專利名稱：：防反射薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及防反射薄膜，更具體地說，涉及具有近紅外線吸收性能和防反射性能，且耐擦傷性優(yōu)異，層結(jié)構(gòu)簡單，成本低，尤其是適用作等離子體顯示器的防反射薄膜。
背景技術(shù)：
：在等離子體顯示器(PDP)、陰極射線管(CRT)、液晶顯示器(LCD)等圖像顯示裝置中，從外部向畫面照射光，該光產(chǎn)生反射而難以觀看顯示圖像，尤其是近年來，伴隨著顯示器的大型化，解決上述問題變成越來越重要的課題。為了解決這樣的問題，迄今為止，對各種顯示器進(jìn)行各種防反射處理和防眩光處理。作為其中一種方法，是在各種顯示器上使用防反射薄膜。該防反射薄膜目前使用通過蒸鍍或?yàn)R射等干式處理方法，從而在基材薄膜上將低折射率的物質(zhì)(MgF2)薄膜化的方法和將折射率高的物質(zhì)[ITO(摻雜錫的氧化銦)、Ti02等]與折射率低的物質(zhì)(MgF2、Si02等)交互疊層的方法等制備。然而，通過這樣的干式處理方法制備的防反射薄膜存在無法避免制造成本提高的問題。因此，近年來，嘗試了通過濕式處理法，即濕式涂布法制備防反射薄膜。然而，在該通過濕式處理法制備的防反射薄膜中，與上述通過干式處理制備的防反射薄膜相比，產(chǎn)生表面的耐擦傷性惡化這樣的問題。因此，為了解決濕式處理法中的上述問題，使用電離放射線固化型樹脂組合物形成固化層(硬涂層)。公開了例如在基材薄膜上，(l)依次層疊包含(A)含有通過電離放射線形成的固化樹脂、厚度為220pm的硬涂層、(B)含有通過電離放射線形成的固化樹脂和包括摻雜銻的氧化錫的至少2種金屬氧化物、折射率在1.65~1.80的范圍內(nèi)、厚度為60~160nm的高折射率層、和(C)含有硅氧烷類聚合物、折射率在1.37~1.47的范圍內(nèi)、厚度為80~180nm的低折射率層的光學(xué)用薄膜(參見例如專利文獻(xiàn)1)、(2)依次層疊(A)含有金屬氧化物和通過熱或電離放射線形成的固化物、厚度為2-20nm的硬涂層和(B)含有多孔性二氧化硅和聚硅氧烷類聚合物、折射率在1.30-1.45的范圍內(nèi)、厚度為40200nm的低折射率層的光學(xué)用薄膜(參見例如專利文獻(xiàn)2)等。這些光學(xué)用薄膜是能有效防止圖像顯示元件表面的光反射，且耐擦傷性優(yōu)異的防反射薄膜?？墒?，PDP為對通過電極間的等離子體放電封入的氙氣分子進(jìn)行激勵，通過產(chǎn)生的紫外線激勵熒光物質(zhì)，產(chǎn)生可見光區(qū)域的光而顯示圖像的裝置。在該P(yáng)DP中，由于發(fā)光利用了等離子體放電，因此頻率數(shù)波段為30~130MHz左右的不必要的電磁波會向外部泄漏，因此，為了不對其他機(jī)器(例如信息處理裝置等)產(chǎn)生壞的影響，要求極力抑制電磁波。此外，在PDP中，已知會產(chǎn)生近紅外線。該近紅外線恐怕會對無繩電話、使用近紅外線遙控裝置的錄像機(jī)等周邊的電子機(jī)器產(chǎn)生影響，妨害正常的工作，要求極力遮斷該近紅外線。此外，在PDP中，顯示面是平面的，因此在有外光進(jìn)入時，在寬范圍內(nèi)反射的光會同時進(jìn)入眼中，有時會難以看見畫面，必須防止外光反射。此外，以規(guī)定的透過率透過PDP的發(fā)光，進(jìn)行良好的圖像顯示和發(fā)光顏色的色調(diào)補(bǔ)正也是重要的。在PDP中，針對這些要求，通常在顯示畫面中設(shè)置具有(l)電磁波遮斷薄膜、(2)近紅外線吸收薄膜和(3)防反射薄膜的至少3張功能性薄膜的前面板，使得該防反射薄膜位于最表面(觀察者側(cè))(參見例如專利文獻(xiàn)3)。在該情況下，必須分別制備至少3張功能性薄膜，將它們貼合，因而無法避免成本提高。對此，近年來，從成本降低的方面出發(fā)，開發(fā)了通過在最表面的防反射薄膜中，在其基材與防反射層相反側(cè)的面上設(shè)置近紅外線吸收層，從而在1張薄膜兼有防反射性能和近紅外線吸收性能的功能性薄膜。在制造這樣功能性薄膜的情況下，包括(l)在防反射薄膜的內(nèi)面上形成近紅外線吸收層和(2)在近紅外線吸收薄膜的內(nèi)面形成防反射層的2種方法，但在任一情況下均會產(chǎn)生薄膜的損失，因此成本降低的效果減小。專利文獻(xiàn)1:日本特開2002-341103號公報專利文獻(xiàn)2:日本特開2003-139908號公報專利文獻(xiàn)3:日本特開平11-126024號公報
