選的實施方式中，所述第一光學補償層的表面形成第二光學補償層的工序包括:在基材薄片的表面涂敷含有選自由聚酰亞胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亞胺及聚酯酰亞胺構成的組中至少一種聚合物的涂敷液的工序；干燥該涂敷液，在該基材薄片表面形成聚合物層的工序；將該聚合物層連同該基材薄片加熱及拉伸，在該基材薄片上形成該第二光學補償層的工序；將在該基材薄片上形成的第二光學補償層貼附于該第一光學補償層的表面的工序；與從該第二光學補償層剝離該基材薄片的工序。在更優選的實施方式中，在所述基材薄片上形成所述第二光學補償層的工序中，所述聚合物層連同該基材薄片以1.2倍3倍的拉伸倍率被拉伸。在更優選的實施方式中，在所述基材薄片上形成所述第二光學補償層的工序中，所述聚合物層連同該基材薄片以1.2倍3倍的拉伸倍率被拉伸。(發明效果)如所述，若根據本發明，在層疊光學薄膜中，組合使用具有nx〉n尸nz的折射率特性的第一光學補償層(A/2板)、與具有nx〉ny〉nz的折射率特性的第二光學補償層(A/4板)，將偏振鏡的吸收軸與第一光學補償層及第二光學補償層的各個滯相軸所成的角度設定于指定的范圍，且優選為將第二光學補償層的Nz系數設定于指定的范圍(1.2^Nz^2)，則尤其在反射的液晶顯示裝置中，可顯著改善黑色顯示的漏光。又，若根據本發明，特別在反射型及半透過型的VA模式的液晶顯示裝置中，在寬的波長帶區域中可顯著改善視場角。而且，若根據本發明，通過釆用特定的第一光學補償層及第二光學補償層，可使第一光學補償層及第二光學補償層均形成為非常薄，故對于圖像顯示裝置的薄型化大有貢獻，且，可顯著防止熱不均。圖1為本發明的優選實施方式的光學薄膜的概略剖面圖。圖2為本發明的優選實施方式的光學薄膜的分解立體圖。圖3為表示本發明的光學薄膜的制造方法的一例中的一個工序的概略立體圖。圖4為表示本發明的光學薄膜的制造方法的一例中的另一工序的概略立體圖。圖5為表示本發明的光學薄膜的制造方法的一例中的另一工序的概略示意圖。圖6為表示本發明的光學薄膜的制造方法的一例中的另一工序的概略示意圖。圖7為表示本發明的光學薄膜的制造方法的一例中的另一工序的概略示意圖。圖8為表示本發明的優選實施方式的液晶顯示裝置中所用的液晶面板的概略剖面圖。符號說明10光學薄膜11偏振鏡12保護層13第一光學補償層14第二光學補償層第二保護層20液晶單元100液晶面板具體實施方式(用語及符號的定義)本說明書中的用語及符號之定義為如下(1)「nx」為面內的折射率呈最大的方向(即，滯相軸方向)的折射率，「ny」為在面內與滯相軸垂直的方向(S口，超前軸方向)的折射率，「nz」為厚度方向的折射率。又，例如「nx二ny」不僅為nx與ny嚴密相等之情況，也包含nx與ny為基本上相等的情況。在本說明書中所謂「基本上相等」，也包含在對于光學薄膜的整體光學特性不造成實用上影響之范圍中，nx與ny為不同的情況。(2)「面內相位差Re」是指23。C中以波長590nm之光測定的薄膜(層)面內的相位差值。Re為將在波長590rnn下的薄膜(層)的滯相軸方向、超前軸方向的折射率分別設為nx、ny，且d(nm)設為薄膜(層)之厚度時，根據式Re二(nx-ny)Xd求出。(3)厚度方向的相位差Rth是指23'C下以波長590的光測定的厚度方向的相位差值。Rth為經波長590mn下的薄膜(層)的滯相軸方向、厚度方向的折射率分別設為nx、nz，且d(nm)設為薄膜(層)的厚度時，根據式Rth二(nx-nz)Xd求出。(4)Nz系數為面內相位差Re與厚度方向相位差Rth之比，根據式Nz=(nx-nz)/(nx-ny)求出。(5)本說明書中所記載的用語和符號所附加的「1」字為表示第一光學補償層，所附加的「2」字為表示第二光學補償層。(6)所謂「A/2板」是指具有將具有某個特定的振動方向的直線偏振光變換成具有與該直線偏振光的振動方向垂直的振動方向的直線偏振光，或將右圓偏振光變換成左圓偏振光(或，左圓偏振光變換成右圓偏振光)的功能板。入/2板為相對于光的波長(通常，可見光區域)，薄膜(層)面內的相位差值約為1/2。(7)所謂「A/4板」是指具有將某個特定波長的直線偏振光變換成圓偏振光(或，圓偏振光變換成直線偏振光)的功能的板。入/4板為相對于光的波長(通常，可見光區域)，薄膜(層)面內的相位差值約為1/4。A.光學薄膜A-l.光學補償薄膜的全體構成圖1為本發明的優選實施方式的光學薄膜的概略剖面圖。圖2為說明構成圖1的光學薄膜的各層光軸的分解立體圖。如圖l所示般，此光學薄膜10依次具有偏振光片11、第一光學補償層13、和第二光學補償層14。光學薄膜的各層經由任意適當的粘著劑層或粘接劑層(未圖示)而層疊。實用上，在偏振光片11的未形成光學補償層側，層疊任意適當的保護層(透明保護薄膜)15。進而，根據需要，在偏振光片11與第一光學補償層13之間，也可設置任意適當的保護層(透明保護薄膜)12。上述第一光學補償層13具有nx〉ny二nz的折射率特性。上述第二光學補償層14具有nx〉ny〉nz的折射率特性，且Nz系數為1.2^Nz^2。關于第一光學補償層及第二光學補償層分別以后述之A-2項及A-3項詳細說明。在本發明中，如圖2所示般，上述第一光學補償層13為令其滯相軸B相對于偏振光片11的吸收軸A規定成規定的角度a而予以層疊。角度a相對于偏振光片11的吸收軸A為+17。+27°或-17°-27°，優選為+19°+25°或-19°-25°，更優選為+21°+24。或-21°-24°，最優選為+22°+23°或-22°-23°。上述第二光學補償層14為令其滯相軸C相對于偏振光片11的吸收軸A規定成規定角度P而予以層疊。角度e相對于偏振光片ll的吸收軸A為+85。+95°，優選為+87°+93°，更優選為+88°+92°，最優選為+89°+91°。以此類特定的位置關系層疊特定的兩個光學補償層，則可顯著防止VA模式(特別為反射型或半透光型的VA模式)的液晶顯示裝置的黑色顯示中的漏光。本發明的光學薄膜的整體厚度優選為40150iim，更優選為40130ym，最優選為40100um。若根據本發明，則僅以二個光學補償層即可良好防止影像顯示裝置中的漏光。進而，若根據本發明，以液晶材料(后述)形成第一光學補償層，則可令第一光學補償層作為A/2板功能的厚度比現有格外變薄，且以特定的聚合物材料及特定的制造方法(后述)形成第二光學補償層，則可令第二光學補償層作為入/4板功能的厚度比現有格外變薄。其結果，本發明的光學薄膜相較于現有同等的光學薄膜，可特別減薄整體厚度，對于影像顯示裝置的薄型化大有貢獻。A-2.第一光學補償層第一光學補償層13為如上述，具有nx〉ny^z的折射率特性。優選為第一光學補償層13可作用為A/2板的功能。經由第一光學補償層作用為入/2板的功能，則關于作用為入/4板功能的第二光學補償層的波長分散特性(特別，相位差超出入/4的波長范圍)，可適當調節相位差。此類第一光學補償層的面內相位差Re,優選為200300nm，更優選為220280nm，最優選為230270nm。上述第一光學補償層的厚度，可設定為最適合發揮作為入/2板的功能。換而言之，厚度可設定為能取得所需的面內相位差。具體而言，厚度優選為0.55um，更優選為l4um，最優選為1.53um。作為形成上述第一光學補償層的材料，只要可取得如上述的特性則可釆用任意適當的材料。優選液晶材料，且以液晶相為向列相的液晶材料(向列型液晶)為更優選。經由使用液晶材料，則可令所得光學補償層的nx與ny之差較非液晶材料格外變大。其結果，可格外縮小用于取得所需的面內相位差的光學補償層厚度。作為此類液晶材料，可使用液晶聚合物和液晶單體。也可組合使用液晶聚合物及液晶單體。液晶材料的液晶性的表現機構可為易溶性(lyotropic)或向熱性(thermotropic)均可。又，液晶的取向狀態以均一取向(homogeneousalignment)為優選。上述液晶材料為液晶單體的情況下，例如，以聚合性單體或交聯性單體為優選。如后述，這是因為經由令聚合性單體或交聯性單體聚合或交聯，則可令液晶材料的取向狀態固定。令液晶單體取向后，例如，若令液晶單體(聚合性單體或交聯性單體)彼此間聚合或交聯，則可藉此固定上述取向狀態。此處，經由聚合形成聚合物，經由交聯形成三維網孔構造，但它們為非液晶性。因此，所形成的第一光學補償層將不會發生例如因液晶性化合物特有的溫度變化所造成的向液晶相、玻璃相、結晶相的轉變。其結果，第一光學補償層不受溫度變化所影響，成為穩定性極優良的光學補償層。也可組合使用聚合性單體及交聯性單體。作為上述液晶單體，可采用任意適當的液晶單體。例如，可使用日本專利特表2002-533742(W000/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、W093/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中記載的聚合性液晶原(mesogen)化合物等。作為此類聚合性液晶原化合物的具體例可列舉例如BASF公司的商品名LC242、Merck公司的商品名E7、Wacker-Chem公司的商品名LC-Sillicon-CC3767。作為上述液晶單體可列舉例如向列性液晶單體為優選，具體而言為下述式(L1)所示的單體。這些液晶單體可單獨、或組合使用二種以上。[化l]于上述式(L1)中，A'及A2為分別表示聚合性基，可為相同或不同。又，A'及f中任一方也可為氫。X為分別獨立表示單鍵、-0-、-S-、-C二N-、-0-C0-、-C0-0-、-0-C0-0-、-C0-NR-、-NR-C0-、-NR-、-0-CO-NR-、-NR-C0-0-、-CH廠O-或-NR-C0-NR，R為表示H或dC4烷基，M為表示液晶原基。在上述式(L1)中，X可為相同或相異，但以相同為優選。上述式(L1)的單體中，A2優選為分別相對于A'配置于鄰位。進而，上述A'及A2分別獨立，下述式Z-X-(Sp)…(L2)所示為優選，且優選A'及A2為相同基。在上述式(L2)中，Z表示交聯性基，X為如上述式(L1)所定義，Sp表示由具有130個碳原子的直鏈或分支鏈的取代或未取代的垸基構成的間隔件(spacer),n表示0或l。上述Sp中的碳鏈也可例如經由醚官能團中的氧、硫醚官能團中的硫、非鄰接亞胺基或dC4烷亞氨基等被插入。在上述式(L2)中，Z為下述式所示的原子團的任一種為優選。