一種凹面磚的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種凹面磚，包括裝飾層、基層和背花，所述的裝飾層覆蓋在基層上，所述的背花設置在基層的另一面，所述的裝飾層和基層具有向背花方向下凹的凹面，所述裝飾層和基層的凹面底部與頂部之間形成光滑過渡的斜面，所述斜面與凹面底部形成的角度為110-120度。本實用新型通過對現有磚進行形狀改進，實現了磚的凹面結構，使磚在使用時不會出現一個倒三角形的凹縫，清潔更加容易，另外避免了凸面結構，使磚在運輸過程中不需要特別的包裝也不會對裝飾面造成磨花。
【專利說明】-種凹面磚
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及裝飾磚領域。
【背景技術】
[0002] 隨著社會的發展，人們生活水平的提高，人們對于家裝的審美也在提高，雖然國內 小規格內墻磚種類也很多，但是卻越來越不能滿足人們日益增長的需要。目前市場上出現 的一種磚，由于形狀類似中國結，受到市場極大的歡迎。但是，市場上這種磚的橫截面為凸 面，在使用時，磚之間或磚與其他磚之間粘合后，磚與磚之間會出現一個倒三角形的凹縫， 使之不易清潔。此外，凸面的磚在運輸時，表面的裝飾層容易磨花，需要做特殊的包裝防護。 實用新型內容
[0003] 針對現有技術的上述缺陷和問題，本實用新型目的是提供一種凹面磚，磚面具有 凹面，實現了磚面的容易清潔，同時使運輸過程中不需要特別地包裝保護。
[0004] 為了達到上述目的，本實用新型采用以下技術方案實現：
[0005] -種凹面磚，包括裝飾層、基層和背花，所述的裝飾層覆蓋在基層上，所述的背 花設置在基層的另一面，所述的裝飾層和基層具有向背花方向下凹的凹面，所述裝飾層 和基層的凹面底部與頂部之間形成光滑過渡的斜面，所述斜面與凹面底部形成的角度為 110-120 度。
[0006] 進一步的技術方案，所述裝飾層和基層的凹面底部與頂部的距離為3_4mm。
[0007] 進一步的技術方案，所述凹面磚的裝飾層凹面頂部到背花底部為8_9mm，凹面底 部到背花底部為4-5mm。
[0008] 進一步的技術方案，所述凹面磚的凹面頂部與側面邊沿所處的平面形成倒圓角， 倒圓角半徑為6-10mm。
[0009] 進一步的技術方案，所述凹面磚經過對稱軸的橫截面中，所述凹面頂部所處的平 面與側面邊沿所處的平面形成45-65度的角度。
[0010] 本實用新型通過對現有葉子磚進行形狀改進，實現了葉子磚的凹面結構，使磚在 使用時不會出現一個倒三角形的凹縫，清潔更加容易，另外避免了凸面結構，使磚在運輸過 程中不需要特別的包裝也不會對裝飾面造成磨損。另外，本實用新型所提供的凹面磚雖然 磚的厚度不一致，但是由于其凹面的深度以及底部角度的設計，使其在燒制時也不會出現 裂紋。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011] 為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案，下面將對實施例描述中所需要 使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一個實施 例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖 獲得其他的附圖。
[0012] 圖1是本實用新型的主視圖。
[0013] 圖2是本實用新型的A-A剖面示意圖。
[0014] 圖3是目前市場上葉子磚的俯視圖。
[0015] 其中：1、凹面，2、裝飾層，3、基層，4、背花。
【具體實施方式】
[0016] 下面將結合本實用新型的附圖，對本實用新型的技術方案進行清楚、完整地描述， 顯然，所描述的實施例僅是本實用新型一個實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型 中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施 例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0017] 根據圖1和2所示，本實用新型是一種凹面磚，包括裝飾層、基層和背花，所述的裝 飾層覆蓋在基層上，所述的背花設置在基層的另一面，所述凹面磚的正面呈中國結的形狀， 所述的裝飾層和基層具有向背花方向下凹的凹面，所述凹面也呈現中國結的形狀。裝飾層 和基層的凹面底部與頂部之間形成光滑過渡的斜面，所述斜面的角度為110-120度。凹面 磚的正面與側面邊沿形成倒圓角，其半徑為6-10mm，角度為45-65度。裝飾層和基層所形成 的凹面底部與頂部的距離為3-4mm。所述凹面磚的裝飾層凹面頂部到背花底部為8-9mm，凹 面底部到背花底部為4-5mm。按照本實用新型設計的凹面磚，雖然磚的厚度不一致，在燒制 時也不會造成坯裂的現象。
[0018] 如圖3為市場上已有的葉子磚的俯視圖，整個葉子磚為凸面結構，本實用新型則 創造性地還提供一種凹面磚，不僅使磚面的清潔更加容易，使磚在運輸過程中不需要特別 的包裝也不會對裝飾面造成磨花，而且滿足了市場上對這種特殊形狀瓷磚的美觀上的需 求。
[0019] 以上所述，僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范圍并不局限 于此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內，可輕易想到變化 或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。因此，本實用新型的保護范圍應所述以權 利要求的保護范圍為準。
【權利要求】
1. 一種凹面磚，包括裝飾層、基層和背花，其特征在于：所述的裝飾層覆蓋在基層上， 所述的背花設置在基層的另一面，所述的裝飾層和基層具有向背花方向下凹的凹面，所述 裝飾層和基層的凹面底部與頂部之間形成光滑過渡的斜面，所述斜面與凹面底部形成的角 度為110-120度。
2. 根據權利要求1所述的凹面磚，其特征在于：所述裝飾層和基層的凹面底部與頂部 的距離為3-4mm。
3. 根據權利要求1或2所述的凹面磚，其特征在于：所述凹面磚的裝飾層凹面頂部到 背花底部為8-9mm，凹面底部到背花底部為4-5mm。
4. 根據權利要求1或2所述的凹面磚，其特征在于：所述凹面磚的凹面頂部與側面邊 沿所處的平面形成倒圓角，倒圓角半徑為6-10_。
5. 根據權利要求1或2所述的凹面磚，其特征在于：所述凹面磚經過對稱軸的橫截面 中，所述凹面頂部所處的平面與側面邊沿所處的平面形成45-65度的角度。
【文檔編號】E04F13/077GK203891382SQ201320727631
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2013年11月14日 優先權日:2013年11月14日
【發明者】鄧世杰 申請人:天津貝利泰陶瓷有限公司