光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法
【專利摘要】本發明涉及一種光激發高活性多維結構納米陶瓷片，其特征在于：原料配方：按質量的百分比取原料：工業廢料30～80%、礦物原材料5～30%、高嶺土10～50%，其化學成分的百分比為：二氧化硅60～80%、三氧化二鋁8～20%、氧化鈣0.5～3%、氧化鎂1～3%；制備光激發高活性多維結構納米陶瓷片，采用：混料制漿→骨架成型→定型烘干→高溫燒成→催化液噴刷→定溫烘干→產品檢驗→包裝出廠的工藝步驟。本發明可有效分解TVOC、VOC幾乎全部氣體污染物，能將污染物迅速分解成無毒害的清潔氣體，并能有效避免使用過濾耗材二次污染問題，對污染環境空氣凈化、VOC達標排放、清除PM2.5污染、殺滅細菌、病毒，具有無可比擬的能力。
【專利說明】光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于環保、建筑材料【技術領域】，特別涉及一種光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法。
【背景技術】
[0002]目前，在現有技術中對氣體污染尤其是對TVOC、VOC的氣體污染，傳統采用更換過濾耗材或采用表面噴涂的方法解決，存在:使用壽命短、易產生二次污染、污染后耗材的環保處理等問題，更重要的是不能從根本上徹底消除污染。
【發明內容】
[0003]本發明克服了上述存在的缺陷，目的是解決了能夠有效分解TVOC、VOC氣體污染物，能將污染物分解成無毒害的清潔氣體，并能避免使用過濾耗材二次污染問題，提供一種光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法。
[0004]本發明光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法內容簡述:
本發明光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法，其特征在于:光激發高活性多維結構納米陶瓷片原料配方:按質量的百分比取原料:工業廢料30~80%、礦物原材料5~30%、高嶺土 10~50%，其化學成分的百分比為:二氧化硅60~80%、三氧化二鋁8~20%、氧化鈣0.5~3%、氧化鎂I~3% ；
制備光激發高活性多維結構納米陶瓷片，采用:混料制漿一骨架成型一定型烘干一高溫燒成一催化液噴刷一定溫烘干`一產品檢驗一包裝出廠的工藝步驟實現的；
混料制漿:將上述原料經過球磨20小時、過篩200目，按質量比的23%加水調成泥漿； 骨架成型:采用聚氨酯泡沫塑料為骨架，掛漿、控干；
定型烘干:進入烘干窯在溫度攝氏115度、時間25分鐘條件下烘干定型；
高溫燒成:將烘干定型的產品送至高溫窯在溫度攝氏950度、時間150分鐘條件下燒結成型；
催化液噴刷:在常溫下冷卻后噴淋光激發納米催化液，在產品及空隙中要求均勻噴涂光激發納米催化液，形成光激發納米催化液噴涂層；
定溫烘干:將經過催化液噴刷后的產品送入烘干窯，在溫度攝氏135度、經過30分鐘定溫烘干；
產品檢驗:采用壓縮空氣吹去表面浮塵，進行外觀檢驗；
包裝出廠:合格產品包裝出廠。
[0005]是由:骨架和噴涂層組成，骨架是一種納米級的無規則多孔陶瓷片，其形狀為圓形，或橢圓形、方形、長方形、桶形、三角形及多邊形，厚度為4~50 mm,孔的形狀呈不規則多維結構，在表面及孔隙中均勻噴涂光激發納米催化液形成噴涂層。
[0006]本發明光激發高活性多維結構納米陶瓷材料可有效分解TVOC、VOC幾乎全部氣體污染物，能將污染物迅速分解成無毒害的清潔氣體，并能有效避免使用過濾耗材二次污染問題，對污染環境空氣凈化、VOC達標排放、清除PM2.5污染、殺滅細菌、病毒，具有無可比擬的能力，也可配合中央空調、新風系統，均能實現良好的效果，不產生二次污染、無需更換過濾材料、降低成本，定期維護可大大提高空氣凈化、優化和清新功能。在光激發下材料表面迅速分解細菌內毒素，殺滅細菌病毒、降低甲醛、苯、氨、氡等有害氣體；光激發高活性多維結構納米陶瓷材料為自清潔型材料，具有長期高效處理污染氣體的能力。
[0007]【專利附圖】
【附圖說明】
圖1是制備光激發高活性多維結構納米陶瓷片的工藝流程圖；
圖2是光激發高活性多維結構納米陶瓷片結構示意圖；
圖2中:1是骨架、2是噴涂層。
【具體實施方式】
[0008]本發明光激發高活性多維結構納米陶瓷片及其制備方法是這樣實現的，下面結合附圖做具體說明。
[0009]見圖1，本發明采用低溫條件下催化劑附著工藝，解決了催化劑穩固的與載體結合，并可半永久性使用，同時在光激發下材料表面迅速更新保持高能狀態。
