一種土木施工用基釬的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及土木施工設備技術領域，具體是涉及一種土木施工用基釬。
【背景技術】
[0002]在基礎設施施工、土木建設施工、地質測繪測量工作中，需要大量的、繁瑣而又必須的水平測量工作。通常在測定基礎高度一致性時，用大量的木楔、鐵楔，用以支撐測定標尺，標定水平基準等。這些木楔、鐵楔一般是需要工作人員人工用鐵錘垂直擊打砸入測定基面內，但施工中木楔、鐵楔往往存在下移垂直誤差，不便校核。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種便于校核擊打垂直度的土木施工用基釬，以提高垂直下移精度。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型提供以下技術方案:一種土木施工用基釬，包括用于插入基面的釬體，所述釬體外壁沿軸線方向設置有刻度，所述釬體一端設置有錐形尖端、另一端設置有方頭，所述釬體上滑動設置有水平基準尺，還包括有固定設置于基面于上的校正盤，所述校正盤中心處設置有標識空點，所述水平基準尺底面設置有激光器，所述激光器對應位于標示空點正上部，所述激光器為點狀激光器。
[0005]在上述方案基礎上優選，所述水平基準尺一端固定連接有套筒，套筒滑動連接地套于釬體上，套筒側面上設有用于緊固的螺栓。
[0006]在上述方案基礎上優選，所述水平基準尺上設置有刻度。
[0007]本實用新型與現有技術相比具有的有益效果是:本實用新型提供的基釬，其在水平基準尺底面設激光器，在基面上設校正盤，激光器垂直向下發出激光線照射在校正盤的標示空點上，能夠實現對釬體下移過程中垂直度的核對，提高精度。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型結構示意圖；
[0009]圖2為本實用新型校正盤俯視圖。
[0010]圖中標號為:1_釬體，2-錐形尖端，3-方頭，4-水平基準尺，5-套筒，6-螺栓，7-校正盤，8-標識空點，9-激光器。
【具體實施方式】
[0011]為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0012]在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。
[0013]參照圖1和圖2可知，一種土木施工用基釬，包括用于插入基面的釬體1，所述釬體1外壁沿軸線方向設置有刻度，所述釬體1 一端設置有錐形尖端2、另一端設置有方頭3，所述釬體1上滑動設置有水平基準尺4，所述水平基準尺4上設置有刻度，所述水平基準尺4一端固定連接有套筒5，套筒5滑動連接地套于釬體1上，套筒5側面上設有用于緊固的螺栓6。還包括有固定設置于基面于上的校正盤7，所述校正盤7中心處設置有標識空點8，所述水平基準尺4底面設置有激光器9，所述激光器9對應位于標示空點8正上部，所述激光器9為點狀激光器。
[0014]使用時，將錐形尖端2垂直插入基面內，調節套筒5至所需高度然后鎖緊螺栓6，校正激光器9的激光線與校正盤7的標識空點8正對應即可。本實用新型提供的基釬，其在水平基準尺4底面設激光器9，在基面上設校正盤7，激光器9垂直向下發出激光線照射在校正盤7的標示空點8上，能夠實現對釬體1下移過程中垂直度的核對，提高精度。
[0015]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種土木施工用基釬，包括用于插入基面的釬體，所述釬體外壁沿軸線方向設置有刻度，所述釬體一端設置有錐形尖端、另一端設置有方頭，所述釬體上滑動設置有水平基準尺，其特征在于:還包括有固定設置于基面于上的校正盤，所述校正盤中心處設置有標識空點，所述水平基準尺底面設置有激光器，所述激光器對應位于標示空點正上部，所述激光器為點狀激光器。2.根據權利要求1所述的一種土木施工用基釬，其特征在于:所述水平基準尺一端固定連接有套筒，套筒滑動連接地套于釬體上，套筒側面上設有用于緊固的螺栓。3.根據權利要求1所述的一種土木施工用基釬，其特征在于:所述水平基準尺上設置有刻度。
【專利摘要】本實用新型涉及一種土木施工用基釬，包括用于插入基面的釬體，所述釬體外壁沿軸線方向設置有刻度，所述釬體一端設置有錐形尖端、另一端設置有方頭，所述釬體上滑動設置有水平基準尺，還包括有固定設置于基面于上的校正盤，所述校正盤中心處設置有標識空點，所述水平基準尺底面設置有激光器，所述激光器對應位于標示空點正上部，所述激光器為點狀激光器。本實用新型能夠實現對釬體下移過程中垂直度的核對，提高精度。
【IPC分類】E02D33/00, E02D1/00
【公開號】CN205012378
【申請號】CN201520768658
【發明人】張智鈞, 林曉東, 常繼峰
【申請人】哈爾濱學院
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年9月25日