在下述式中，R可列舉例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔[化2]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>又，上述式(L2)中，Sp為下述式所示的原子團的任一種為優選，在下述式中，m為l3、p為l12為優選。[化3]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>在上述式(L1)中，M優選以下述式(L3)表示。在下述式(L3)中，X與上述式(L1)中定義的物質相同。Q表示例如經取代或未取代之直鏈或分支鏈亞垸基或芳香族烴原子團。Q例如通過經取代或未取代的直鏈或分支鏈C,d2亞垸基等得到。上述Q為芳香族烴類原子團時，例如，以下述式所示的原子團、和它們的取代類似體為優選。[化5]作為所述式所示的芳香族烴類原子團的取代類似體，例如每i個芳香族環具有14個取代基，又，每l個芳香族環或基，具有1或2個取代基也可。所述取代基可為分別相同或相異。所述取代基可列舉例如GC4烷基、硝基、F、Cl、Br、I等鹵素、苯基、dC4烷氧基等。作為所述液晶單體的具體例可列舉例如下述式(L4)(L19)所示的單體。化6]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>(L16)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>L19)所述液晶單體為顯示液晶性的溫度范圍，根據其種類而異。具體而言，該溫度范圍優選為40120°C，更優選為50100°C，最優選為6090°C。A-3.第二光學補償層第二光學補償層14具有nx〉ny〉nz的折射率特性。g卩，第二光學補償層14為雙軸性的光學補償層。優選第二光學補償層14可作為A/4板發揮功能。為了在全部波長中實現充分的視覺補償，第二光學補償層的波長分散優選顯示與液晶單元中的液晶波長分散相同的波長分散。若根據本發明，將作為A/4板發揮功能的第二光學補償層的波長分散特性，以所述作為入/2板發揮功能的第一光學補償層的光學特性予以校正，則可在寬的波長范圍內發^圓偏振光功能。此類第二光學補償層的面內相位差Re2優選為90160nm，更優選為100150nm，最優選為110140nm。又，第二光學補償層的厚度方向的相位差Rth2優選為80150nm，更優選為90140nm，最優選為100130nrn。所述第二光學補償層的Nz系數為1.2^Nz^2，優選為1.3^Nz^1.8，更優選為1.4SNz^1.7。經由將所述第二光學補償層的Nz系數調整至此類范圍內，則可令所述第二光學補償層一邊作用為A/4板發揮功能，一邊也可相對于VA模式的液晶單元發揮光學補償和軸補償的功能，可提高液晶顯示裝置的對比度。所述第二光學補償層的厚度可設定為能夠最適合作為A/4板發揮功能。換而言之，厚度可設定為能取得所需的面內相位差。具體而言，厚度優選為l10nm，更優選為1.26um，最優選為1.43ym。此厚度為較以現有雙軸性A/4板可實現的厚度格外地薄。這可根據本發明的制造方法，將特定的聚合物提供于特定的加熱及拉伸處理則可實現(詳細的制造方法為以后述的B項說明)。作為構成第二光學補償層的材料，只要可取得如所述的光學特性則可采用任意適當的材料。例如，此類材料可列舉非液晶性材料。尤其優選為非液晶性聚合物。此類非液晶性材料與液晶性材料不同，無關于基板的取向性，經由本身的性質則可形成顯示nx〉nz、ny〉nz的光學單軸性的膜。其結果，不僅取向基板，也可使用未取向基板。而且，在使用未取向基板的情況下，可省略在其表面涂敷取向膜的工序和層疊取向膜的工序等。作為所述非液晶性象合物，例如由耐熱性、耐藥品性、透明性優良、剛性豐富的觀點而言，以聚酰胺、聚酰亞胺、聚酯、聚醚酮、聚酰胺酰亞胺、聚酯酰亞胺等的聚合物為優選。這些聚合物可單獨使用任一種，例如，聚芳基醚酮與聚酰胺的混合物一樣，以具有不同官能團的二種以上混合物使用也可。這些聚合物中，因高透明性、高取向性、高拉伸性而言，以聚酰亞胺為特優選。聚酰亞胺為耐熱性高，熱膨脹小，故由聚酰亞胺所形成的第二光學補償層較少發生熱不均。所述聚合物的分子量并無特別限制，例如，以重均分子量(Mw)為1,0001，000，000的范圍為優選，更優選為2,000500，000的范圍。所述聚酰亞胺例如以面內取向性高，且在有機溶劑中可溶的聚酰亞胺為優選。具體而言，例如可使用日本專利特表2000-511296號公報中所公開的含有9，9-雙(胺芳基)芴與芳香族四羧酸二酐的縮聚產物，并含有一個以上的下述式(1)所示重復單元的聚合物。[化7]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>所述式(l)中，R3R6分別獨立，是由氫、鹵素、苯基、由14個鹵原子或CH。烷基所取代的苯基，及CH。烷基構成的組中選出的至少一種取代基。優選，R3R6分別獨立，是由鹵素、苯基、由14個鹵原子或C卜1Q垸基取代的苯基、及CH。烷基構成的組中選出的至少一種取代基。所述式(l)中，Z例如為Ce-2o的四價芳香族基，優選苯均四酸基、多環式芳香族基、多環式芳香族基的衍生物、或、下述式(2)所示的基。[化8]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>所述式(2)中，Z'例如為共價鍵、C(R7)2基、C0基、0原子、S原子、S02基、Si(C2H》2基、或、NR8基，多個的情況，可分別相同或相異。又，w表示1至10的整數。R7分別獨立，為氫或C(R9)3。If為氫、碳數1約20個的烷基、或C6,芳基，多個的情況，可分別相同或相異。R9分別獨立，為氫、氟、或氯。作為所述多環式芳香族基，可列舉例如由萘、芴、苯芴或蒽所衍生的四價基。又，作為所述多環式芳香族基的取代衍生物可列舉例如經CH。的烷基、其氟化衍生物、及F和C1等鹵素構成的組中選出的至少一種基所取代的所述多環式芳香族基。此外，也可列舉例如日本專利特表平8-511812號公報所記載的重復單元為下述通式(3)或(4)所示的均聚物、和重復單元為下述通式(5)所示的聚酰亞胺等。另夕卜，下述式(5)的聚酰亞胺為下述式(3)的均聚物的優選方式。[化9]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>[化io]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>所述通式(3)(5)中，G及G，分別獨立為例如由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CF丄基、C(CX3)2基(此處，X為鹵素)、C0基、0原子、S原子、S。2基、Si(CH2CH》2基、及、N(CH3)基構成的組的中選出的基，分別可為相同或相異。所述式(3)及式(5)中，L為取代基，d及e為表示其取代數。L為例如鹵素、Cw烷基、C卜3鹵化烷基、苯基、或、取代苯基，多個的情況下，分別可為相同或相異。作為所述取代苯基，可列舉例如具有由鹵素、C,-3烷基、及C,—3鹵化垸基構成的組中選出至少一種取代基的取代苯基。又，所述鹵素可列舉例如氟、氯、溴或碘。d為0至2的整數，e為0至3的整數。所述式(3)(5)中，Q為取代基，f表示其取代數。作為Q，例如，是由氫、鹵素、垸基、取代垸基、硝基、氰基、硫烷基、垸氧基、芳基、取代芳基、烷酯基、及取代垸酯基構成的組中選出的原子或基，Q為多個的情況下，分別可為相同或相異。所述鹵素可列舉例如氟、氯、溴及碘。所述取代烷基可列舉例如鹵化烷基。又，所述取代芳基可列舉例如鹵化芳基。f為0至4的整數，g為0至3的整數，h為l至3的整數。又，g及h以大于1為優選。所述式(4)中，R"及R"分別獨立，為由氫、鹵素、苯基、取代苯基、垸基、及經取代烷基構成的組中選出的基。其中，R"及R"優選分別獨立，為鹵化烷基。^所述式(5)中，M'及M2分別獨立為例如鹵素、d-3烷基、Cw鹵化烷基、苯基、或、取代苯基。所述鹵素可列舉例如氟、氯、溴及碘。又，所述取代苯基，可列舉例如具有由鹵素、C卜3烷基、及C卜3鹵化烷基構成的組中選出至少一種取代基的取代苯基。作為所述式(3)所示的聚酰亞胺的具體例，可列舉例如下述式(6)所示物質等。[化12]而且，作為所述聚酰亞胺，可列舉例如令如所述骨架(重復單元)以外的酸二酐和二胺適當共聚的共聚物。作為所述酸二酐，可列舉例如芳香族四羧酸二酐。作為所述芳香族四羧酸二酐，可列舉例如苯均四酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、雜環式芳香族四羧酸二酐、2,2'-取聯苯四羧酸二酐等。作為所述苯均四酸二酐，可列舉例如苯均四酸二酐、3，6-二苯基苯均四酸二酐、3,6-雙(三氟甲基)苯均四酸二酐、3，6-二溴苯均四酸二酐、3，6-二氯基苯均四酸二酐等。作為所述二苯甲酮四羧酸二酐，可列舉例如3,3'，4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2，3，3'，4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2，2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐等。作為所述萘四羧酸二酐，可列舉例如2，3，6，7-萘-四羧酸二酐、1，2，5，6-萘-四羧酸二酐、2,6-二氯萘-1，4，5，8-四羧酸二酐等。作為所述雜環式芳香族四羧酸二酐，可列舉例如噻吩-2，3，4，5-四羧酸二酐、吡嗪-2，3，5，6-四羧酸二酐、吡啶-2，3，5，6-四羧酸二酐等。作為所述2，2'-取代聯苯四羧酸二酐，可列舉例如2，2'-二溴-4，4，，5，5，-聯苯四羧酸二酐、2，2'-二環-4,4，，5，5'-聯苯四羧酸二酐、2，2，-雙(三氟甲基)-4,4，，5，5，-聯苯四羧酸二酐。