專利名稱：一種沖壓模具及用該模具模壓的計算機用玻璃基片的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種沖壓計算機存貯器用硬盤的玻璃基片的模具，以及用該模具沖壓的計算機存貯器用模壓玻璃基片。
迄今為止，通常使用由涂覆磁性材料的鋁基片制成的硬盤。但是，由于需要很多研磨加工以得到特定的鋁基片表面粗糙度，因而制造成本高。
出于上述考慮，本發明的目的是提供一種沖壓模具，它能得到特定的表面粗糙度，還提供了用該沖壓模具沖壓的計算機存貯器裝置用的玻璃基片，它們的成本均低。
依據本發明，盡管涂覆有石墨或非晶型碳的金屬模具具有所需要的平整度，但是在涂覆碳之前還是要在超硬模具材料表面注入氮離子，并將模具的表面層改性。
根據該方法，可以增強碳在模具上的粘附性，因而可大大提高模具的壽命。
在本發明中，至少在表面的0.5μm深度內注入離子，然后再于該離子注入表面上涂覆0.1-1μm厚的碳涂層。另外，將表面處理以使平整度達到2/1000-8/1000。
另外，依據本發明，用金屬模具模壓用于計算機存貯器用玻璃基片的玻璃板，該金屬模具表面通過注入離子然后涂覆石墨或非晶金剛石型碳而得到改性。
圖1表示計算機存貯器用玻璃基片，它是用本發明的金屬模具模壓的。
下面詳述本發明的實施方案。這里，通過離子注入例如氮原子的離子注入，隨后涂覆石墨或非晶金剛石型碳，將表面平整度大于8/1000的由超硬材料制成的金屬模具改性以在表面層上形成高斯分布。
即，通過離子注入在超硬合金表面的至少0.5μm深度內形成離子注入層，然后，在該離子注入層上形成厚度為0.1-1μm的碳涂層，再將最后一層表面修平以保持平整度為2/1000-8/1000。
通過使用本發明的金屬模具，可以模壓附圖所示的計算機存貯器用的玻璃基片1。
在離子注入方法中使用高頻放電(105-107Hz)，通過保持離子化電流為10mA，離子輻射劑量為100劑量，溫度為300-500℃，時間為10-40秒，可以將離子注入到表面層的至少為0.5μm的深度內，然后在該金屬模具的離子注入層上涂覆非晶金剛石型碳，厚度為0.1-1μm。
例如，如果用本發明的金屬模具沖壓約63mmφ的玻璃板，首先將預成形為圓盤的玻璃板加熱到玻璃材料的軟化溫度，然后將該加熱的玻璃板裝入加熱至相同溫度的金屬模具中，之后進行沖壓。沖壓之后，將沖壓的玻璃板在15-20分鐘內逐漸冷卻并冷至室溫。盡管進行了100,000次這種沖壓操作，也沒有觀察到碳涂層從金屬模具表面剝落。由這種實際的結果可以看出本發明的效果。
該金屬模具的壽命明顯提高的原因看來是由于通過將玻璃溫度與模具溫度保持一致，減少了金屬模具的疲勞，還由于離子輻射改善了金屬模具的剝落性能。
如上詳述，在本發明中，在涂覆碳之前，通過離子注入使金屬模具的成型表面在表面層上得到改性，之后，這可以大大地提高碳涂層在金屬模具上的粘附性，并提高金屬模具的壽命，而且省去了沖壓產品的拋光步驟，這是因為模壓的玻璃板具有高等級的平整度。
在用本發明的模具得到玻璃基片后，用磁性材料涂覆該玻璃基片的表面。
權利要求
1，一種用于沖壓計算機存貯器用模壓玻璃基片的金屬模具，其中通過用碳涂覆由超硬材料制成的所述模具表面來保證所需的平整度，其特征在于在涂覆碳涂層之前對所述金屬模具的所述表面進行離子注入并使所述表面層改性。
2，權利要求1的用于沖壓計算機存貯器用模壓玻璃基片的金屬模具，其中對所述模具的所述表面進行了深達所述表面層至少0.5μm的離子注入。
3，權利要求1的用于沖壓玻璃基片的金屬模具，其中在所述離子注入層上的碳涂層為0.1-1μm厚。
4，用作計算機存貯器玻璃基片的模壓玻璃板，用由超硬材料制成的金屬模具沖壓成型，通過在金屬模具表面涂覆碳涂層使所述的金屬模具具有所需的平整度，所述表面在涂覆碳涂層之前進行離子注入而被改性。
全文摘要
在涂覆碳涂層之前，通過在超硬材料制成的金屬模具的成型表面注入離子，可增加碳涂層在模具材料表面的粘附性，并提高模具的壽命。在金屬沖壓模具中，通過在表面涂覆碳涂層保證具有所需的平整度，該模具的特征在于在涂覆碳涂層之前通過離子注入使成型表面的表面層改性。
文檔編號C03B40/02GK1147983SQ9611335
公開日1997年4月23日 申請日期1996年8月29日 優先權日1995年8月29日
發明者坂本恭章 申請人:坂本恭章