專利名稱：一種玻璃減薄設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及顯示器制造技術領域，尤其涉及一種玻璃減薄設備。
背景技術：
隨著科技的發展，顯不器中的玻璃包括堿石灰玻璃和無堿玻璃。堿石灰玻璃是通過將堿金屬離子按需要加到二氧化硅(SiO2)中形成的。堿石灰玻璃物性溫度轉變點低，但不貴，因而用于采用低溫工藝的超扭轉向列液晶顯示器(STN-LCD)或無源矩陣型有機發光二級管(PM 0LED)中。無堿玻璃物性溫度轉變點高，其在高溫下幾乎不發生改變，因而適宜用于形成薄膜晶體管(TFT)陣列的高溫工藝中，并因而用于薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-IXD)或有源矩陣型有機發光二級管(AM 0LED)中。近年來，為了滿足顯示設備工業的發展需要和用戶對輕、薄產品的需求，現有技術中采用浸潰技術、噴霧技術和浸潰噴霧技術通過蝕刻實現對顯示面板的玻璃基材進行減薄處理。如圖I所示，為現有的玻璃減薄設備的結構示意圖，圖中包括玻璃減薄設備1，玻璃減薄設備I上設有多個噴頭11，噴頭11從玻璃基材2上方噴出刻蝕溶液，通過濕法刻蝕玻璃基材2使之減薄。其中蝕刻溶液沿著玻璃基材2的表面從上部豎直向下流到下部以減薄玻璃基材2，由此防止了外部壓力對玻璃基材2的損害，并且在沒有顆粒產生的情況下將玻璃基材2減薄到所希望的厚度。由于工藝制成以及產品運輸過程中，經常會導致玻璃表面輕微劃傷，劃傷之處當經過減薄設備的濕法刻蝕處理后，將進一步導致凹點等不良缺陷的產生或加重，從而使得顯示面板的不良更加嚴重。
實用新型內容針對現有技術中存在的上述問題，本實用新型提供一種玻璃減薄設備，提高了工件的減薄良率，并且操作簡單，節約了不良工件的浪費，并降低了制作成本。為了解決上述問題，本實用新型實施例提供一種玻璃減薄設備，包括用于噴射刻蝕溶液到待減薄的玻璃基材上的噴射裝置，還包括檢測裝置，用于獲取所述玻璃基材上的缺陷區域所在的位置信息；開關裝置，包括若干個按矩陣式排列在同一平面上的閥門，且所述開關裝置與所述玻璃基材平行設置；噴射器，用于通過閥門，向附著有刻蝕溶液的玻璃基材上的所述缺陷區域進行噴射；處理器，與所述檢測裝置、開關裝置及噴射器相連接，用于根據所述檢測裝置獲取的所述缺陷區域的位置信息，向所述開關裝置發送控制信號，開啟與所述缺陷區域的位置對應的閥門，并控制所述噴射器通過開啟的閥門向所述缺陷區域進行噴射，減少所述缺陷區域附著的刻蝕溶液。[0012]優選的，所述閥門所在矩陣平面的面積不小于所述玻璃基材的面積。優選的，所述檢測裝置具體為激光掃描定位器；所述激光掃描定位器，用于檢測所述玻璃基材上缺陷區域的位置坐標信息，并將所述位置坐標信息發送給所述處理器。優選的，所述檢測裝置的數量為兩個，分別設于所述玻璃基材的兩側，用于對所述玻璃基材的兩側表面分別進行檢測。優選的，所述開關裝置具體為閥門矩陣開關或激光矩陣開關。優選的，所述激光矩陣開關采用冷激光源，用于降低所述缺陷區域的刻蝕溶液的刻蝕速率。優選的，所述開關裝置的數量為兩個，分別位于所述玻璃基材的兩側。優選的，所述噴射器具體為高壓氣槍或高壓水槍。本實用新型提供的實施例與現有技術相比具有以下優點本實用新型實施例提供的玻璃減薄設備，包括用于噴射刻蝕溶液到待減薄的玻璃基材上的噴射裝置，還包括檢測裝置、開關裝置、噴射器及處理器，通過檢測裝置獲取玻璃基材上的缺陷區域所在的位置信息；并將所述缺陷區域的位置信息發送給處理器，所述處理器向所述開關裝置發送控制信號，開啟與所述缺陷區域的位置對應的閥門，并控制所述噴射器通過開啟的閥門向所述缺陷區域進行噴射，減少所述缺陷區域附著的刻蝕溶液，從而提高了減薄工件的良率，并且減少了玻璃基材的浪費，節省了能源提高了生產效率，節約了生產成本。