又，作為所述芳香族四羧酸二酐的其它例可列舉3，3'，4,4'-聯苯四羧酸二酐、雙(2，3-二羧苯基)甲烷二無水物、雙(2，5,S-三氟-3，4-二羧苯基)甲烷二無水物、2，2-雙(3，4-二羧苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙垸二無水物、4，4，-雙(3，4-二羧苯基)-2，2-二苯基丙烷二無水物、雙(3，4-二羧苯基)醚二無水物、4，4'-氧二苯二甲酸二酐、雙(3，4-二羧苯基)磺酸二酐、3,3，，4，4，-二苯基磺四羧酸二酐、4,4，-[4，4，-異亞丙基-二(對-亞苯氧基)]雙(苯二甲酸酑)、N，N-(3，4-二羧苯基)-N-甲胺二無水物、雙(3，4-二羧苯基)二乙基硅垸二無水物等。其中，作為所述芳香族四羧酸二酐是以2，2'-取代聯苯四羧酸二酐為優選，更優選為2，2，-雙(三鹵甲基)-4,4，，5，5，-聯苯四羧酸二酐，更優選為2，2，-雙(三氟甲基)-4，4，-5，5，-聯苯四羧酸二酐。作為所述二胺，可列舉例如芳香族二胺，具體例可列舉苯二胺、二胺基二苯甲酮、萘二胺、雜環式芳香族二胺、及其它的芳香族二胺。作為所述苯二胺可列舉例如由0-、m-及p-亞苯二胺、2，4-二氨基甲苯、1，4-二胺基-2-甲氧基苯、1，4-二胺基-2-苯基苯及1，3-二胺基-4-氯苯等的苯二胺構成的組中選出的二胺等。作為所述二氨基二苯甲酮的例可列舉2，2'-二氨基二苯甲酮、及3，3'-二氨基二苯甲酮等。作為所述萘二胺可列舉如1，8-二氨基萘、及1，5-二氨基萘等。作為所述雜環式芳香族二胺的例可列舉2，6-二氨基吡啶、2，4-二氨基吡啶、及2,4-二氨基-S-三嗪等。又，作為芳香族二胺除了所述以外，可列舉4，4'-二氨基聯苯、4，4'-二氨基二苯基甲烷、4,4，-(9-亞芴基)-二苯胺、2，2'-雙(三氟甲基)-4，4'-二氨基聯苯、3，3'-二氯-4，4'-二胺基二苯基甲垸、2，2，-二氯基-4,4，-二氨基聯苯、2,2'，5,5'-四氯聯苯胺、2,2-雙(4-氨基苯氧苯基)丙垸、2，2-雙(4-氨基苯基)丙垸、2，2-雙(4-氨基苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷、4,4'-二氨基二苯醚、3，4'-二氨基二苯醚、1,3-雙(3-氨基苯氧基)苯、1,3-雙(4-氨基苯氧基)苯、1，4-雙(4-氨基苯氧基)苯、4，4'_雙(4-氨基苯氧基)聯苯、4，4'-雙(3-氨基苯氧基)聯苯、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷、4'4，-二氨基二苯基硫醚、4,4，-二氨基二苯砜等。作為所述聚醚酮，可列舉例如日本專利特開2001-49110號公報中記載的下述通式(7)所示的聚芳基醚酮。所述式(7)中，X表示取代基，q表示其取代數。X例如為鹵原子、低級烷基、鹵化烷基、低級烷氧基、或鹵化垸氧基、x為多個的情況，分別可為相同或相異。所述鹵原子可列舉例如氟原子、溴原子、氯原子及碘原子，其中，以氟原子為優選。作為所述低級垸基例如以具有C卜6直鏈或分支鏈的垸基為優選，更優選為CH的直鏈或分支鏈的垸基。具體而言，以甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、sec-丁基、及、叔丁基為優選，特優選為甲基及乙基。作為所述鹵化烷基可列舉例如三氟甲基等所述低級烷基的卣化物。作為所述低級烷氧基，例如，以C卜6的直鏈或分支鏈垸氧基為優選，更優選為CH的直鏈或分支鏈烷氧基。具體而言，以甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、sec-丁氧基、及、叔丁氧基為更優選，尤其優選為甲氧基及乙氧基。作為所述鹵化垸氧基，可列舉例如三氟甲氧基等所述低烷氧基的鹵化物。所述式(7)中，q為0至4的整數。在所述式(7)中，q=0、且在苯環兩端結合的羰基與醚的氧原子為相互以對位存在為優選。又，所述式(7)中，W為下述式(8)所示的基，m為O或l的整數。[化14]所述式(8)中，X'為表示取代基，例如，與所述式(7)中的X同樣。于所述式(8)中，X'為多個的情況下，分別可為相同或相異，q'為表示所述X'的取代數，為0至4的整數，以q'=0為優選。又，p為0或1的整數。所述式(8)中，R2為表示二價的芳香族基。作為此二價的芳香族基可列舉例如o-、m-或p-亞苯基、或萘、聯苯、蒽、0-、m-或p-三聯苯、菲、二苯呋喃、聯苯醚、或聯苯砜所衍生的二價基等。在這些二價的芳香族基中，直接結合至芳香族的氫為也可由鹵原子、低級垸基或低級垸氧基所取代。其中，所述R2以由下述式(9)(15)構成的組中選出的芳香族基為優選。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula>所述式(7)中，W以下述式(16)所示的基為優選，且在下述式(16)中，R2及P為與所述式(8)同義。[化16]而且，所述式(7)中，n為表示聚合度，例如，為25000的范圍，優選為5500的范圍。又，其聚合可由相同構造的重復單元所構成，也可由不同構造的重復單元所構成。在后者的情況下，重復單元的聚合方式可為嵌段聚合，也可為無規聚合。而且，所述式(7)所示的聚芳基醚酮的末端，以對-四氟亞苯甲酰基側為氟、氧亞烷基側為氫原子為優選，此類聚芳醚酮可例如以下述通式(17)表示。另外，在下述式中，n表示與所述式(7)同樣的聚合度。[化17]作為所述式(7)所示的聚芳基醚酮的具體例，可列舉下述式(18)(21)所示物質等，在下述各式中，n為表示與所述式(7)同樣的聚合度。〔化又，除此之外，作為所述聚酰胺或聚酯，可列舉例如日本專利特表平10-508048號公報中所記載的聚酰胺或聚酯，其重復單元例如以下述通式(22)表示。[化22]所述式(22)中，Y為0或NH。又，E為例如由共價鍵、C2亞烷基、鹵化C2亞垸基、CH2基、C(CX3)2基(此處，X為鹵素或氫)、C0基、0原子、S原子、S02基、Si(R)2基、及N(R)基構成的組中所選出的至少一種基，分別可為相同或相異。在所述E中，R為C卜3垸基及Cw鹵化烷基的至少一種，相對于羰基官能團或Y基在間位或對位。又，所述式(22)中，A及A'為取代基，t及z為表示各別的取代數。又，p為0至3的整數，q為l至3的整數，r為0至3的整數。所述A例如由氫、鹵素、C-3烷基、C卜3鹵化烷基、OR(此處，R為如所述定義)所示的垸氧基、芳基、鹵化等取代的取代芳基、d-9垸氧羰基、d-9烷羰氧基、C卜12芳氧羰基、C卜12芳羰氧基及其取代衍生物、CH2芳胺甲酰基、及、CH2芳羰胺基及其取代衍生物構成的組中選出，多個的情況，分別可為相同或相異。所述A'例如由鹵素、Cw垸基、Cw鹵化垸基、苯基及取代苯基構成的組中選出，多個的情況下，分別可為相同或相異。作為所述取代苯基的苯環上的取代基可列舉例如鹵素、Cw烷基、Cw鹵化烷基及其組合。所述t為0至4的整數，所述z為0至3的整數。所述式(22)所示的聚酰胺或聚酯的重復單元中，以下述通式(23)所示物質為優選。[化23]所述式(23)中，A、A'及Y為如所述式(22)定義，v為0至3的整數，優選為0至2的整數。x及y分別為O或l，但不同時為O。A-4.偏振鏡作為所述偏振鏡ll，可根據目的而采用任意適當的偏振鏡。可列舉例如，在聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜，使碘和二色性染料等二色性物質吸附并予以單軸拉伸的物質，聚乙烯醇的脫水處理物和聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等聚烯系取向薄膜等。其中也以在聚乙烯醇系薄膜吸附碘等的二色性物質并予以單軸拉伸的偏振鏡，因偏振光二色比高而為特優選。此等偏振鏡的厚度并無特別限制，一般為180um左右。在聚乙烯醇系薄膜吸附碘并且予以單軸拉伸的偏振鏡，可依例如藉由將聚乙烯醇浸漬于碘的水溶液中而染色，并以原長的37倍拉伸則可制作。視需要也可含有硼酸和硫酸鋅、氯化鋅等，也可浸漬于碘化鉀等的水溶液中。而且視需要于染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬于水中予以水洗也可。藉由將聚乙烯醇系薄膜水洗，不僅可洗凈聚乙烯醇系薄膜表面的污染物和防結塊劑，且在令聚乙烯醇系薄膜泡脹下也具有防止染色斑等不均勻的效果。拉伸可在以碘染色后進行，也可一邊染色一邊拉伸，或于拉伸后以碘染色也可。在硼酸和碘化鉀等的水溶液中和水浴中也可拉伸。A-5.保護層(保護薄膜)作為所述保護層12及15，可采用能使用作為偏振片的保護層的任意適當薄膜。優選為透明保護薄膜。作為成為此類薄膜的主成分的材料的具體例，可列舉三乙酰纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚酰胺系、聚酰亞胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，也可列舉丙烯酸系、聚氨基甲酸乙酯系、丙烯酸氨基甲酸乙酯系、環氧系、硅酮系等熱固化型樹脂或紫外線固化型樹脂等D除此之外，也可列舉例如硅氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，也可使用日本專利特開2001-343529號公報(W001/37007)中記載的聚合物薄膜。作為此薄膜的材料例如可使用含有側鏈具有取代或未取代的酰亞胺基的熱可塑性樹脂、和側鏈具有經取代或未取代的苯基及腈基的熱可塑性樹脂的樹脂組成物，可列舉例如具有由異丁烯與N-甲基馬來酰亞胺所構成的交替共聚物、和丙烯腈苯乙烯共聚物的樹脂組成物。所述聚合物薄膜例如可為所述樹脂組成物的擠出成形物。以TAC、聚酰亞胺系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、玻璃質系聚合物為優選，以TAC為更優選。所述保護層以透明、無帶色物質為優選。具體而言，厚度方向的相位差值Rth優選為-90nm+90nm，更優選為-80nm+80nm，最優選為-70nm+70nm。所述保護層的厚度，只要可取得所述優選的厚度方向的相位差，則可采用任意適當的厚度。具體而言，保護層的厚度優選為5mm以下，更優選為1匪以下，特佳為l500um，最優選為5150ym。保護層12及15可為相同、或相異。對于保護層15，視需要可施以硬涂(hardcoat)處理、防反射處理、防粘處理、防眩處理等。A-6.偏振鏡的其它的構成要素本發明的光學薄膜也可進一步具備其它光學層。