專利名稱：微波處理裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及微波處理裝置，特別是涉及使用了微波照射機構的微 波處理裝置的改進。
背景技術：
以往，作為使用了微波照射機構的微波處理裝置，除微波爐以外， 還有本案申請人先前提出的有害物質的微波處理裝置(日本特愿
2005-353936)等。
但是，在容量大的微波處理裝置中，形成在筐體具有檢修蓋的檢 修O 。
通常，檢修口和檢修蓋是通過采用使檢修口的緣部和檢修蓋直接 金屬接觸的金屬接觸構造，來使電磁波不會從檢修口的緣部和檢修蓋 的間隙泄漏。
但是，雖然在使檢修口的緣部和檢修蓋為金屬接觸構造的情況下， 能夠防止電磁波的泄漏，然而，反之，象本案申請人先前提出的有害 物質的微波處理裝置那樣，在因處理時產生的蒸汽等造成筐體內部的 壓力上升的微波處理裝置中，存在筐體內部的氣體容易從檢修口的緣 部和檢修蓋的微小間隙泄漏的問題。
本發明借鑒了上述以往的微波處理裝置所具有的問題點，其目的 在于，提供一種能夠使電磁波以及筐體內部的氣體不會從檢修口的緣 部和檢修蓋的間隙泄漏的微波處理裝置。
發明內容
為了達到上述目的，本發明的微波處理裝置具有導入處理對象物 的筐體，和配設在該筐體的恰當部位的微波照射機構，在筐體形成具 有檢修蓋的檢修口，其特征在于，在檢修口的緣部和檢修蓋之間配置 密封部件，并且，使檢修口的緣部和檢修蓋為金屬接觸構造。在該情況下，可以使檢修口的緣部和檢修蓋直接金屬接觸。
另外，密封部件可以使用金屬類密封部件。
發明效果
根據本發明的微波處理裝置，在具有導入處理對象物的筐體和配 設在該篋體的恰當部位的微波照射機構，在篋體形成具有檢修蓋的檢 修口的微波處理裝置中，在檢修口的緣部和檢修蓋之間配置密封部件， 并且，使檢修口的緣部和檢修蓋為金屬接觸構造，據此，通過金屬接 觸構造，使電磁波不會從檢修口的緣部和檢修蓋的間隙泄漏，同時， 通過在檢修口的緣部和檢修蓋之間配置的密封部件，可以使篋體內部 的氣體不會從檢修口的緣部和檢修蓋的間隙泄漏。
另外，通過使檢修口的緣部和檢修蓋直接金屬接觸，可以切實地 使電磁波不會從檢修口的緣部和檢修蓋的間隙泄漏。
另外，密封部件可以使用金屬類密封部件，據此，可以提高針對 高溫的氣體的耐久性。
圖l表示本發明的微波處理裝置的一個實施例，(a)是正視圖， (b)是俯視圖。
圖2是表示具有檢修蓋的檢修口的剖視圖，(a)是整體的剖視圖， (b)是主要部位的剖視圖。 符號說明
1 筐體
2 微波照射機構
3 檢修口
31檢修口的凸緣部(檢修口的緣部)
4 檢修蓋
5 密封部件
具體實施例方式
下面，根據附圖，說明本發明的微波處理裝置的實施方式。實施例1圖1~圖2表示本發明的微波處理裝置的一個實施例。
該微波處理裝置是用于進行有機卣化合物等的有害物質的處理的 裝置，具有作為將附著、吸附著有機g化合物等的有害物質的固體(例 如集塵灰等的粉體、污染土壤、河底的底質等)導入的密封容器而構 成的篋體l，以及將微波向導入到該氳體1內的附著、吸附著有害物 質的固體照射的、配設在筐體1的恰當部位的微波照射機構2，在筐 體1的恰當部位形成具有檢修蓋4的檢修口 3。
在該情況下，如圖2所示，在檢修口3的緣部，本實施例中是在 檢修口 3的凸緣部31和檢修蓋4之間配置密封部件5，并且，使檢修 口 3的凸緣部31和檢修蓋4為金屬接觸構造。
因此，在本實施例中，在檢修口 3的凸緣部31(以及/或者與凸緣 部31相對的檢^^蓋4 )形成周槽狀的密封部件5的嵌入槽32，在將密 封部件5嵌入該嵌入槽32的狀態下，借助任意的連接部件6，將檢修 蓋4安裝到檢修口 3的凸緣部31，此時，密封部件5完全進入嵌入槽 32,檢修口 3的凸緣部31和檢修蓋4直接金屬接觸，據此，電磁波不 會從檢修口 3的凸緣部31和檢修蓋4的間隙泄漏。