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明基于這樣的事情，目的是提供一種具有近紅外線吸收性能和防反射性能，且耐擦傷性優(yōu)異，層結(jié)構(gòu)簡單，成本低，尤其是適用作PDP的通過濕式處理法制備的防反射薄膜。本發(fā)明人們對開發(fā)具有上述優(yōu)異性質(zhì)的防反射薄膜進(jìn)行了精心的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過在根據(jù)濕式處理法獲得的防反射薄膜中必需的硬涂層中含有近紅外線吸收劑，使得所得防反射薄膜在至少波長850~1000nm的全部區(qū)域中的透過率為某個值以下，從而能實(shí)現(xiàn)該目的，基于該認(rèn)識而完成本發(fā)明。即，本發(fā)明提供(1)一種防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的一面上，依次層疊(A)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂和近紅外線吸收劑的厚度為2~20nm的涂層、和(B)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂、折射率為1.43以下、厚度為50200nm的低折射率層，且至少在波長850~1000nm的全部區(qū)域中透過率為30%以下；(2)如上述(1)所述的防反射薄膜，其中，(A)層中的近紅外線吸收劑是氧化鎢類化合物；(3)如上述(2)所述的防反射薄膜，其中，氧化鵠類化合物是含銫氧化鵠；(4)如上述(1)(3)任一項(xiàng)所述的防反射薄膜，其中，在(A)層中還含有從有機(jī)填料和無機(jī)填料構(gòu)成的群組中選出的至少一種的填料；(5)如上述(1)(4)任一項(xiàng)所述的防反射薄膜，其中，(B)層包含3080重量％多孔性二氧化硅；(6)如上述(1)(5)任一項(xiàng)所述的防反射薄膜，其中，在基材薄膜的另一面具有厚度5~50nm的粘合劑層；和(7)用于等離子體顯示器的上述(1)(6)任一項(xiàng)所述的防反射薄膜。根據(jù)本發(fā)明，可以提供具有近紅外線吸收性能和防反射性能，且耐擦傷性優(yōu)異、層結(jié)構(gòu)簡單、成本低，尤其是適用作PDP的通過濕式處理法制備的防反射薄膜。具體實(shí)施例方式本發(fā)明的防反射薄膜通過濕式處理法，在基材薄膜的一面上具有依次層疊(A)含有近紅外線吸收劑的硬涂層、和(B)低折射率層的結(jié)構(gòu)。對本發(fā)明防反射薄膜中的基材薄膜沒有特別的限制，可以從作為現(xiàn)有防反射薄膜的基材公知的塑料薄膜中適當(dāng)選擇使用。作為這樣的塑料薄膜，可以列舉例如聚對苯二曱酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚對萘二甲酸乙二酯等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、賽璐玢、二乙?；w維素薄膜、三乙?；w維素薄膜、乙?；w維素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚砜薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚砜薄膜、聚醚酰亞胺薄膜、聚酰亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚酰胺薄膜、丙烯酸樹脂薄膜、降冰片烯類樹脂薄膜、環(huán)烯烴樹脂薄膜等。這些基材薄膜可以是透明、半透明的任一種，或者可以是著色的，也可以是無著色的，可以根據(jù)用途適當(dāng)選擇。對這些基材薄膜的厚度沒有特別的限制，可以適當(dāng)選定，通常在15~250pm,優(yōu)選在30~200nm的范圍內(nèi)。此外，該基材薄膜為了提高與在該表面上設(shè)置層的粘合性，根據(jù)期望，在一面或兩面上通過氧化法或凹凸化法進(jìn)行表面處理。作為上述氧化法，可以列舉電暈放電處理、鉻酸處理(濕式)、火焰處理、熱風(fēng)處理、臭氧.紫外線照射處理等。此外，作為凹凸化法，可以列舉例如噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法可以根據(jù)基材薄膜的種類適當(dāng)選擇，通常，從效果和操作性等方面出發(fā)，優(yōu)選使用電暈放電處理法。此外，可以使用在一面或兩面上進(jìn)行底漆處理。在本發(fā)明的防反射薄膜中，在上述基材薄膜的至少一面上，首先設(shè)置(A)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂和近紅外線吸收劑的硬涂層。