作為此類其它光學層，可根據目的和圖像顯示裝置的種類而采用任意適當的光學層。具體例可列舉液晶薄膜、光散亂薄膜、繞射薄膜、以及其它的光學補償層(相位差薄膜)等。本發明的光學薄膜為可在至少一面進一步具有粘著劑層或粘接劑層作為最外層。藉由如此具有粘著劑層或粘接劑層作為最外層，則例如可使與其它構件(例如，液晶單元)的層疊變得容易，可防止本發明的光學薄膜由其它構材剝離。作為形成所述粘著劑層及粘接劑層的材料，可采用任意適當的材料。優選使用吸濕性和耐熱性優良的材料。因可防止因吸濕造成的發泡和剝離、因熱膨脹差等所造成的光學特性降低、液晶單元的翹曲等。實用上，在實際使用本發明的光學薄膜為止的期間，所述粘著劑層或粘接劑層的表面可經由任意適當的間隔件予以覆蓋，可防止污染。間隔件為例如對任意適當的薄膜，視需要，可通過硅酮系、長鏈垸基系、氟系、硫化鉬等剝離劑設置剝離涂層的方法等形成。本發明的光學薄膜中的各層，例如，以水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳絡鹽系化合物等紫外線吸收劑予以處理等，賦予紫外線吸收能力也可。B.光學薄膜的制造方法本發明的光學薄膜的制造方法為包含:對透明保護薄膜(T)12(最終成為保護層)的表面實施取向處理的工序；在該透明保護薄膜(T)的經實施該取向處理的表面形成第一光學補償層13的工序；在透明保護薄膜(T)的表面層疊偏振鏡11的工序；和在該第一光學補償層的表面形成第二光學補償層14的工序。在本發明的制造方法中，該偏振鏡與該第一光學補償層彼此經由透明保護薄膜(T)配置于相反側。在本發明的制造方法中，第一光學補償層13是形成為該第一光學補償層的滯相軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度為呈+17°+27°或-17°-27°，該第二光學補償層14是形成為該第二光學補償層的滯相軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度為呈+85°+95°。若根據此類制造方法，可取得例如圖1及圖2所示般的光學薄膜。所述各工序的順序及/或實施取向處理的薄膜，可視目的而適當變更。例如，偏振鏡的層疊工序可在任一光學補償層的形成工序或層疊工序后進行。又，例如，取向處理也可不對透明保護薄膜實施，而對任意適當的基材實施也可。對基材實施取向處理時，該基材上所形成的薄膜(具體而言，第一光學補償層)為根據光學薄膜的所需的層疊構造以適當的順序予以轉印(層疊)。以下，詳細說明各工序。B-l.透明保護薄膜的取向處理經由對透明保護薄膜(T)12(最終成為保護層)的表面實施取向處理，并在該表面涂敷含有規定的液晶材料的涂敷液，則可如圖2所示般，形成相對于偏振鏡11的吸收軸具有呈現角度a的滯相軸B的第一光學補償層13(第一光學補償層的形成工序在后敘述)。作為對于所述透明保護薄膜(T)的取向處理，可采用任意適當的取向處理。具體例可列舉摩擦處理、斜方蒸鍍法、拉伸處理、光取向處理、磁場取向處理、電場取向處理等。優選為摩擦處理。另外，各種取向處理的處理條件為根據目的而采用任意適當的條件。所述取向處理的取向方向，在層疊透明保護薄膜(T)與偏振鏡的情況下為與偏振鏡的吸收軸呈現規定角度的方向。此取向方向為如后述般，與所形成的第一光學補償層13的滯相軸B的方向為基本上相同。因此，所述指定的角度為+17°+27°或_17°-27°，優選為+19°+25°或-19°-25°，更優選為+21°+24°或-21°-24°，最優選為+22°+23°或-22。-23°。作為對于長尺寸的透明保護薄膜(T)可規定如所述規定角度的取向處理，可列舉對長尺寸的透明保護薄膜(T)的長軸方向進行處理、以及、對于長尺寸的透明保護薄膜(T)的長軸方向或其垂直方向(寬度方向)的傾斜方向(具體而言，規定如所述規定角度的方向)進行處理。偏振鏡為將以如所述的二色性物質染色的聚合物薄膜予以拉伸而制造，在其拉伸方向上具有吸收軸。在大量生產偏振鏡時，準備長尺寸的聚合物薄膜，并在其長軸方向連續進行拉伸。因此，在進行長尺寸的偏振鏡與長尺寸的透明保護薄膜(T)的貼合的情況下，兩者的長軸方向變成偏振鏡的吸收軸。因此，對于偏振鏡的吸收軸在呈現規定角度的方向上進行取向上，希望在傾斜方向進行取向處理。偏振鏡的吸收軸方向與長尺寸薄膜(偏振鏡及透明保護薄膜(T))的長軸方向為基本上一致，故取向處理的方向若為對于長軸方向以呈現所述規定角度的方向上進行即可。另一方面，在透明保護薄膜的長軸方向或寬度方向進行處理的情況下，必須將透明保護薄膜在傾斜方向上切出后層疊。其結果，存在切出的各薄膜中在光軸的角度上產生偏差之虞，結果在產品間產生質量偏差，耗費費用和時間，增加廢棄物，并且難以制造大型薄膜。取向處理可在透明保護薄膜(T)表面直接實施，也可形成任意適當的取向層(代表者為聚酰亞胺層、聚乙烯醇層、硅烷偶合劑層等)，并對該取向層實施也可。例如，摩擦處理為在透明保護薄膜表面直接實施為優選。對取向層進行摩擦處理的情況下，在形成取向層時有以下的缺點在取向層為聚酰亞胺層的情況下，(1)西為必須選擇不會侵蝕透明保護薄膜的溶劑，故難以選擇形成取向層組成物的溶劑；(2)因為必須于高溫(例如，15030(TC)下熟化，故在所得的橢圓偏振片上有產生外觀不良的情況。又，在取向層為聚乙烯醇層的情況下，因為取向層的耐熱性及耐濕性不夠充分，故在高溫多濕下，透明保護薄膜與取向層有剝離的情形，其結果，有發生白點的情形。而且，在取向層為硅烷偶合劑層的情況下，所形成的液晶層(第一光學補償層)易傾斜，而有難以實現所需的正的單軸性的情形。B-2.形成第一光學補償層的液晶材料的涂敷工序其次，在施以所述取向處理的透明保護薄膜(T)表面，涂敷所述A-2項所說明的含有液晶材料的涂敷液，其次令該液晶材料取向形成第一光學補償層。具體而言，調制將液晶材料在適當的溶劑中溶解或分散的涂敷液，并將此涂敷液涂敷至所述施以取向處理的透明保護薄膜(T)表面即可。液晶材料的取向工序為以后述的B-3項說明。作為所述溶劑，可采用能令所述液晶材料溶解或分散的任意適當的溶劑。所使用的溶解種類為根據液晶材料的種類等而適當選擇。溶劑的具體例可列舉氯仿、二氯甲垸、四氯化碳、二氯乙垸、四氯乙垸、氯化甲垸、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、鄰二氯苯等鹵化烴類；苯酚、對-氯酚、鄰-氯酚、間-甲酚、鄰-甲酚、對-甲酚等酚類；苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、甲氧基苯、1，2-二甲氧基苯等芳香族烴類；丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮、環己酮、環戊酮、2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等酮系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯等酯系溶劑；叔丁醇、甘油、乙二醇、三乙二醇、乙二醇單甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、二丙二醇、2-甲基-2，4-戊二醇等醇系溶劑；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺系溶劑；乙腈、丁腈等腈系溶劑；二乙醚、二丁醚、四氫呋喃、二噁垸等醚系溶劑；或二硫化碳、乙基纖維素、丁基纖維素、乙酸乙酯纖維素等。優選為甲苯、二甲苯、均三甲苯、MEK、甲基異丁基酮、環己酮、乙基纖維素、丁基纖維素、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸乙酯纖維素。此等溶劑可單獨、或組合使用二種以上。所述涂敷液中的液晶材料的含量為根據液晶材料的種類和目的層的厚度等而適當設定。具體而言，液晶材料的含量優選為550重量％，更優選為1040重量％，最優選為1530重量％。所述涂敷液視需要可進一步含有任意適當的添加劑。添加劑的具體例可列舉聚合引發劑和交聯劑。在使用液晶單體(聚合性單體或交聯性單體)作為液晶材料的情況下特別適于使用。所述聚合劑的具體例可列舉過氧化苯甲酰(BP0)、疊氮雙異丁腈(AIBN)等。所述交聯劑的具體例可列舉異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、金屬嵌合交聯劑等。其等可單獨、或組合使用二種以上。其它添加劑的具體例可列舉抗老化劑、改性劑、表面活性劑、染料、顏料、防變色劑、紫外線吸收劑等。其可單獨、或組合使用二種以上。所述防老化劑可列舉例如酚系化合物、胺系化合物、有機硫系化合物、磷化氫系化合物。所述改性劑可列舉例如乙二醇類、聚硅酮類和醇類。所述表面活性劑例如用于使光學薄膜的表面平滑，具體例可列舉聚硅氧系、丙烯酸系、氟系等表面活性劑。所述涂敷液的涂敷量為根據涂敷液的濃度和目的層的厚度而適當設定。例如，涂敷液的液晶材料濃度為20重量%的情況下，涂敷量為透明保護薄膜的單位面積(100cm"優選為0.030.17毫升，更優選為0.050.15毫升，最優選為0.080.12毫升。涂敷方法可采用任意的適當的方法。具體例可列舉輥涂法、旋涂法、線棒涂法、浸涂法、擠出涂敷法、幕涂法、噴涂法等。B-3.形成第一光學補償層的液晶材料的取向工序其次，根據所述透明保護薄膜(T)表面的取向方向，令形成第一光學補償層的液晶材料取向。該液晶材料的取向為根據使用的液晶材料的種類，以顯示液晶相的溫度下進行處理。經由進行此類溫度處理，則可令液晶材料呈現液晶狀態，并且根據所述透明保護薄膜(T)表面的取向方向而令該液晶材料取向。藉此，藉涂敷所形成的層產生雙折射，并且形成第一光學補償層。如所述的處理溫度可根據液晶材料的種類而適當決定。具體而言，處理溫度優選為40120°C，更優選為50100°C，最優選為609(TC。又，處理時間優選為30秒鐘以上，更優選為1分鐘以上，尤其優選為2分鐘以上，最優選為4分鐘以上。處理時間未滿30秒鐘時，液晶材料有時無法呈現充分的液晶狀態。另一方面，處理時間優選為10分鐘以下，更優選為8分鐘以下，最優選為7分鐘以下。處理時間若超過10分鐘，則有添加劑升華之虞。又，在使用所述A-2項記載的液晶單體(聚合性單體及/或交聯性單體)作為液晶材料的情況下，以在由所述涂敷所形成的層上，進一步施以聚合處理或交聯處理為優選。