一種基坑圍護樁樁頂水平位移監測裝置及監測方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種監測裝置及監測方法，尤其涉及一種基坑圍護粧的位移監測裝置及監測方法。
【背景技術】
[0002]目前，圍護粧粧頂水平位移是深部基坑開挖及使用過程中的重要指標，直接影響著基坑壁、道路、管線的安全和穩定。由于新建基坑周圍建筑物密集，采用常規的全站儀監測方法，由于監測基點、工作基點和監測測點建立困難和通視性差，很難獲得滿足精度的圍護粧體的水平位移監測成果，難以及時準確地評價基坑壁及周邊環境的穩定性和安全性。
【發明內容】
[0003]為解決現有技術存在的缺陷，本發明的目的是提供一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測裝置及監測方法，解決現有的常規基坑圍護粧粧頂水平位移監測方法中監測基點、工作基點和監測測點布設困難和通視性差的問題。
[0004]本發明的技術方案是:一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測裝置，待測粧頂冠梁上設有固定錨栓，支架通過固定錨栓固定于待測粧頂冠梁上，所述支架上設有運算處理器，激光發生器和激光接收器通過夾具固定于支架上，待測粧頂冠梁位于待測基坑圍護粧頂部；
[0005]參考粧頂冠梁位于參考圍護粧頂部，所述參考粧頂冠梁上以及參考圍護粧上設有與激光發生器向配合的反射貼片。
[0006]—種基坑圍護粧粧頂水平位移監測方法，包括以下步驟:
[0007]a)在待測基坑圍護粧的頂冠梁上安裝激光發生器；
[0008]b)在參考圍護粧的頂冠梁上與激光發生器同一高程內和參考圍護粧上分別安裝有與激光發生器相配合的反射貼片；
[0009]c)測量激光發生器到反射貼片間的距離:激光發生器產生高精度激光束，經反射貼片反射到激光接收器中，再傳遞到運算處理器，并記錄距離測試結果；
[0010]d)根據基坑開挖深度，確定監測頻率，重復步驟C)，反復監測激光發生器到反射貼片間的距離，并記錄測試結果；
[0011]e)比對相鄰兩次的監測結果，取最大差值作為位移測試結果。
[0012]本發明的有益效果是:在基坑灌注粧冠梁位置角點同一高程內設置位移監測點；水平面內，利用臨兩邊和對邊的圍護粧粧頂的監測點，進行測試，得出監測距離；豎直平面內，利用基坑對面的圍護粧縱向監測點，測試得出距離，通過比較，取得相對位移較大的作為該點的水平位移；由于各個監測點和固定支架直接安裝在冠梁和圍護粧上，可以在灌注施工時實現基準點留設，可以實現精準定位;監測過程在基坑冠梁上實現，不設置常規的監測基點，不存在通視問題，達到了準確測量基坑圍護粧粧體水平位移的目的，克服和避免常規的基坑水平位移測量過程中設置基準點困難、通視性差的難題，不受基坑周邊環境限制，監測過程簡單，監測精度高。
【附圖說明】
[0013]本發明共有附圖4幅。
[0014]圖1為本發明的原理圖；
[0015]圖2為本發明的局部放大圖；
[0016]圖3為實施例1的監測原理圖；
[0017]圖4為實施例2的監測原理圖。
[0018]圖中附圖標記如下:1、待測基坑圍護粧，2、待測粧頂冠梁，3、固定錨栓，4、支架，5、夾具，6、激光發生器，7、運算處理器，8、激光接收器，9、發生激光束，10、反射貼片，11、反射激光束，12、參考粧頂冠梁，13、參考圍護粧。
【具體實施方式】
[0019]下面結合附圖1-4對本發明做進一步說明:
[0020]如圖1、2所示，一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測裝置，待測粧頂冠梁2上設有固定錨栓3，支架4通過固定錨栓3固定于待測粧頂冠梁2上，所述支架4上設有運算處理器7，激光發生器6和激光接收器8通過夾具5固定于支架4上，待測粧頂冠梁2位于待測基坑圍護粧I頂部；
[0021]參考粧頂冠梁12位于參考圍護粧13頂部，所述參考粧頂冠梁12上以及參考圍護粧13上設有與激光發生器6向配合的反射貼片10。
[0022]一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測方法，包括以下步驟:
[0023]a)在待測基坑圍護粧I的頂冠梁上安裝激光發生器6;
[0024]b)在參考粧頂冠梁12上與激光發生器6同一高程內和參考圍護粧13上分別安裝有與激光發生器6相配合的反射貼片10;
[0025]c)測量激光發生器6到反射貼片10間的距離:激光發生器6產生高精度激光束，經反射貼片10反射到激光接收器8中，再傳遞到運算處理器7，并記錄距離測試結果；
[0026]d)根據基坑開挖深度，確定監測頻率，重復步驟c，反復監測激光發生器6到反射貼片10間的距離，并記錄測試結果；