該包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂和近紅外線吸收劑的硬涂層例如可以將含有活性能量線固化性化合物、上述防近紅外線吸收劑和根據(jù)期望的光聚合引發(fā)劑等的硬涂層形成用涂布液涂布在基材薄膜的一面上而形成涂膜，照射活性能量線以固化該涂膜，從而形成。其中，所謂的活性能量線固化性化合物是指通過照射在電磁波或帶電粒子線中具有能量量子的射線，即照射紫外線或電子線等，從而交聯(lián)固化的化合物。作為這樣的活性能量線固化性化合物，可以列舉例如活性能量線聚合性預(yù)聚物和/或活性能量線聚合性單體。在上述活性能量線聚合性預(yù)聚物中包括自由基聚合型和陽離子聚合型，作為自由基聚合型的活性能量線聚合性預(yù)聚物，可以列舉例如聚酯丙烯酸酯類、環(huán)氧丙烯酸酯類、聚氨酯丙烯酸酯類、多元醇丙烯酸酯類等。其中，作為聚酯丙烯酸酯類預(yù)聚物，例如可以通過在通過多元羧酸和多元醇縮合獲得的在兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基通過(曱基)丙烯酸酯化，或?qū)⒃诙嘣人嶂屑映森h(huán)氧烷基獲得的低聚物的末端羥基通過(曱基)丙烯酸酯化獲得。環(huán)氧丙烯酸類預(yù)聚物例如可以在較低分子量的雙酚型環(huán)氧樹脂或酚醛型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧乙烷環(huán)內(nèi)，通過反應(yīng)(曱基)丙烯酸酯化而獲得。聚氨酯丙烯酸酯類預(yù)聚物例如可以將聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯反應(yīng)而獲得的聚氨酯通過(曱基)丙烯酸酯化而獲得。此外，多元醇丙烯酸酯類預(yù)聚物可以將聚醚多元醇的羥基通過(曱基)丙烯酸酯化而獲得。這些活性能量線聚合性預(yù)聚物可以使用l種，也可以將2種以上組合使用。另一方面，作為陽離子聚合型活性能量線聚合型預(yù)聚物，通常使用環(huán)氧類樹脂。作為該環(huán)氧類樹脂，可以列舉例如在雙酚樹脂或酚醛樹脂等多元酚類通過表氯醇等而環(huán)氧化的化合物、將直鏈狀烯經(jīng)化合物或環(huán)狀烯經(jīng)化合物通過過氧化物氧化獲得的化合物等。作為活性能量線聚合性聚合物，可以列舉例如1,4-丁二醇二(曱基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(曱基)丙烯酸酯、新戊二醇二(曱基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(曱基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(曱基)丙烯酸酯、二環(huán)戊烯基二(曱基)丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性的二環(huán)戊烯基二(曱基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性的磷酸二(曱基)丙烯酸酯、烯丙基化環(huán)己基二(曱基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯二(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性的三羥曱基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯氧基乙基)異氰尿酸酯、丙酸改性的二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能團(tuán)丙烯酸酯。這些活性能量線聚合性單體可以使用1種，也可以將2種以上組合使用，此外，還可以聯(lián)用上述活性能量線聚合性預(yù)聚物。作為根據(jù)期望使用的光聚合引發(fā)劑，對于自由基聚合型的活性能量線聚合性預(yù)聚物或活性能量線聚合性單體，可以列舉例如苯偶姻、苯偶姻曱基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻異丁基醚、苯乙酮、二曱基氨基苯乙酮、2,2-二曱氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-曱基-l-苯基丙-l-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-曱基-l-[4-(甲基硫基)苯基]-2-嗎啉基丙-l-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯酮、對苯基二苯酮、4,4，-二乙基氨基二苯酮、二氯二苯酮、2-曱基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-曱基p塞噸酮、2-乙基漆噸酮、2-氯p塞噸酮、2，4-二曱基p塞噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、千基二曱基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對二曱基胺苯曱酸酯等。