在該情況下，確定嵌入槽32和密封部件5的尺寸以及形狀，以便 能夠通過完全進入到嵌入槽32的密封部件5，切實地防止氣體從檢修 口 3的凸緣部31和檢修蓋4的間隙泄漏。
另外，密封部件雖然可以使用O形環等的通用的密封部件，但適 合使用針對高溫的氣體具有耐久性的金屬類、硅樹脂類、氟樹脂類等 的密封部件。
特別是通過使用不銹鋼制、鉻鎳鐵合金制等的金屬類的密封部件， 例如金屬中空O形環(霓佳斯林式會社制)，能夠提高針對高溫的氣 體的耐久性，在此基礎上，即使是在檢修口 3的凸緣部31和檢修蓋4 不是直接金屬接觸的情況下，因為密封部件本身具有防止電磁波的泄 漏的功能，所以，也能實現檢修口 3的凸緣部31和檢修蓋4的、借助 了密封部件的間接的金屬接觸構造。
另外，雖然在本實施例中是在篋體l的下部形成檢修口 3，但是，形成檢修口 3的位置可根據檢修口 3的用途等恰當地變更。
另外，檢修口 3的形狀不限于本實施例的圓形，可以是矩形等任 意的形狀。
另外，雖然在本實施例中，檢修蓋4使用不銹鋼制等的金屬制的 檢修蓋，以便與檢修口 3的凸緣部31金屬接觸，但是，也可以通過使 用例如因將玻璃板和沖壓金屬等的多孔金屬板疊層配置，而具有防止 電磁波的泄漏功能和透視功能的部件，來使檢修蓋4具有檢修窗的功 能，本發明并不將此排除在外。
該微波處理裝置具有導入處理對象物的筐體1和配設在該筐體1 的恰當部位的微波照射機構2，在篋體1形成具有檢修蓋4的檢修口 3， 在檢修口 3的緣部和檢修蓋4之間配置密封部件5，并且，使檢修口 3 的緣部和檢修蓋4為金屬接觸構造，據此，使電磁波不會從檢修口 3 的緣部和檢修蓋4的間隙泄漏，同時，通過在檢修口 3的緣部和檢修 蓋4之間配置的密封部件5，可以使篋體1內部的氣體不會從檢修口 3 的緣部和檢修蓋4的間隙泄漏，能夠成為安全性高的微波處理裝置。
以上，根據該實施例，對本發明的微波處理裝置進行了說明，但 是，本發明并不被限定在上述實施例記載的構成，可以在不脫離其主 旨的范圍內，恰當地對該構成進行變更。
產業上利用的可能性
由于本發明的微波處理裝置具有能夠使電磁波以及筐體內部的氣 體不會從檢修口的緣部和檢修蓋的間隙泄漏的特性，所以，能夠廣泛 地應用在以用于對有機卣化合物等的有害物質進行處理的裝置為主的 微波處理裝置中。
權利要求
1.一種微波處理裝置，該微波處理裝置具有導入處理對象物的筐體，和配設在該筐體的恰當部位的微波照射機構，在筐體形成具有檢修蓋的檢修口，其特征在于，在檢修口的緣部和檢修蓋之間配置密封部件，并且，使檢修口的緣部和檢修蓋為金屬接觸構造。
2. 如權利要求l所述的微波處理裝置，其特征在于，使檢修口的 緣部和檢修蓋直接金屬接觸。
3. 如權利要求1或2所述的微波處理裝置，其特征在于，密封部 件由金屬類密封部件構成。
全文摘要
本發明提供一種能夠使電磁波以及筐體內部的氣體不會從檢修口的緣部和檢修蓋的間隙泄漏的微波處理裝置。本發明中，一種微波處理裝置具有導入處理對象物的筐體1，和配設在該筐體1的恰當部位的微波照射機構2，在筐體1形成具有檢修蓋4的檢修口3，在檢修口3的緣部和檢修蓋4之間配置密封部件5，并且，使檢修口3的緣部和檢修蓋4為金屬接觸構造。
文檔編號A62D3/178GK101306236SQ200810095470
公開日2008年11月19日 申請日期2008年4月23日 優先權日2007年5月14日
發明者辰巳道雄 申請人:日本斯頻德制造株式會社