[0027]e)比對相鄰兩次的監測結果，取最大差值作為位移測試結果。
[0028]所述監測頻率具體為:基坑深度小于5米時，2天測一次，基坑深度大于等于5米且小于1米時，I天測一次，基坑深度大于等于1米時，I天測兩次。
[0029]實施例1
[0030]如圖3所示，將臨近7米深基坑邊緣的A、B、C、D四點上的圍護粧作為參考圍護粧13，H點的圍護粧為待測基坑圍護粧I，則H點的待測基坑圍護粧水平位移監測方法如下:
[0031]a)在待測基坑圍護粧I的頂冠梁上安裝激光發生器6;
[0032]b)在參考粧頂冠梁12上與激光發生器6同一高程內和參考圍護粧13上分別安裝有與激光發生器6相配合的反射貼片10;
[0033]c)分別量測H點的激光發生器6到D、G、F、E、A的反射貼片10間的距離，再將數據信息傳遞到運算處理器7，并記錄距離測試結果；
[0034]d)—天監測一次激光發生器6到個點反射貼片10間的距離，并記錄測試結果；
[0035]e)比對相鄰兩次相應兩點的監測結果，取最大差值作為位移測試結果。
[0036]實施例2
[0037]如圖4所示，M、N兩點相對位于12米深基坑邊緣，NA上的圍護粧作為參考圍護粧13，M點的圍護粧為待測基坑圍護粧I，M點的待測基坑圍護粧水平位移監測方法如下:
[0038]a)在待測基坑圍護粧I的頂冠梁上安裝激光發生器6;
[0039]b)參考粧頂冠梁12上與激光發生器6同一高程內的N點安裝一個反射貼片10，參考圍護粧上兩個不同高度點1、J處分別安裝反射貼片10;
[0040]c)分別量測M點的激光發生器6到1、J的反射貼片10間的距離，再將數據信息傳遞到運算處理器7，并記錄距離測試結果；
[0041]d)—天監測兩次激光發生器6到個點反射貼片10間的距離，并記錄測試結果；
[0042]e)比對相鄰兩次相應兩點的監測結果，取最大差值作為位移測試結果。
[0043]以上所述僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變型，這些改進和變型也應視為本發明的保護范圍。
【主權項】
1.一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測裝置，其特征在于，待測粧頂冠梁(2)上設有固定錨栓(3)，支架(4)通過固定錨栓(3)固定于待測粧頂冠梁(2)上，所述支架(4)上設有運算處理器(7)，激光發生器(6)和激光接收器(8)通過夾具(5)固定于支架(4)上，待測粧頂冠梁(2)位于待測基坑圍護粧(I)頂部； 參考粧頂冠梁(12)位于參考圍護粧(13)頂部，所述參考粧頂冠梁(12)上以及參考圍護粧(13)上設有與激光發生器(6)向配合的反射貼片(10)。2.一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測方法，其特征在于，包括以下步驟: a)在待測基坑圍護粧(I)的頂冠梁上安裝激光發生器(6); b)在參考粧頂冠梁(12)上與激光發生器(6)同一高程內和參考圍護粧(13)上分別安裝有與激光發生器(6)相配合的反射貼片(10); c)測量激光發生器(6)到反射貼片(10)間的距離:激光發生器(6)產生高精度激光束，經反射貼片(10)反射到激光接收器8中，再傳遞到運算處理器(7)，并記錄距離測試結果； d)根據基坑開挖深度，確定監測頻率，重復步驟C，反復監測激光發生器(6)到反射貼片(10)間的距離，并記錄測試結果； e)比對相鄰兩次的監測結果，取最大差值作為位移測試結果。3.根據權利要求2所述的一種基坑圍護粧粧頂水平位移監測方法，其特征在于，所述監測頻率具體為:基坑深度小于5米時，2天測一次，基坑深度大于等于5米且小于10米時，I天測一次，基坑深度大于等于1米時，I天測兩次。
【專利摘要】本發明公開了一種基坑圍護樁樁頂水平位移監測裝置及監測方法；待測樁頂冠梁上設有固定錨栓，支架通過固定錨栓固定于待測樁頂冠梁上，所述支架上設有運算處理器，激光發生器和激光接收器通過夾具固定于支架上，待測樁頂冠梁位于待測基坑圍護樁頂部；參考樁頂冠梁位于參考圍護樁頂部，所述參考樁頂冠梁上以及參考圍護樁上設有與激光發生器向配合的反射貼片。本發明的有益效果是：克服和避免常規的基坑水平位移測量過程中設置基準點困難、通視性差的難題，不受基坑周邊環境限制，監測過程簡單，監測精度高。
【IPC分類】E02D33/00
【公開號】CN105586994
【申請號】CN201610003999
【發明人】李金奎, 李霞
【申請人】大連大學
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2016年1月4日