此外，作為陽離子聚合型活性能量線聚合性預(yù)聚物的光聚合引發(fā)劑，可以列舉例如由芳香族锍離子、芳香族氧代锍離子、芳香族碘鏞離子等錯與四氟硼酸鹽、六氟磷酸鹽、六氟銻酸鹽、六氟砷酸鹽等陰離子構(gòu)成的化合物。這些物質(zhì)可以使用1種，也可以將2種以上組合使用，此外，其混合量相對于100重量份上述活性能量線聚合性預(yù)聚物和/或活性能量線聚合性單體，通常在0.2-10重量份的范圍內(nèi)選擇。另一方面，對于在硬涂層中所含的近紅外線吸收劑，只要是能獲得至少在波長850~1000nm的全部區(qū)域中透過率為30%以下的防反射薄膜即可，沒有特別的限制，可以適當(dāng)選擇使用各種物質(zhì)。該近紅外線吸收劑分為有機(jī)類近紅外線吸收劑和無機(jī)類近紅外線吸收劑。其中，作為有機(jī)類近紅外線吸收劑，可以列舉例如花青苷類化合物、角簠烯鏞類化合物、硫醇鎳絡(luò)鹽類化合物、萘花青類化合物、酞菁類化合物、三烯丙基甲烷類化合物、萘醌類化合物、蒽醌類化合物、以及N,N,N，，N，-四(對二正丁基氨基苯基)-對亞苯基二銨的過氯酸鹽、亞苯基二銨的氯酸鹽、亞苯基二銨的六氟銻酸鹽、亞苯基二氟化銨硼酸鹽、亞苯基二氟化銨鹽、亞苯基二銨的過氯酸鹽等氨基化合物、通過銅化合物與雙硫脲化合物、磷化合物與銅化合物、磷酸酯化合物與銅化合物反應(yīng)獲得的磷酸酯銅化合物等。在這些物質(zhì)中，優(yōu)選硫醇鎳絡(luò)鹽類化合物(日本特開平9-230134號公報等)和酞菁類化合物，尤其是日本特開2000-26748號公報等中公開的含氟酞菁化合物在有機(jī)類近紅外線吸收劑中，可見光線透過率高，且耐熱性、耐光性、耐氣候性等特性優(yōu)異，因此是優(yōu)選的。此外，作為無機(jī)類近紅外線吸收劑，可以列舉例如氧化鵠類化合物、氧化鈦、氧化鋯、氧化鉭、氧化鈮、氧化鋅、氧化銦、摻雜錫的氧化銦(ITO)、氧化錫、摻雜銻的氧化錫(ATO)、氧化銫、硫化鋅等。在這些物質(zhì)中，由于近紅外線吸收率高，且可見光線的透過率高，因此優(yōu)選氧化鵠類化合物，特別優(yōu)選含銫氧化鴒。進(jìn)行比較的情況下，近紅外線的吸收能力有機(jī)類的優(yōu)異，對于耐光性和耐氣候性，無機(jī)類的非常優(yōu)異。此外，有機(jī)類的吸收劑還具有容易著色的缺點(diǎn)，從實(shí)用性的觀點(diǎn)來看，優(yōu)選無機(jī)類近紅外線吸收劑，特別優(yōu)選使用含銫氧化鵠。為了在可見光區(qū)域中的吸收較少，且形成透明的涂層，該無機(jī)類紅外線吸收劑有利的是具有優(yōu)選為0.5nm以下，更優(yōu)選為O.lpm以下的粒徑。在本發(fā)明中，有機(jī)類近紅外線吸收劑可以使用1種，也可以將2種以上組合使用，此外，無機(jī)類近紅外線吸收劑可以使用1種，也可以將2種以上組合使用。此外，還可以適當(dāng)組合l種以上有機(jī)類近紅外線吸收劑和1種以上無機(jī)類近紅外線吸收劑。另外，即使在單獨(dú)使用近紅外線吸收劑的情況下，存在例如在波長850~1000nm的區(qū)域中透過率超過30%的部分，只要能通過將2種以上聯(lián)用，從而使波長850~1000nm的全部區(qū)域中的透過率為30%以下即可。該近紅外線吸收劑的使用量取決于硬涂層的膜厚，在使用有機(jī)類近紅外線吸收劑的情況下，硬涂層中的含量通常為1~10重量％,優(yōu)選為3~7重量％。另一方面，在使用無機(jī)類近紅外線吸收劑的情況下，硬涂層中的含量通常為10-60重量％,優(yōu)選為20~40重量％。在本發(fā)明中，在(A)層的硬涂層中，作為防眩光性賦予劑，含有選自有機(jī)填料和無機(jī)填料至少1種的填料。作為有機(jī)填料，可以列舉例如蜜胺類樹脂顆粒、丙烯酸酯類樹脂顆粒、丙烯酸酯-苯乙烯類共聚物顆粒、聚碳酸酯顆粒、聚乙烯類顆粒、聚苯乙烯類顆粒、苯并胍胺類樹脂顆粒等。這些有機(jī)填料的平均粒徑通常為2~10nm左右。此外，作為無機(jī)填料，是由平均粒徑為0.510nm左右的二氧化硅顆?；蚰z狀二氧化硅顆粒通過胺化合物形成的凝集物，可以列舉平均粒徑為0.5~10pm左右的填料。