經由進行聚合處理，則可令所述液晶單體聚合，且液晶單體為以聚合物分子的重復單元方式被固定。又，經由進行交聯處理，則可令所述液晶單體形成三維網孔構造，且液晶單體為以交聯構造的一部分方式被固定。結果，令液晶材料的取向狀態被固定。另外，液晶單體聚合或交聯所形成的聚合物或三維網孔構造為「非液晶性」。因此，所形成的第一光學補償層不會發生例如于液晶分子因特有的溫度變化所造成的朝液晶相、玻璃相、結晶相的轉移。其結果，可取得不會被溫度所影響，且具有非常優良穩定性的第一光學補償層。所述聚合處理或交聯處理的具體的步驟為根據所使用的聚合引發劑和交聯劑的種類而適當選擇。例如，在使用光聚合引發劑或光交聯劑的情況下，進行光照射即可，在使用紫外線聚合引發劑或紫外線交聯劑的情況下，進行紫外線照射即可，在使用熱聚合引發劑或交聯劑的情況下，進行加熱即可。光或紫外線的照射時間、照射強度、合計的照射量等為根據液晶材料的種類、透明保護薄膜(T)的種類及取向處理的種類、第一光學補償層所需的特性等而適當設定。同樣地，也可適當設定加熱溫度、加熱時間等。通過進行如所述的取向處理，則可根據所述透明保護薄膜(T)的取向方向而令液晶材料取向，故所形成的第一光學補償層的滯相軸B，為與所述透明保護薄膜(T)的取向方向于基本上相同。因此，第一光學補償層的滯相軸B的方向，相對于透明保護薄膜(T)的長軸方向，為+17°+27°或-17°-27°，優選為+19°+25°或-19°_25°，更優選為+21°+24°或-21°-24°，最優選為+22°+23°或-22°-23°。B-4.偏振鏡的層疊工序將偏振鏡層疊至透明保護薄膜(T)的表面。偏振鏡的層疊為在本發明制造方法中的任意適當時刻進行。例如，預先將偏振鏡層疊至透明保護薄膜(T)，也可在形成第一光學補償層后層疊，也可在形成第二光學補償層后層疊。偏振鏡與第一光學補償層彼此經由透明保護薄膜(T)而配置于相所述透明保護薄膜(T)與偏振鏡的層疊方法，可采用任意的適當的層疊方法(例如，粘接)。粘接為使用任意適當的粘接劑或粘著劑進行。粘接劑或粘著劑的種類為根據被粘體(即，透明保護薄膜及偏振鏡)的種類而適當選擇。粘接劑的具體例可列舉丙烯酸系、乙烯醇系、硅酮系、聚酯系、聚氨基甲酸乙酯系、聚醚系等的聚合物制粘接劑、異氰酸酯系粘接劑、橡膠系粘接劑等。粘著劑的具體例可列舉丙烯酸系、乙烯醇系、硅酮系、聚酯系、聚氨基甲酸乙酯系、聚醚系、異氰酸酯系、橡膠等粘著劑。所述粘接劑或粘著劑的厚度并無特別限制，優選為10200nm，更優選為30180nm，最優選為50150nm。若根據本發明的制造方法，在所述透明保護薄膜的取向處理中，可設定第一光學補償層的滯相軸，故可使用在長軸方向上被拉伸(即，長軸方向上具有吸收軸)的長尺寸偏振光薄膜(偏振鏡)。即，將相對于長軸方向進行規定角度的取向處理的長尺寸透明保護薄膜、與長尺寸的偏振光薄膜(偏振鏡)，以各個長軸方向對齊(所謂輥對輥，roll-to-roll)的方式可連續貼合。因此，可在非常優良的制造效率下取得光學薄膜。而且，若根據此方法，則不必將薄膜相對于長軸方向(拉伸方向)傾斜切出并層疊。其結果，于切出的各薄膜中在光軸角度上不會產生偏差，結果取得產品間無質量偏差的光學薄膜。而且，也不會產生切除所造成的廢棄物，故可在低成本下取得光學薄膜。除此的外，也可輕易制造大型偏振片。另外，偏振鏡的吸收軸方向為與長尺寸薄膜的長軸方向基本上平行。在本說明書中所謂「基本上平行」，為包含長軸方向與吸收軸方向的角度為0°±10°的意思，優選為O。±5°，更優選為O。±3°。B-5，第二光學補償層的形成工序而且，于所述第一光學補償層的表面上形成第二光學補償層。第二光學補償層的形成工序的詳細手續如下。首先，將含有形成第二光學補償層的材料(具體而言，所述A-3項記載的非液晶材料；以下，也稱為形成光學補償層材料)的涂敷液涂敷至基材薄片。涂敷方法可采用任意的適當方法。涂敷方法的具體例可列舉旋涂法、輥涂法、流涂法、印刷法、浸涂法、流延成膜法、棒涂法、凹版印刷法等。所述形成光學補償層材料的涂敷液中的形成光學補償層材料濃度，若可取得所述A-3項記載的光學補償層，且可涂敷，則可采用任意的適當濃度。例如，該涂敷液相對于溶劑100重量份，優選含有550重量份、更優選含有1040重量份的形成光學補償層材料。此類濃度范圍的涂敷液為具有容易涂敷的粘度。所述形成光學補償層材料的涂敷液中所用的溶劑，可根據所述形成光學補償層材料的種類而適當選擇。可使用的溶劑的具體例可列舉所述B-2項記載的溶劑。該涂敷液視需要可進一步含有穩定劑、可塑劑、金屬類等各種添加劑。涂敷液的涂敷量為調整成令第二光學補償層可作為A/4板發揮適當功能的厚度(即，如所述A-3項中記載的厚I又，所述形成光學補償層材料的涂敷液，只要所得的光學補償層的光學特性為適當，則可進一步含有與形成光學補償層材料不同的樹脂。此類樹脂可列舉例如各種常用樹脂、工程塑料、熱可塑性樹脂、熱固化性樹脂等。經由并用此類樹脂，則可形成具有配合目的的適當的機械強度和耐久性的光學補償層。所述基材薄片，只要可取得本發明中適當的第二光學補償層，則可使用任意的適當的基材薄片。代表上，該基材薄片為由聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物、二乙酰纖維素、三乙酰纖維素等的纖維素系聚合物、聚碳酸酯系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物、聚乙烯、聚丙烯、環狀或具有原冰片烯構造的聚烯烴、乙烯.丙烯共聚物等烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍和芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物、酰亞胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚硫苯系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙烯系聚合物、乙烯基縮丁醛系聚合物、芳酸酯系聚合物、聚氧亞甲基系聚合物、環氧系聚合物及其等摻合物所形成。以聚對苯二甲酸乙二醇酯為優選。視需要，對基材薄片可施以拉伸處理、再結晶處理等。基材薄片的厚度優選為20100um，更優選為3090iim，最優選為3080pm。經由具有此類范圍的厚度，則可在轉印工序(后述)中對非常薄的第二光學補償層賦予良好的支撐強度，且，滑動性和輥行走性等的操作性也可適當維持。其次，令于所述基材薄片所形成的所述形成光學補償層材料的溶液的涂敷膜干燥，形成聚合物層(該聚合物層最終成為第二光學補償層14)。干燥的方法可采用任意的適當的方法(例如，自然干燥、加熱干燥、風干)。干燥溫度可根據形成光學補償層材料的種類、溶劑的種類、目的的光學補償層的光學特性等而變化。干燥溫度優選為2040(TC，更優選為60300°C，最優選為65250°C。干燥時間優選為0.5200分鐘，更優選為l120分鐘，最優選為5100分鐘。干燥可于一定溫度下進行，也可一邊令溫度連續性或階段性變化一邊進行。其次，將所得的聚合物層連同基材薄片(即，聚合物層與基材薄片成一體)加熱及拉伸，于基材薄片上形成第二光學補償層。拉伸方法可采用任意的適當方法(例如，固定端拉伸、自由端拉伸)。拉伸倍率為相對于拉伸前的聚合物層及基材薄片的一體長度，優選為L23.0倍，更優選為1.32.9倍，最優選為L32.8倍。若為此類范圍的拉伸倍率，則于第二光學補償層中取得所需的Nz系數。拉伸溫度優選為120200°C，更優選為130190°C，最優選為135180°C。經由將拉伸溫度設定于此類范圍，則即使以非常大的拉伸倍率進行拉伸處理，也可穩定性控制所得的光學補償層的光學特性。拉伸方向可根據第二光學補償層的所需的滯相軸方向而設定。于本發明中，可令第一光學補償層的滯相軸相對于偏振鏡的吸收軸(長尺寸薄膜的長軸方向)設定為任意的傾斜方向。此處，可知若令第一光學補償層的滯相軸相對于偏振鏡的吸收軸設定于+22°+23°或-22°-23°方向，則第二光學補償層的滯相軸與偏振鏡的吸收軸若基本上垂直即可。因為該滯相軸的方向為對應拉伸方向，故所述聚合物層及基材薄片的拉伸為于橫方向(寬度方向相對于長軸方向垂直的方向垂直偏振鏡的吸收軸的方向)進行即可。其結果，不必為了配合第二光學補償層的滯相軸方向而打穿，且可以輥對輥貼合，進一步改善制造效率。其次，將所述基材薄片上所形成的所述第二光學補償層，轉印至所述第一光學補償層表面。轉印方法并無特別限定，例如，藉由將基材薄片所支撐的第二光學補償層，經由粘接劑與第一光學補償層貼合則可進行。所述粘接劑于代表上可列舉固化型粘接劑。固化型粘接劑的代表例可列舉紫外線固化型等的光固化型粘接劑、濕氣固化型粘接劑、熱固化型粘接劑。熱固化型粘接劑的具體例可列舉環氧樹脂、異氰酸酯樹脂及聚酰亞胺樹脂等的熱固化性樹脂系粘接劑。濕氣固化型粘接劑的具體例可列舉異氰酸酯樹脂系的濕氣固化型粘接劑。濕氣固化型粘接劑(特別，異氰酸酯樹脂系的濕氣固化型粘接劑)為優選。濕氣固化型粘接劑為與空氣中的水分和被粘體表面的吸附水、羥基和羧基等活性氫基等反應固化，故涂敷粘接劑后，予以放置則可自然固化，操作性優良。而且，因為不必加熱令其固化，故第一及第二光學補償層貼合(接著)時未加熱。其結果，不必擔心加熱收縮，故即使如本發明般第一及第二光學補償層為極薄的情況下，也可顯著防止層疊時的裂痕等。另外，所述所謂異氰酸酯樹脂系粘接劑，為聚異氰酸酯系粘接劑，聚氨基甲酸乙酯樹脂粘接劑的總稱。所述固化型粘接劑例如也可使用市售的粘接劑，也可將所述各種固化型樹脂于溶劑中溶解或分散，調制成固化型樹脂粘接劑溶液(或分散液)。調制溶液(或分散液)時，該溶液中的固化型樹脂的含有比例，以固態成分重量優選為1080重量％，更優選為2065重量％，尤佳為2565重量％，最優選為3050重量％。所用的溶劑可根據固化型樹脂的種類而采用任意的適當溶劑。具體例可列舉乙酸乙酯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲苯、二甲苯等。其可單獨、或組合使用二種以上。所述粘著劑的涂敷量為根據目的而適當設定。例如，涂敷量為第一或第二光學補償層的單位面積(cm2)優選為0.33毫升，更優選為0.52毫升，最優選為12毫升。