一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層，涂層的成分包括氧化鈰、氧化鋁、Cr2O3、碳化硅、氧化鐵、膨潤土、可溶性硅酸鹽。
【專利說明】一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層
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【技術領域】
[0002] 本發明涉及一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層。
[0003]
【背景技術】
[0004] 現有技術中，用于石油、石化、電力、冶金及建材等行業的工業鍋爐和窯爐的高溫 輻射金屬基材受熱面、向火側表面的涂料存在的不足之處在于抗沾污結渣、耐高溫腐蝕、耐 磨損能力較差，發射率較低。
[0005]
【發明內容】
[0006] 本發明的發明目的在于提供一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷 涂層，發射率高、抗沾污結渣、耐高溫腐蝕、耐磨損能力強。
[0007] 實現本發明目的技術方案： 一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層，其特征在于：涂料的成分包 括氧化鈰、氧化鋁、Cr203、碳化硅、氧化鐵、膨潤土、可溶性硅酸鹽。
[0008] 涂層的成分還包括氧化鑭、氧化鏑。
[0009] 涂層各成分所占的重量份數為，氧化鈰15-20、氧化鋁3-5、Cr20 3 5-10、碳化硅 15-20、氧化鐵3-5、膨潤土 15-20、可溶性硅酸鹽40-50、氧化鑭1-3、氧化鏑1-3。
[0010] 優選地，氧化錯、氧化鋪、Cr203、碳化娃、氧化鐵、氧化鑭、氧化鏑、膨潤土、可溶性 硅酸鹽的粒度為100納米-300納米。
[0011] 優選地，涂料各成分所占的重量份數為，氧化鈰19、氧化鋁4、Cr203 8、碳化硅17、 氧化鐵4、膨潤土 18、可溶性硅酸鹽45、氧化鑭2、氧化鏑2。
[0012] 優選地，金屬粉選用三氧化二鐵，可溶性硅酸鹽選用硅酸鋁。
[0013] 本發明具有的有益效果： 本發明涂層成分中氧化鈰與氧化鋁復合，在較寬的波段內具有穩定的高發射率，具有 抗沾污結渣特性，同時，氧化鈰等稀土氧化物有利于陶瓷相的緊密和與基材的結合。本發明 涂層成分中氧化鑭、氧化鏑保證涂層在高溫狀態下的光、電、磁特性穩定。
[0014] 本發明涂層成分中的氧化鋁、氧化鈰、Cr203、碳化硅、氧化鐵、氧化鑭、氧化鏑粒度 為100納米-300納米，采用納米微粒子技術，改變了結合機理及表面力學特性，使涂層與基 材以機械、物理及化學的方式緊密結合，且涂層外表面具有更低的表面能，進一步提高抗沾 污結渣、耐高溫腐蝕、耐磨損等綜合特性。本發明涂層成分中采用多種無機粘結劑優化組 合，針對不同基材、應用環境，確保涂層浸濕性、促進相間反應、高溫不粉化脫落。
[0015] 本發明使用溫度范圍300-1800°C，具體性能指標如下：
【權利要求】
1. 一種適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層，其特征在于：涂料的成分 包括氧化鈰、氧化鋁、Cr 203、碳化硅、氧化鐵、膨潤土、可溶性硅酸鹽。
2. 根據權利要求1所述的適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層，其特征 在于：涂層的成分還包括氧化鑭、氧化鏑。
3. 根據權利要求2所述的適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層，其特 征在于：涂層各成分所占的重量份數為，氧化鈰15-20、氧化鋁3-5、Cr 203 5-10、碳化硅 15-20、氧化鐵3-5、膨潤土 15-20、可溶性硅酸鹽40-50、氧化鑭1-3、氧化鏑1-3。
4. 根據權利要求3所述的適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷涂層，其特征 在于：氧化鋁、氧化鈰、Cr20 3、碳化硅、氧化鐵、氧化鑭、氧化鏑、膨潤土、可溶性硅酸鹽的粒 度為100納米-300納米。
5. 根據權利要求1至4任何一項所述的適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷 涂層，其特征在于：層料各成分所占的重量份數為，氧化鈰19、氧化鋁4、Cr 203 8、碳化硅17、 氧化鐵4、膨潤土 18、可溶性硅酸鹽45、氧化鑭2、氧化鏑2。
6. 根據權利要求1至4任何一項所述的適用于金屬及非金屬基材的高發射率高溫陶瓷 涂層，其特征在于：金屬粉選用三氧化二鐵，可溶性硅酸鹽選用硅酸鋁。
【文檔編號】C04B35/16GK104108940SQ201310131435
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2013年4月17日 優先權日:2013年4月17日
【發明者】劉曉剛 申請人:哈爾濱華電金能電力技術有限公司