這些防眩光性賦予劑可以單獨(dú)使用l種，也可以將2種以上組合使用，其在硬涂層中的含量通常為2~15重量％，優(yōu)選為3~8重量％。通過在硬涂層中含有防眩光性賦予劑，能使本發(fā)明防反射薄膜的60。光澤度值通常為30-120。本發(fā)明中使用的該硬涂層形成用涂布液根據(jù)需要，可以通過在適當(dāng)?shù)娜軇┲?，分別按照規(guī)定的比例加入上述活性能量線固化性化合物、近紅外線吸收劑、根據(jù)期望使用的上述光聚合引發(fā)劑、防眩光性賦予劑、以及各種添加劑，例如防氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、均化劑、消泡劑等，溶解或分散而制備。作為此時使用的溶劑，可以列舉例如己烷、庚烷、環(huán)己烷等脂肪族烴、曱苯、二曱苯等芳香族烴、二氯甲烷、二氯乙烷等鹵化烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、l-甲氧基-2-丙醇等醇、丙酮、曱乙酮、2-庚酮、曱基異丁基酮、異佛爾酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纖劑等溶纖劑類溶劑等。作為由此制備的涂布液的濃度、粘度，只要是可以涂布的濃度、粘度即可，沒有特別的限制，可以根據(jù)狀況適當(dāng)選擇。然后，在基材薄膜的至少一面上，使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、輥涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布上述涂布液而形成涂膜，干燥后，在其中照射活性能量線以固化該涂膜，從而形成近紅外線吸收性硬涂層。作為活性能量線，可以列舉例如紫外線或電子線。上述紫外線用高壓水銀燈、熔合H燈、氙燈等獲得。另一方面，電子線通過電子線加速器等獲得。在該活性能量線中，特別優(yōu)選紫外線。另外，在使用電子線的情況下，可以無需添加聚合引發(fā)劑而獲得固化膜。在本發(fā)明中，(A)硬涂層厚度在220pm的范圍內(nèi)。該厚度不足2pm的話，恐怕無法充分發(fā)揮所得防反射薄膜的耐擦傷性，此外，如果超過20fim,則會產(chǎn)生裂縫。該硬涂層的優(yōu)選厚度在3~15pm的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選在5-10pm的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的光學(xué)用薄膜中，該(A)硬涂層的折射率通常在1.47~1.60,優(yōu)選在1.49~1.55的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的防反射薄膜中，在上述硬涂層中設(shè)置(B)包含通過活性能量線形成的固化樹脂和多孔性二氧化硅顆粒的低折射率層。該包含通過照射活性能量線形成的固化樹脂和多孔性二氧化硅顆粒的低折射率層例如可以將包含活性能量線固化性化合物、多孔性二氧化硅顆粒和根據(jù)期望的光聚合引發(fā)劑的低折射率層形成用涂布液在(A)硬涂層上涂布而形成涂膜，照射活性能量線使該涂膜固化，從而形成。對于上述活性能量線固化性化合物和根據(jù)期望使用的光聚合引發(fā)劑，如在上述(A)硬涂層的說明中所示。作為該(B)層包含的多孔性二氧化硅顆粒，優(yōu)選使用比重為1.7~1.9,折射率為1.251.36和平均粒徑在20100nm的范圍內(nèi)的物質(zhì)。通過使用具有該性狀的多孔性二氧化硅顆粒，能獲得防反射性能優(yōu)異的單層型防反射薄膜。在本發(fā)明中，該(B)層中的多孔性二氧化硅顆粒的含量優(yōu)選在30-80重量％的范圍內(nèi)選擇。只要該多孔性二氧化硅顆粒的含量在上述范圍內(nèi)，則該(B)層為具有期望低折射率的層，所得防反射薄膜防反射性優(yōu)異。該多孔性二氧化硅顆粒的優(yōu)選含量為5080重量％,特別優(yōu)選在60~75重量％的范圍內(nèi)。該(B)層的厚度為50200pm,折射率為1.43以下，優(yōu)選在1.301.42的范圍內(nèi)。只要該(B)層的厚度和折射率在上述范圍內(nèi)，則能獲得防反射性能、耐擦傷性優(yōu)異的防反射薄膜。該(B)層的厚度優(yōu)選70130nm,折射率優(yōu)選在1.35-1.40的范圍內(nèi)。本發(fā)明中使用的該低折射率層形成用涂布液根據(jù)需要，可以通過在適當(dāng)?shù)娜軇┲校謩e按照規(guī)定的比例加入上述活性能量線固化性化合物、多孔性二氧化硅顆粒、根據(jù)期望使用的上述光聚合引發(fā)劑、以及各種添加劑，例如防氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、均化劑、消泡劑等，溶解或分散而制備。