涂敷后，視需要，將粘接劑中所含的溶劑以自然干燥或加熱干燥令其揮發。如此所得的粘接劑層的厚度優選為0.1ixm20ym，更優選為0.5Pm15um，最優選為lum10iim。又，粘接劑層的押入硬度(Microhardness)優選為0.10.5GPa，更優選為0.20.5GPa，最優選為0.30.4GPa。另外，押入硬度與維氏硬度的相關性為公知的，故也可換算成維氏硬度。押入硬度為例如使用日本電氣股份有限公司(NEC)制的薄膜硬度計(例如，商品名腿4000、商品名MHA-400)，由押入深度和押入荷重則可算出。最后，若由所述第二光學補償層剝離所述基材薄片，則完成所述第一光學補償層與所述第二光學補償層的層疊。如此，可取得本發明的光學薄膜。B-6.具體的制造手續參照圖3圖7，說明本發明的制造方法的具體手續的一例。另外，于圖3圖7中，符號lll、lll'、112、112'、115、116為將形成各層的薄膜及/或層疊體予以巻繞的輥。首先，準備作為偏振鏡原料的長尺寸的聚合物薄膜，并如所述A-4項記載般進行染色、拉伸等。拉伸為對于長尺寸的聚合物薄膜，于其長軸方向上連續進行。藉此，如圖3的立體圖所示般，取得于長軸方向(拉伸方向箭頭A方向)具有吸收軸的長尺寸偏振鏡ll。另一方面，如圖4(a)的立體圖所示般，準備長尺寸的透明保護薄膜12(最終成為保護層)，并于另一表面以摩擦輥120進行摩擦處理。此時摩擦方向為與透明保護薄膜12的長軸方向不同的方向，例如，為±22.5°的方向。其次，如圖4(b)的立體圖所示般，于所述施以摩擦處理的透明保護薄膜12上，如所述B-2及B-3項記載般形成第一光學補償層13。此第一光學補償層13為沿著摩擦方向而令液晶材料取向，故其滯相軸方向為與透明保護薄膜12的摩擦方向基本上為同一方向(箭頭B方向)。其次，如圖5的示意圖所示般，將長尺寸的第二透明保護薄膜(第二保護層)15、長尺寸偏振鏡ll、和透明保護薄膜(保護層)12及第一光學補償層13的層疊體121，于箭頭方向上送出，并以各個長軸方向對齊的狀態下以粘接劑等(未圖示)予以貼合。如此，可取得層疊體123(第二保護層15、偏振鏡ll、保護層12及第一光學補償層13)。另外，于圖5中，符號122為表示用以令薄膜彼此貼合的導輥(于圖6、圖7中也同樣)。而且，如圖6(a)的示意圖所示般，準備長尺寸的層疊體125(于基材薄片26上支撐第二光學補償層14者)，并將其與層疊體123(第二保護層15、偏振鏡11、保護層12及第一光學補償層13)，于箭頭方向上送出，并以各個長軸方向拉齊的狀態下以粘接劑等(未圖示)予以貼合。如此，若根據本發明，則可令非常薄的第一及第二光學補償層以輥對輥貼合，可格外提高制造效率。最后，如圖6(b)所示般將基材薄片26剝離，獲得本發明的光學薄膜10。說明本發明的制造方法的具體手續的另一例。同所述，如圖3的立體圖所示般，制造長尺寸的偏振鏡ll。另一方面，如圖4(a)的立體圖所示般，準備長尺寸的透明保護薄膜(最終成為保護層)12，并于其一表面以摩擦輥120進行摩擦處理。此時摩擦方向為相對于透明保護薄膜12的長軸方向具有規定角度的方向(箭頭B方向)，例如，為±22.5。的方向。其次，如圖7的示意圖所示般，將長尺寸的第二透明保護薄膜(第二保護層)15與長尺寸偏振鏡11與長尺寸的透明保護薄膜(保護層)12，于箭頭方向上送出，并以各個長軸方向拉對齊的狀態下以粘接劑等(未圖示)予以貼合。此時，施以摩擦處理的透明保護薄膜12，為與該施以摩擦處理的面以相反側面對偏振鏡ll般送出。其結果，取得第二保護層(第二透明保護薄膜)15/偏振鏡11/保護層(透明保護薄膜)12的層疊體124。其次，于所述施以摩擦處理的保護層(透明保護薄膜12)上，如所述B-2及B-3項記載般形成第一光學補償層13。此第一光學補償層13為沿著摩擦方向令液晶材料取向，故其滯相軸方向為與透明保護薄膜12的摩擦方向于基本上為同一方向(箭頭B方向)。如此獲得層疊體123(第二保護層15、偏振鏡ll、保護層12及第一光學補償層13)。其次，如圖6(a)的示意圖所示般，準備長尺寸的層疊體125(于基材薄片26上支撐第二光學補償層14的層疊體)，并將其與層疊體123(第二保護層15、偏振鏡ll、保護層12及第一光學補償層13)，于箭頭方向上送出，并以各個長軸方向拉齊的狀態下以粘接劑等(未圖示)予以貼合。最后，如圖6(b)所示般將基材26剝離，取得本發明的光學薄膜IO。說明本發明的制造方法的具體手續的再另一例。、同所述，如圖3的立體圖所示般，制造長尺寸的偏振鏡ll。其次，如圖7的示意圖所示般，將長尺寸的第二透明保護薄膜(第二保護層)15與長尺寸偏振鏡11與長尺寸的透明保護薄膜(成為保護層)12，于箭頭方向上送出，并以各個長軸方向拉齊的狀態下以粘接劑等(未圖示)予以貼合。其結果，取得第二保護層(第二透明保護薄膜)15/偏振鏡11/保護層(透明保護薄膜)12的層疊體124。其次，于保護層(透明保護薄膜)12的偏振鏡11的相反側表面，以摩擦輥120進行摩擦處理。此時摩擦方向為相對于透明保護薄膜12的長軸方向具有規定角度的方向，例如，為±22.5°的方向。其次，于所述施以摩擦處理的保護層(透明保護薄膜)12上，如所述B-2及B-3項記載般形成第一光學補償層13。此第一光學補償層13為沿著摩擦方向令液晶材料取向，故其滯相軸方向為與保護層(透明保護薄膜)12的摩擦方向于基本上為同一方向(箭頭B方向)。如此取得層疊體123(第二保護層15、偏振鏡ll、保護層12及第一光學補償層13)。其次，如圖6(a)的示意圖所示般，準備長尺寸的層疊體125(于基材薄片26上支撐第二光學補償層14者)，并將其與層疊體123(第二保護層15、偏振鏡ll、保護層12及第一光學補償層13)，于箭頭方向上送出，并以各個長軸方向拉齊的狀態下以粘接劑等(未圖示)予以貼合。最后，如圖6(b)所示般將基材薄片26剝離，取得本發明的光學薄膜10。C.光學薄膜的用途本發明的光學薄膜可適合使用于各種圖像顯示裝置(例如，液晶顯示裝置、自發光型顯示裝置)。作為可適用的圖像顯示裝置的具體例可列舉液晶顯示裝置、EL顯示器、等離子顯示器(PD)、場致發光顯示器(FED:FieldEmissionDisplay)。將本發明的光學薄膜使用于液晶顯示裝置的情況下，例如，可用于防止黑色顯示中的漏光及視場角補償。本發明的光學薄膜為適合使用于VA模式的液晶顯示裝置，且特別適合使用于反射型及半透過型的VA模式的液晶顯示裝置。又，本發明的光學薄膜使用于EL顯示器的情況下，例如，可用于防止電極反射。D.圖像顯示裝置說明關于液晶顯示裝置，作為本發明的圖像顯示裝置的一例。此處，說明液晶顯示裝置中所用的液晶面板。關于液晶顯示裝置的其它構成，可根據目的而采用任意的適當構成。于本發明中，VA模式的液晶顯示裝置為優選，以反射型及半透過型的VA模式的液晶顯示裝置為特別優選。圖8為本發明的優選實施方式的液晶面板的概略剖面圖。此處，說明反射型的液晶顯示裝置用液晶面板。液晶面板100為具備液晶單元20、液晶單元20的上側配置的相位差板30、與相位差板30的上側配置的偏振片10。所述偏振片10，以所述A項及B項說明的本發明的光學薄膜為適于使用。相位差板30為根據目的及液晶單元的取向模式而采用任意的適當的相位差板。根據目的及液晶單元的取向模式，可省略相位差板30。又，將本發明的光學薄膜使用作為偏振片10的情況下，僅以偏振鏡10即可進行良好的光學補償，故可省略相位差板30。液晶單元20為具有一對玻璃基板21、21'，與該基板間配置作為顯示媒體的液晶層22。于下基板2r的液晶層22側，設置反射電極23。于上基板21，設置彩色濾光片(未圖示)。基板21、21'的間隔(單元間距)為由伺隔件24所控制。例如，于反射型VA模式的情況下，此類液晶顯示裝置100于未外加電壓時，液晶分子為于基板21、21'面垂直取向。此類垂直取向為于形成垂直取向膜(未圖示)的基板間，配置具有負介電系數異向性的向列液晶則可實現。以此類狀態下，若令通過偏振片10的直線偏振光光線由上基板21面入射至液晶層22，則入射光為沿著垂直取向的液晶分子的長軸方向前進。液晶分子的長軸方向為未發生雙折射，故入射光未改變偏振光方位而前進，經反射電極23反射并再通過液晶層22，由上基板21射出。射出光的偏振光狀態因與入射時無變化，故該射出光為透過偏振片10，取得明亮狀態的顯示。若于電極間外加電壓，則液晶分子的長軸為平行基板面而取向。對于此狀態的液晶層22入射的直線偏振光光線，液晶分子為顯示雙折射性，且入射光的偏振光狀態為根據液晶分子的傾斜度而變化。于外加指定的最大電壓時，經反射電極23反射并由上基板射出的光線，例如其偏振光方位為90。回轉成為直線偏振光，故被偏振片10吸收并可取得暗狀態的顯示。若再作成未外加電壓的狀態，則經由取向規范力則可恢復明狀態的顯示。又，令外加電壓變化且控制液晶分子的傾斜度并令來自偏振片10的透過光強度變化，則可階段性顯示。以下，根據實施例進一步具體說明本發明，但本發明不被此等實施例所限定。實施例中的各特性的測定方法為如下。(1)相位差的測定以自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司制，自動雙折射計K0BRA31PR)計測試料薄膜的折射率nx、ny及nz，算出面內相位差Re及厚度方向相位差Rth。測定溫度為23°〇、測定波長為590nm。(2)厚度的測定第一光學補償層的厚度為使用大冢電子制MCPD2000，根據干涉膜厚測定法進行測定。其它各種薄膜的厚度為使用度盤式指示器測定。(實施例1)a.取向基材(A-l)的制作將TAC薄膜(厚度40um)，使用摩擦布，以摩擦角度=22.5°予以摩擦，作成取向基材(A-1)。b.制作由第一光學補償層(B-l)/取向基材(A-1)所構成的層疊體(XI)首先，將顯示向列液晶相的聚合性液晶(BASF公司制商品名PaliocolOTLC242)10克、與對于該聚合性液晶化合物的光聚合引發劑(CibaSpecialtyChemicals公司制商品名Irugacure907)0.5克，溶解于甲苯40克，調制液晶組成物(涂敷液)。其次，于如所述所制作的取向基材(A-l)上，將該涂敷液以棒涂器涂敷后，于9(TC加熱干燥2分鐘令液晶取向。對如此形成的液晶層，使用金屬鹵素燈照射20mJ/cm2的光線，令該液晶層固化，則可形成具有nx〉ny二nz的折射率特性的正的單軸薄膜的第一光學補償層(B-1)。