[0010]光激發高活性多維結 構納米陶瓷片原料配方:按質量的百分比取原料:工業廢料30~80%、礦物原材料5~30%、高嶺土 10~50%，其化學成分的百分比為:二氧化硅60~80%、三氧化二鋁8~20%、氧化鈣0.5~3%、氧化鎂I~3% ；
制備光激發高活性多維結構納米陶瓷片，采用:混料制漿一骨架成型一定型烘干一高溫燒成一催化液噴刷一定溫烘干一產品檢驗一包裝出廠的工藝步驟實現的；
混料制漿:將上述原料經過球磨20小時、過篩200目，按質量比的23%加水調成泥漿； 骨架成型:采用聚氨酯泡沫塑料為骨架，掛漿、控干；
定型烘干:進入烘干窯在溫度攝氏115度、時間25分鐘條件下烘干定型；
高溫燒成:將烘干定型的產品送至高溫窯在溫度攝氏950度、時間150分鐘條件下燒結成型；
催化液噴刷:在常溫下冷卻后噴淋光激發納米催化液，在產品及空隙中要求均勻噴涂光激發納米催化液，形成光激發納米催化液噴涂層；
定溫烘干:將經過催化液噴刷后的產品送入烘干窯，在溫度攝氏135度、經過30分鐘定溫烘干；
產品檢驗:采用壓縮空氣吹去表面浮塵，進行外觀檢驗；
包裝出廠:合格產品包裝出廠。
[0011]光激發納米催化液是進口日本株式會社光觸媒研究所生產的產品。
[0012]見圖2，光激發高活性多維結構納米陶瓷片，是由:骨架I和噴涂層2組成，骨架I是一種納米級的無規則多孔陶瓷片，其形狀為圓形，或橢圓形、方形、長方形、桶形、三角形及多邊形，厚度為4~50 mm,孔的形狀呈不規則多維結構，在表面及孔隙中均勻噴涂光激發納米催化液形成噴涂層2。
[0013]本發明光激發高活性多維結構納米陶瓷片可有效分解TVOC、VOC幾乎全部氣體污染物，能將污染物迅速分解成無毒害的清潔氣體，并能有效避免使用過濾耗材二次污染問題，經過試驗及檢測證明光激發高活性多維結構納米陶瓷材料可有效地應用于所有TVOC污染環境行業中的治理。
實施例
[0014]本發明采用光激發高活性多維結構納米陶瓷片，在光激發下價帶電子被激發到導帶形成電子和空穴，與吸附于表面的02和H20作用，生成超氧化物陰離子自由基，02-羥基自由基-0H，其自由基具有很強的氧化分解能力，能破壞有機物中的C-C鍵、C-H鍵、O-H鍵、N-H鍵，分解有機物為二氧化碳與水；同時破壞細菌的細胞膜固化病毒的蛋白質，改變細菌、病毒的生存環境從而殺死細菌、病毒。由于該材料是將光能轉化為化學能，材料本身不參與反應所以沒有消耗。
[0015]本發明光激發高活性多維結構納米陶瓷片，對污染環境空氣凈化、VOC達標排放、清除PM2.5污染、殺滅細菌、病毒，具有無可比擬的能力，也可配合中央空調、新風系統，均能實現良好的效果，不產生二次污染、無需更換過濾材料、降低成本，定期維護可大大提高空氣凈化、優化和清新功能。在光激發下材料表面迅速分解細菌內毒素，殺滅細菌病毒、降低甲醛、苯、氨、氡等有害氣體；光激發高活性多維結構納米陶瓷材料為自清潔型材料，具有長期高效處理污染氣體的能力。
【權利要求】
1.一種光激發高活性多維結構納米陶瓷片，其特征在于:光激發高活性多維結構納米陶瓷片原料配方:按質量的百分比取原料:工業廢料30~80%、礦物原材料5~30%、高嶺土10~50%，其化學成分的百分比為:二氧化硅60~80%、三氧化二鋁8~20%、氧化鈣0.5~3%、氧化鎂I~3%。
2.制備如權利要求1所述的光激發高活性多維結構納米陶瓷片，其特征在于:采用:混料制漿一骨架成型一定型烘干一高溫燒成一催化液噴刷一定溫烘干一產品檢驗一包裝出廠的工藝步驟實現； 混料制漿:將上述原料經過球磨20小時、過篩200目，按質量比的23%加水調成泥漿； 骨架成型:采用聚氨酯泡沫塑料為骨架，掛漿、控干； 定型烘干:進入烘干窯在溫度攝氏115度、時間25分鐘條件下烘干定型； 高溫燒成:將烘干定型的產品送至高溫窯在溫度攝氏950度、時間150分鐘條件下燒結成型； 催化液噴刷:在常溫下冷卻后噴淋光激發納米催化液，在產品及空隙中要求均勻噴涂光激發納米催化液，形成光激發納米催化液噴涂層； 定溫烘干:將經過催化劑噴刷后的產品送入烘干窯，在溫度攝氏135度、經過30分鐘定溫烘干； 產品檢驗:采用壓縮空氣吹去表面浮塵，進行外觀檢驗； 包裝出廠:合格產品包裝出廠。
3.根據權利要求1所 述的光激發高活性多維結構納米陶瓷片，其特征在于:是由:骨架(I)和噴涂層(2)組成，骨架(1)是一種納米級的無規則多孔陶瓷片，其形狀為圓形，或橢圓形、方形、長方形、桶形、三角形及多邊形，厚度為4~50 mm,孔的形狀呈不規則多維結構，在表面及孔隙中均勻噴涂光激發納米催化液形成噴涂層(2 )。
【文檔編號】C04B35/626GK103482960SQ201310399791
【公開日】2014年1月1日 申請日期:2013年9月6日 優先權日:2013年9月6日
【發明者】葛輝, 張深, 郭振峰, 程明洋 申請人:鞍山仕普瑞科技有限公司, 葛輝