對于此時使用的溶劑，如在上述硬涂層形成用涂布液的說明中所示。作為由此制備的涂布液的濃度、粘度，只要是可以涂布的濃度、粘度即可，沒有特別的限制，可以根據(jù)狀況適當(dāng)選擇。在(A)硬涂層上，使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、輥涂法、刮片涂布法、才莫涂布法、照相凹版涂布法等，涂布該涂布液而形成涂膜，干燥后，在其中照射活性能量線以固化該涂膜，從而形成(B)低折射率層。對于活性能量線，如在上述硬涂層的說明中所示。在本發(fā)明中，上述(A)硬涂層和(B)低折射率層的形成有利的是按照以下所示的方法進(jìn)行。首先，在基材薄膜的一面上涂布硬涂層形成用涂布液而形成涂膜，照射活性能量線以固化至半固化狀態(tài)。此時，在照射紫外線的情況下，光量通常為50150mJ/cn^左右。然后，在由此形成的半固化狀態(tài)的固化層上，涂布低折射率層形成用涂布液而形成涂膜，充分照射活性能量線，與上述半固化狀態(tài)的固化層一起完全固化。此時，在照射紫外線的情況下，光量通常為400~1000mJ/cm2左右。另外，在將(A)硬涂層和/或低折射率層完全固化時，為了不會由于氧化妨害固化，可以在氮?dú)獾鹊姆諊?，照射活性能量線。在該情況下，氧氣濃度可以較低，優(yōu)選為2容量％以下。由此，在基材薄膜上，依次形成(A)層與(B)層間粘合性優(yōu)異的(A)近紅外線吸收性硬涂層和(B)低折射率層。在由此制備的本發(fā)明的防反射薄膜中，至少在波長850~1000nm的全部區(qū)域中的透過率必須為30%以下。只要該透過率為30%以下，則在PDP的前面板上使用本發(fā)明防反射薄膜的情況下，能抑制由于由該P(yáng)DP產(chǎn)生的近紅外線對周邊電子機(jī)器(無繩電話、使用近紅外線遙控裝置的錄像機(jī)等)的誤操作。上述透過率優(yōu)選為20%以下。此外，波長500~700nm中的反射率通常為3%以下，全部光線透過率通常為40°/。以上，優(yōu)選為50%以上。此外，霧度值通常不足3%,在硬涂層中含有防眩光性賦予劑的情況下，為3~30%左右。在本發(fā)明的防反射薄膜中，可以在上述(B)低折射率層上設(shè)置防污層。該防污層通常是將含氟類樹脂的涂布液使用目前公知的方法，例如棒涂法、刀涂法、輥涂法、刮片涂布法、模涂布法、照相凹版涂布法等，涂布在(B)低折射率層上，形成涂膜，進(jìn)行干燥處理，從而形成。該防污層的厚度通常在110nm,優(yōu)選在38nm的范圍內(nèi)。通過設(shè)置該防污層，所得防反射薄膜的表面光滑性良好，且難以污染。由此，可以提供兼?zhèn)浣t外線吸收性能和防反射性能，且耐擦傷性優(yōu)異、層結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉的防反射薄膜。該防反射薄膜特別適合用于PDP的前面板中。在本發(fā)明的防反射薄膜中，可以在基材薄膜與硬涂層相反側(cè)的面上，形成用于在前面板的粘附體上貼附的粘合劑層。作為構(gòu)成該粘合劑層的粘合劑，優(yōu)選使用光學(xué)用途用的物質(zhì)，例如丙烯酸酯類粘合劑、聚氨酯類粘合劑、有機(jī)硅類粘合劑。該粘合劑層的厚度通常在5~50pm的范圍內(nèi)。在該粘合劑層中，為了對顯示裝置的發(fā)光顏色進(jìn)行補(bǔ)正，可以含有染料或顏料。此外，可以在該粘合劑層上設(shè)置剝離薄膜。作為該剝離薄膜，可以列舉例如在玻璃紙、銅板紙、層壓紙等紙和各種塑料薄膜上涂覆聚硅氧烷樹脂等剝離劑的薄膜。對該剝離薄膜的厚度沒有特別的限制，通常為20~150nm左右。本發(fā)明的防反射薄膜可以適合用作顯示器用，尤其是PDP用的防反射薄膜。實(shí)施例以下，通過實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不通過這些例子進(jìn)行限定。另外，各例中所得防反射薄膜的物性根據(jù)以下所示方法測定。(l)波長500證、600證和700認(rèn)中的反射率通過分光光度計(jì)[(林)島津制作所制"UV-3101PC"]，測定波長500證、600認(rèn)和700雄中的反射率。(2)波長8501000nm中的分光透過率通過分光光度計(jì)[(抹)島津制作所制"UV-3101PC"],測定波長850nm1000nm中的分光透過率(以下稱為透過率)。在表1中示出波長850鍾、900證和1000nm的測定值。(3)全光線透過率和霧度值使用日本電色工業(yè)社制霧度計(jì)"NDH2000",根據(jù)JISK6714標(biāo)準(zhǔn)測定。