第一光學補償層(B-l)的厚度及相位差為經由令涂敷液的涂敷量變化而調整，厚度為2.2pni、相位差為250mn。c.制作由第一光學補償層(B-l)/取向基材(A-l)/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y1)將聚乙烯醇薄膜，于含碘的水溶液中染色后，于含有硼酸的水溶液中于速度比不同的輥間以6倍予以單軸拉伸，取得偏振鏡。將此偏振鏡、TAC薄膜(厚度40ym)、取向基材(A-l)與第一光學補償層(B-l)所構成的層疊體(X1)，使用粘接劑，根據圖5所示的制造手續層疊(偏振鏡的吸收軸方向為長軸方向，偏振鏡的吸收軸與第一光學補償層(B-l)的滯相軸所成角度為22.5°及-22.5°)，取得第一光學補償層(B-1)/取向基材(A-l)/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Yl)。另外，此處所謂的層疊體(Y1)為包含偏振鏡的吸收軸與第一光學補償層(B-l)的滯相軸所成角度為22.5°的層疊體、及偏振鏡的吸收軸與第一光學補償層(B-1)的滯相軸所成角度為-22.5°的層疊體兩者的總稱。d.制作由第二光學補償層(C-l)/Zeonoa所構成的層疊體(Zl)使用環己酮作為溶劑將2，2'-雙(3，4-二羧苯基)六氟丙烷)及2，2'-雙(三氟甲基)-4，4，-二氨基聯苯)所合成的聚酰亞胺調制成15重量％的溶液，以25pm的厚度于日本Zeon制的商品名「Zeonoa」(拉伸前的厚度為100iim)上涂敷，并于12(TC干燥處理5分鐘后，將所得的薄膜于寬度方向上以自由端單軸拉伸，于14(TC下拉伸至1.4倍。如此，制作由第二光學補償層(C-l)/Zeonoa所構成的層疊體(Zl)。使用王子計測制的K0BM21-ADH測定聚酰亞胺層(第二光學補償層(C-l)單體的相位差，結果滿足nx〉ny〉nz的關系，且面內相位差Re為130nm、厚度方向相位差Rth為182nm、Nz系數(Nz二(nx-nz)/(nx-ny)為1.4。e.光學薄膜的制作將第一光學補償層(B-1)/取向基材(A-l)/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y1)、第二光學補償層(C-1)/Zeonoa所構成的層疊體(Zl)，經由氨基甲酸乙酯系粘接劑(厚度5um)，根據圖6(a)所示的制造手續層疊(偏振鏡的吸收軸方向成為長邊方向，偏振鏡的吸收軸與第二光學補償層(C-l)的滯相軸所成角度為90。)，最后根據圖6(b)所示的制造手續將「Zeonoa」剝離，最得由第二光學補償層(C-l)/第一光學補償層(B-l)/取向基材(A-l)/偏振鏡/TAC所構成的光學薄膜(l)。而且，于第二光學補償層上貼合厚度20ym的粘著劑形成粘著層，制作光學薄膜(1A)。(實施例2)同「a.取向基材(A-l)的制作」，制作取向基材(A-2)。同「b.制作由第一光學補償層(B-1)/取向基材(A-l)所構成的層疊體(XI)」，制作由第一光學補償層(B-2)/取向基材(A-2)所構成的層疊體(X2)。同「c.制作由第一光學補償層(B-l)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y1)」，制作由第一光學補償層(B-2)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y2)。d.制作由第二光學補償層(C-2)/Zeonoa所構成的層疊體(Z2)使用環己酮作為溶劑將2，2，-雙(3，4-二羧苯基)六氟丙烷)及2，2'-雙(三氟甲基)-4，4'-二氨基聯苯)所合成的聚酰亞胺調制成10重量％的溶液，以30um的厚度于日本Zeon制的商品名「Zeonoa」(拉伸前的厚度為100um)上涂敷，并于120。C干燥處理5分鐘。以光干涉法測定此聚酰亞胺薄膜的厚度，結果為2.9um。將所得的薄膜于寬度方向上以固定端單軸拉伸，于15(TC下拉伸1.73倍。如此，制作由第二光學補償層(C-2)/Zeonoa所構成的層疊體(Z2)。使用王子計測制的K0BRA21-ADH測定聚酰亞胺層(第二光學補償層(C-2)單體的相位差，結果滿足nx〉ny〉nz的關系，且面內相位差Re為121nm、厚度方向相位差Rth為197nm、Nz系數(Nz=(nx-nz)/(nx-ny))為1.63。e.光學薄膜的制作同實施例l，將層疊體(Y2)與層疊體(Z2)層疊，剝離「Z圃a」，取得由第二光學補償層(C-2)/第一光學補償層(B-2)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的光學薄膜(2)。而且，于第二光學補償層上貼合厚度20um的粘著劑形成粘著層，制作光學薄膜(2A)。(實施例3)同「a.取向基材(A-l)的制作」，制作取向基材(A-3)。同「b.制作由第一光學補償層(B-l)/取向基材(A-1)所構成的層疊體(XI)」，制作由第一光學補償層(B-3)/取向基材(A-3)所構成的層疊體(X3)。同「c.制作由第一光學補償層(B-1)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Yl)」，制作由第一光學補償層(B-3)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y3)。d.制作由第二光學補償層(C-3)/Zeonoa所構成的層疊體(Z3)使用環己酮作為溶劑將2，2'-雙(3，4-二羧苯基)六氟丙烷)及2,2，-雙(三氟甲基)-4，4，-二氨基聯苯)所合成的聚酰亞胺調制成15重量％的溶液，以31um的厚度于日本Zeon制的商品名「Zeonoa」(拉伸前的厚度為100um)上涂敷，并于12(TC干燥處理5分鐘。以光干涉法測定此聚酰亞胺薄膜的厚度，結果為3.lum。將所得的薄膜于寬度方向上以固定端單軸拉伸，于15(TC下拉伸至1.55倍。如此，制作由第二光學補償層(C-3)/Zeonoa所構成的層疊體(Z3)。使用王子計測制的K0BRA21-ADH測定聚酰亞胺層(第二光學補償層(C-3)單體的相位差，結果滿足nx〉ny〉nz的關系，且面內相位差Re為122nm、厚度方向相位差Rth為205nm、Nz系數(Nz二(nx-nz)/(nx-ny))為1.68。e.光學薄膜的制作同實施例l，將層疊體(Y3)與層疊體(Z3)層疊，剝離「Z薩a」，取得由第二光學補償層(C-3)/第一光學補償層(B-3)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的光學薄膜(3)。而且，于第二光學補償層上貼合厚度20"m的粘著劑形成粘著層，制作光學薄膜(3A)。(實施例4)同「a.取向基材(A-l)的制作」，制作取向基材(A-4)。同「b.制作由第一光學補償層(B-l)/取向基材(A-l)所構成的層疊體(XI)」，制作由第一光學補償層(B-4)/取向基材(A-4)所構成的層疊體(X4)。同「c.制作由第一光學補償層(B-1)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Yl)」，制作由第一光學補償層(B-4)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y4)。d.制作由第二光學補償層(C-4)/Zeonoa所構成的層疊體(Z4)使用環己酮作為溶劑將2，2'-雙(3，4-二羧苯基)六氟丙垸)及2，2'-雙(三氟甲基)-4，4'-二氨基聯苯)所合成的聚酰亞胺調制成15重量％的溶液，以33ym的厚度于日本Zeon制的商品名「Zeonoa」(拉伸前的厚度為100um)上涂敷，并于12(TC干燥處理5分鐘。以光干涉法測定此聚酰亞胺薄膜的厚度，結果為3.3um。將所得的薄膜于寬度方向上以固定端單軸拉伸，于15(TC下拉伸至1.46倍。如此，制作由第二光學補償層(C-4)/Zeonoa所構成的層疊體(Z4)。使用王子計測制的K0BRA21-ADH測定聚酰亞胺層(第二光學補償層(C-4)單體的相位差，結果滿足nx〉ny〉nz的關系，且面內相位差Re為119nm、厚度方向相位差Rth為376nm、Nz系數(Nz=(nx-nz)/(nx-ny))為1.89。e.光學薄膜的制作同實施例l，將層疊體(Y4)與層疊體(Z4)層疊，剝離「Z畫a」，取得由第二光學補償層(C-4)/第一光學補償層(B-4)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的光學薄膜(4)。而且，于第二光學補償層上貼合厚度20um的粘著劑形成粘著層，制作光學薄膜(4A)。(實施例5)同「a.取向基材(A-l)的制作」，制作取向基材(A-5)。同「b.制作由第一光學補償層(B-l)/取向基材(A-l)所構成的層疊體(XI)」，制作由第一光學補償層(B-5)/取向基材(A-5)所構成的層疊體(X5)。同「c.制作由第一光學補償層(B-l)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Yl)」，制作由第一光學補償層(B-5)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y5)。d.制作由第二光學補償層(C-5)/Zeonoa所構成的層疊體(Z5)使用環己酮作為溶劑將2，2'-雙(3，4-二羧苯基)六氟丙烷)及2，2'-雙(三氟甲基)-4,4，-二氨基聯苯)所合成的聚酰亞胺調制成15重量％的溶液，以19um的厚度于日本Zeon制的商品名「Zeonoa」(拉伸前的厚度為100t:m)上涂敷，并于12(TC干燥處理5分鐘。將所得的薄膜于寬度方向上以自由端單軸拉伸，于15CTC下拉伸至1.85倍。如此，制作由第二光學補償層(C-5)/Zeonoa所構成的層疊體(Z5)。使用王子計測制的K0BRA21-ADH測定聚酰亞胺層(第二光學補償層(C-5)單體的相位差時，滿足nx〉ny〉nz的關系，且面內相位差Re為122nm、厚度方向相位差Rth為142nm、Nz系數(Nz=(nx-nz)/(nx-ny))為1.16。e.光學薄膜的制作同實施例l，將層疊體(Y5)與層疊體(Z5)層疊，剝離「Z畫a」，取得由第二光學補償層(C-5)/第一光學補償層(B-5)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的光學薄膜(5)。