(4)60。光澤度值使用日本電色工業(yè)社制光澤度計(jì)"VG2000",根據(jù)JISK7105標(biāo)準(zhǔn)測定。(5)耐擦傷性使用鋼絲絨#0000,在負(fù)荷9.8xl(T3N/mm2下來回擦拭5次后，目視觀察，按下述的判定標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行評價。O:沒有擦傷x:產(chǎn)生擦傷實(shí)施例1(l)A液(硬涂層形成用涂布液)的制備在100重量份作為活性能量線固化性化合物的多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(xué)(抹)制造，商品名"If一厶七yh5"CB"，固體成分濃度100%]中，添加2重量份光聚合引發(fā)劑[于^'只^i/亇/p于y.亇s力/p乂社制，商品名"^r^^f年工r907"]，接著，在混合300重量份近紅外線吸收劑[住友金屬礦山(抹)制造，商品名"YMF-01"、含銫氧化鎢(相對于鴒，含有33moin/。銫)含量10重量％懸濁液，全部固體成分濃度14重量％]后，用曱基異丁基酮(MIBK)稀釋，使得全部固體成分濃度為30重量％，制備A液(硬涂層形成用涂布液)。(2)B液(低折射率形成用涂布液)的制備在100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(xué)(抹)制造，商品名"tf一厶t、;/卜577CB",固體成分濃度100%]中，添加5重量份光聚合引發(fā)劑7入、:x亇/P亍<々$力/P乂社制，商品名"^^^f年工7907"]，接著，在混合1200重量份多孔性二氧化硅顆粒的曱基異丁基酮(MIBK)分散體[觸媒化成工業(yè)(林)制造，商品名"ELCOMRT-1002SIV",固體成分濃度21重量％,多孔性二氧化硅顆粒比重1.8,折射率1.30,平均粒徑60nm]后，用MIBK稀釋，使得全部固體成分濃度為2重量。/o,從而制備(B)液(低折射率形成用涂布液)。(3)防反射薄膜的制作在作為基材的厚度100pm的兩面易粘合處理聚對苯二曱酸乙二鞭(PET)薄膜[東洋紡繢(抹)]制造，商品名"A4300"]表面，用7<亇一^一No.16涂布上述(l)中獲得的A液，使得固化后的厚度為6pm。然后，在90C下干燥1分鐘后，以光量100mJ/cm2照射紫外線，固化至半固化狀態(tài)。然后，在該半固化面上，用7,亇一^一No.4涂布上述(2)中獲得的B液，使得固化后的厚度為100nm。接著，在8(TC下干燥1分鐘后，在氮?dú)夥諊?氧氣濃度0.5容量％)，以光量500mJ/cm2照射紫外線，完全固化，在PET薄膜上，依次形成折射率1.54的近紅外線吸收性硬涂層和折射率1.38的低折射率層，從而制備防反射薄膜。由此制備的防反射薄膜的物性在表1中示出。該防反射薄膜在波長850~1000nm的全部區(qū)域中的透過率為30%以下。另外，各涂層的厚度通過松下^ry夕一亍夕/社制造"7一/P乂卜y夕7F-20"測定。折射率通過(抹)7夕3制的75/《折射計(jì)(Na光源、波長約590nm)測定。(以下相同)實(shí)施例2除了實(shí)施例1中的A液(硬涂層形成用涂布液)的制備按如下改變以外，與實(shí)施例l同樣實(shí)施。<A液的制備>在100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(xué)(抹)制造，商品名"If一厶電y卜577CB",固體成分濃度100%]中，添加2重量份光聚合引發(fā)劑[于六'7^、>亇少亍<<5r$力/P乂社制，商品名907"],接著，在混合1.3重量份近紅外線吸收劑[(抹)日本觸媒制造，商品名"V—工、7夕7力，一IR-12"、酞菁類、固體成分濃度100%(粉末)]、0.75重量份近紅外線吸收劑[(抹)日本觸媒制造，商品名"^T—工、;/夕7力，一IR-14"、酞菁類、固體成分濃度100%(粉末)]、0.65重量份近紅外線吸收劑[(抹)日本觸媒制造，商品名",一工、;/夕7力，一IR-906B"、酞菁類、固體成分濃度100%(粉末)]、3.3重量份近紅外線吸收劑[(株)日本觸媒制造，商品名一工5/夕只力，一IR-910B"、酞菁類、固體成分濃度100%(粉末)]后，用MIBK稀釋，使得全部固體成分濃度為30重量％，制備A液(硬涂層形成用涂布液)。由此制備的防反射薄膜的物性在表1中示出。該防反射薄膜在波長850~1000nm的全部區(qū)域中的透過率為30%以下。另外，硬涂層的折射率為1.53。實(shí)施例3除了實(shí)施例1中的A液(硬涂層形成用涂布液)的制備按如下改變以外，與實(shí)施例l同樣實(shí)施。<A液的制備>在100重量份多官能丙烯酸酯混合物[荒川化學(xué)(抹)制造，商品名"匕、一厶七、;/卜577CB",固體成分濃度100%]中，添加2重量份光聚合引發(fā)劑7^、乂亇^亍^f.，^力/kX社制，商品名"一/P^f年工7907"]，接著，在混合300重量份近紅外線吸收劑[住友金屬礦山(抹)制造，商品名"YMF-01"、含銫氧化鴒(相對于鵠，含有33moin/。4色)含量10重量％懸濁液，全部固體成分濃度14重量％],并添加5重量份作為防眩光性賦予劑的二氧化硅顆粒[東y—.、乂y力(抹)制造，商品名"-y:/、>一e-200",平均粒徑3pm]后，用MIBK稀釋，使得全部固體成分濃度為30重量％,制備A液(硬涂層形成用涂布液)。由此制備的防反射薄膜的物性在表1中示出。該防反射薄膜在波長850~1000nm的全部區(qū)域中的透過率為30%以下。另夕卜，硬涂層的折射率為1.53。比專交例1除了在實(shí)施例l(l)中A液的制造中，不使用近紅外線吸收劑以外，與實(shí)施例1同樣進(jìn)行，制備防反射薄膜。硬涂層的折射率為1.53。由此制備的防反射薄膜的物性在表1中示出。比較例2除了在實(shí)施例l(l)中A液的制造中，將光聚合物引發(fā)劑/P;tf年工7907"的使用量改變?yōu)?重量份以外，與實(shí)施例1(1)同樣，制備硬涂層形成用涂布液。然后，作為基材薄膜，在厚度100pm的PET薄膜"A4300"(前述)的表面上，用7<亇一A—No.16涂布上述硬涂層形成用涂布液，使得固化后的厚度為6pm。然后，在9(TC下干燥1分鐘后，以光量250mJ/cn^照射紫外線以完全固化，制備硬涂層薄膜。由此制備的硬涂層薄膜的物性在表1中示出。<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>由表1看出，本發(fā)明的防反射薄膜(實(shí)施例13)均防反射性優(yōu)異，且近紅外線吸收性優(yōu)異，耐擦傷性也優(yōu)異。此外，實(shí)施例3由于在硬涂層中含有防眩光性賦予劑，因此60。光澤度值為58。與此相對，比較例1由于在硬涂層中不含有近紅外線吸收劑，因此沒有賦予近紅外線吸收性能。此外，比較例2由于沒有設(shè)置低折射率層，因此防反射性劣化。工業(yè)上的可利用性本發(fā)明的防反射薄膜具有近紅外線吸收性能和防反射性能，且耐擦傷性優(yōu)異，層結(jié)構(gòu)簡單且成本低廉，特別適合作為PDP用。權(quán)利要求1.一種防反射薄膜，其特征在于在基材薄膜的一面上，依次層疊(A)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂和近紅外線吸收劑的厚度為2～20μm的硬涂層、和(B)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂、折射率為1.43以下、厚度為50～200nm的低折射率層，且至少在波長850～1000nm的全部區(qū)域中透過率為30％以下。2.如權(quán)利要求l所述的防反射薄膜，其特征在于，(A)層中的近紅外線吸收劑是氧化鵠類化合物。3.如權(quán)利要求2所述的防反射薄膜，其特征在于，氧化鴒類化合物是含銫氧化鎢。4.如權(quán)利要求1~3任一項(xiàng)所述的防反射薄膜，其特征在于，在一種的填料。5.如權(quán)利要求14任一項(xiàng)所述的防反射薄膜，其特征在于，(B)層包含30-80重量％多孔性二氧化硅。6.如權(quán)利要求15任一項(xiàng)所述的防反射薄膜，其特征在于，在基材薄膜的另一面具有厚度5~50pm的粘合劑層。7.用于等離子體顯示器的上述權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的防反射薄膜。全文摘要本發(fā)明涉及一種防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次層疊(A)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂和含有近紅外線吸收劑、厚度為2～20μm的涂層、和(B)包含通過活性能量線照射形成的固化樹脂、折射率為1.43以下、厚度為50～200nm的低折射率層，且至少在波長850～1000nm的全部區(qū)域中透過率為30％以下。上述薄膜具有近紅外線吸收性能和防反射性能，且耐擦傷性優(yōu)異，尤其是可以適合用作PDP用，且層結(jié)構(gòu)簡單，可以通過濕式處理法低成本地制造。文檔編號B32B27/18GK101107543SQ20068000278公開日2008年1月16日申請日期2006年1月18日優(yōu)先權(quán)日2005年1月20日發(fā)明者小泉伸,所司悟申請人:琳得科株式會社