而且，于第二光學補償層上貼合厚度20um的粘著劑形成粘著層，制作光學薄膜(5A)。(實施例6)同「a.取向基材(A-l)的制作」，制作取向基材(A-6)。同「b.制作由第一光學補償層(B-1)/取向基材(A-1)所構成的層疊體(XI)」，制作由第一光學補償層(B-6)/取向基材(A-6)所構成的層疊體(X6)。同「c.制作由第一光學補償層(B-l)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Yl)」，制作由第一光學補償層(B-6)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的層疊體(Y6)。d.制作由第二光學補償層(C-6)/Zeonoa所構成的層疊體(Z6)使用環己酮作為溶劑將2,2，_雙(3,4-二羧苯基)六氟丙烷)及2，2，-雙(三氟甲基)-4,4，-二氨基聯苯)所合成的聚酰亞胺調制成15重量%的溶液，以36um的厚度于日本Zeon制的商品名「Zeonoa」(拉伸前的厚度為100um)上涂敷，并于12(TC干燥處理5分鐘。將所得的薄膜于寬度方向上以固定端單軸拉伸，于15(TC下拉伸1.38倍。如此處理，制作由第二光學補償層(C-6)/Zeonoa所構成的層疊體(Z6)。使用王子計測制的K0BRA21-ADH測定聚酰亞胺層(第二光學補償層(C-6)單體的相位差，結果滿足nx〉ny〉nz的關系，且面內相位差Re為124nm、厚度方向相位差Rth為261nm、Nz系數(Nz二(nx-nz)/(nx-ny))為2.1。e.光學薄膜的制作同實施例l，將層疊體(Y6)與層疊體(Z6)層疊，剝離「Z簡oa」，取得由第二光學補償層(C-6)/第一光學補償層(B-6)/TAC/偏振鏡/TAC所構成的光學薄膜(6)。而且，于第二光學補償層上貼合厚度20um的粘著劑形成粘著層，制作光學薄膜(6A)。(實施例7)于實施例1中，除了使用「Zeonoa」的單軸拉伸薄膜作為第一光學補償層(B-7)，代替第一光學補償層(B-1)，使用「Zeonoa」的雙軸拉伸薄膜作為第二光學補償層(C-7)，代替第二光學補償層(C-1)，并且在第一光學補償層及第二光學補償層與偏振片(TAC/偏振鏡/TAC)的貼合上使用厚度12iim的粘著劑以外，其余同實施例l進行，制作光學薄膜(7)及附有粘著劑層的光學薄膜(7A)。第一光學補償層(B-7)的面內相位差Re為232nm、Nz系數(Nz=(nx-nz)/(nx-ny))為1.01。第二光學補償層(C-7)的面內相位差Re為119nm、Nz系數(Nz=(nx-nz)/(nx-ny))為1.6。(實施例8)于實施例1中，除了使用「Zeonoa」的雙軸拉伸薄膜作為第二光學補償層(C-8)，代替第二光學補償層(C-1)，并且在第一光學補償層及第二光學補償層與偏振片(TAC/偏振鏡/TAC)的貼合上使用厚度12ym的粘著劑以外，其余同實施例1進行，制作光學薄膜(8)及附有粘著劑層的光學薄膜第二光學補償層(C-8)的面內相位差Re為119nm、Nz系數(Nz二(nx-nz)/(nx-ny))為1.6。(實施例9)于實施例1中，除了使用聚碳酸酯的雙軸拉伸薄膜作為第二光學補償層(C-9)，代替第二光學補償層(C-1)，并且在第一光學補償層及第二光學補償層與偏振片(TAC/偏振鏡/TAC)的貼合上使用厚度12um的粘著劑以外，其余同實施例1進行，制作光學薄膜(9)及附有粘著劑層的光學薄膜(9A)。第二光學補償層(C-9)的面內相位差Re為122nm、Nz系數(Nz=(nx-nz)/(nx-ny))為1.6。[評價試驗1]測定實施例所得的光學薄膜的厚度。測定為使用數字測微計，以『5的平均視為測定值。結果示于表l。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage47</column></row><table>由表1可知，實施例16的光學薄膜為比實施例79的光學薄膜可進一步實現薄型化。[評價試驗2]將實施例所得的光學薄膜裝配至VA-LCD,測定對比度比。具體而言，于上板使用第一光學補償層的滯相軸與偏振鏡的吸收軸所成角度為+22.5°的光學薄膜，透過粘著劑，貼合至市售的VA-LCD。其次，于下板使用第一光學補償層的滯相軸與偏振鏡的吸收軸所成角度為-22.5°的光學薄膜，并且以上板的光學薄膜中偏振鏡的吸收軸與下板的光學薄膜中偏振鏡的吸收軸所成角度為90°般，透過粘著劑，貼合至市售的VA-LCD。將所得的LCD面板亮度及色度，使用Topcon公司制亮度計BM-5A，令液晶驅動予以測定。令LCD面板顯示黑色和白色，并由正面方向測定中央部的亮度，算出正面對比度比。又，也算出LCD面板的上下左右60。方向的對比度比。結果示于表2。[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table>由表2可知，正面對比度比中，實施例8為比其它實施例差(實施例8以外的正面對比度比可實現300以上)。又，實施例8中為于黑色顯示察見帶有藍色(實施例8以外于黑色顯示中未察見帶色)。又，可知正面對比度比相對于傾斜方向(上下左右60°)對比度比的降低，以實施例16較少于實施例79。[評價試驗3]將評價試驗2所制作的LCD面板投入70'C的烤爐中15分鐘，以未外加電壓的狀態二黑色狀態取出后，立即放置于光盒上測定亮度。結果示于[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage49</column></row><table>由表3可知，實施例9中，于黑色顯示下的高溫透過率為其它的約3倍，于高溫下的漏光多。即，可知實施例9為熱不均較大。(產業上的可利用性)本發明的光學薄膜可適合使用于各種圖像顯示裝置(例如，液晶顯示裝置、自發光型顯示裝置)。權利要求1.一種光學薄膜，其依次具有偏振鏡、具有nx＞ny＝nz的折射率特性的第一光學補償層、和具有nx＞ny＞nz折射率特性的第二光學補償層，該偏振鏡的吸收軸與該第一光學補償層的滯相軸所成角度為+17°～+27°或-17°～-27°，該偏振鏡的吸收軸與該第二光學補償層的滯相軸所成角度為+85°～+95°，該第二光學補償層的Nz系數為1.2≤Nz≤2。2.如權利要求1所述的光學薄膜，其中，所述第二光學補償層由選自聚酰亞胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亞胺及聚酯酰亞胺構成的組中至少一種的聚合物形成。3.如權利要求1或2所述的光學薄膜，其中，所述第二光學補償層的厚度為111m10Pm。4.如權利要求13中任一項所述的光學薄膜，其中，所述第一光學補償層含有液晶單體及液晶聚合物的至少一種。5.如權利要求14中任一項所述的光學薄膜，其中，所述第一光學補償層為A/2板。6.如權利要求15中任一項所述的光學薄膜，其中，所述第二光學補償層為入/4板。7.如權利要求16中任一項所述的光學薄膜，其中，在所述第一光學補償層與所述第二光學補償層之間具有粘接劑層。8.—種圖像顯示裝置，其中，含有權利要求17中任一項所述的光學薄膜。9.一種光學薄膜的制造方法，其中，包括對透明保護薄膜(T)的表面實施取向處理的工序；在該透明保護薄膜(T)的所述已實施了取向處理的表面形成第一光學補償層的工序；在透明保護薄膜(T)的表面層疊偏振鏡的工序；和在該第一光學補償層的表面形成第二光學補償層的工序，其中該偏振鏡與該第一光學補償層彼此經由透明保護薄膜(T)配置于相反側，按照該第一光學補償層的滯相軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度為+17'+27°或-17-27'的方式，形成該第一光學補償層，按照該第二光學補償層的滯相軸與該偏振鏡的吸收軸所成角度為+85°+95°的方式，形成該第二光學補償層。10.如權利要求9所述的制造方法，其中，所述形成第一光學補償層的工序包括涂敷含有液晶材料的涂敷液的工序；和以該液晶材料顯示液晶相的溫度將該涂敷的該液晶材料進行處理而取向的工序。11.如權利要求10所述的制造方法，其中，所述液晶材料包括聚合性單體及/或交聯性單體，且所述液晶材料的取向工序還包括進行聚合處理及/或交聯處理的步驟。12.如權利要求11所述的制造方法，其中，所述聚合處理及/或交聯處理通過加熱或光照射進行。13.如權利要求912中任一項所述的制造方法，其中，按照所述第二光學補償層的Nz系數成為1.2SNz^2的方式形成所述第二光學補償層。14.如權利要求913中任一項的制造方法，其中，在所述第一光學補償層的表面形成第二光學補償層的工序包括在基材薄片的表面涂敷含有選自由聚酰亞胺、聚酰胺、聚醚酮、聚酰胺酰亞胺及聚酯酰亞胺構成的組中至少一種聚合物的涂敷液的工序；干燥該涂敷液，從而在該基材薄片表面形成聚合物層的工序；將該聚合物層連同該基材薄片加熱及拉伸，在該基材薄片上形成該第二光學補償層的工序；將在該基材薄片上形成的第二光學補償層貼附于該第一光學補償層的表面的工序；禾口從該第二光學補償層剝離該基材薄片的工序。15.如權利要求14所述的制造方法，其中，在所述基材薄片上形成所述第二光學補償層的工序中，所述聚合物層連同該基材薄片以1.2倍3倍的拉伸倍率被拉伸。16.如權利要求14或15所述的制造方法，其中，在所述基材薄片上形成所述第二光學補償層的工序中，所述聚合物層連同該基材薄片沿寬度方向被拉伸。全文摘要本發明系提供有助于薄型化，防止熱不均，且可良好防止黑色顯示中漏光的光學薄膜、及使用該光學薄膜的圖像顯示裝置。本發明的光學薄膜依次具有偏振鏡、具有nx＞ny＝nz的折射率特性的第一光學補償層、和具有nx＞ny＞nz折射率特性的第二光學補償層。該偏振鏡的吸收軸與該第一光學補償層的滯相軸所成角度為+17°～+27°或-17°～-27°，該偏振鏡的吸收軸與該第二光學補償層的滯相軸所成角度為+85°～+95°，該第二光學補償層的Nz系數為1.2≤Nz≤2。文檔編號B32B27/34GK101133349SQ2006800069公開日2008年2月27日申請日期2006年1月30日優先權日2005年3月2日發明者川本育郎,梅本清司,武田健太郎申請人:日東電工株式會社