圖I為現有技術中減薄設備的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例一設備的結構示意圖；圖3為本實用新型實施例二設備的結構示意圖；圖4為本實用新型實施例三設備的結構示意圖；圖5為本實用新型實施例一中開關裝置的側視圖。
具體實施方式
本實用新型提供一種玻璃減薄設備，提高了工件的減薄良率，并且操作簡單，節約了不良工件的浪費，并降低了制作成本。下面結合本實用新型具體實施例及說明書附圖進行詳細的描述如圖2所示，為本實用新型實施例一設備的結構示意圖，圖中包括一刻蝕溶液噴射裝置21，其中在玻璃基材23上方噴射裝置21上設置一個噴嘴或多個噴嘴22以提供蝕刻溶液，并且所述一個噴嘴在玻璃基材23上方，可以將刻蝕溶液噴射到玻璃基材23的兩側表面上，或者所述多個噴嘴分別設置在玻璃基材23的兩側，使得蝕刻溶液以固定流速或可變流速沿著玻璃基材23的兩個側面流下。本實用新型設備還包括檢測裝置，所述檢測裝置與處理器25相連接，用于獲取玻璃基材23上的缺陷區域的位置信息；其中，所述缺陷區域一般是由輕微劃傷玻璃基材23產生，然后將檢測到的位置信息發送給處理器25 ;處理器25與開關裝置26相連接，根據接收到的位置信息，向開關裝置發送控制信號，開啟與所述缺陷區域的位置對應的閥門，并控制噴射器27通過開啟的閥門向所述缺陷區域進行噴射，減少所述缺陷區域附著的刻蝕溶液。所述開關裝置26包括若干個按矩陣式排列在同一平面的閥門，所述閥門所在矩陣平面與所述玻璃基材23所述的平面相平行；所述閥門所在矩陣平面的面積不小于所述玻璃基材23的面積；較佳的情況，將所述閥門所在矩陣平面的面積設置成與所述玻璃基材23的面積大小相同；如果當所述閥門所在矩陣平面的面積小于所述玻璃基材23的面積大小時，那么需要移動開關裝置到相應的缺陷區域位置。檢測裝置為可以確定出玻璃基材23上缺陷區域的位置的裝置，類似的包括一些位置傳感器、掃描定位器或者利用光學儀器檢測定位的裝置，在本實用新型中的檢測裝置具體為激光掃描定位器。激光掃描定位器24通過激光掃描待減薄的玻璃基材23，檢測出玻璃基材23上的缺陷區域的位置參數，具體為該缺陷區域的位置坐標信息，將檢測到的位置坐標信息發送給處理器25，處理器25根據接收到的位置坐標信息，向開關裝置26發送控制信號，開啟對應附著有刻蝕溶液的玻璃基材23的所述缺陷區域坐標位置的閥門，并控制噴射器27通過開啟的閥門向附著有刻蝕溶液的玻璃基材23上的所述缺陷區域進行噴射，減 少所述缺陷區域附著的刻蝕溶液。其中，檢測裝置的數量為兩個，分別設于玻璃基材23的兩側，用于對玻璃基材23的兩側表面分別進行檢測；并且開關裝置26具體的數量為兩個，分別位于玻璃基材23的兩側，且所述開關裝置26上閥門所在的矩陣平面與所述玻璃基材23所在平面平行。噴射器27可以是高壓氣槍或高壓水槍，本實施例中以高壓氣槍為例，具體的，高壓氣槍將噴射的高壓氣體通過開啟的閥門，形成微細的“氣刀”，將附著在所述缺陷區域的刻蝕液吹散到四周，從而使得該缺陷區域的刻蝕液減少，從而不會與整個玻璃基材表面同時進行相同程度的減薄處理，減少所述缺陷區域的不良。如圖3所示，為本實用新型實施例二的結構示意圖，其中開關裝置具體為以矩陣排列的在同一平面的細小閥門的開關裝置，并且該開關裝置與處理器25相連接，本實施例中采用閥門矩陣開關31，閥門矩陣開關31可根據處理器25發送的控制信號開啟對應所述缺陷區域位置的閥門，利用高壓氣槍32噴射的高壓氣體被所述閥門分割成類似“氣刀”對刻蝕溶液進行處理。采用高壓氣體時可以將缺陷區域的刻蝕溶液吹到缺陷區域的四周，不再進一步刻蝕玻璃基材23上的缺陷區域，從而提高減薄工件的良率。如圖4所示，為本實用新型實施例三的結構示意圖，其中噴射器采用高壓水槍，其他部件如上所述，在此不再重復；高壓水槍41噴射出高壓水流通過開啟的閥門，形成高壓且細小的水束，噴射到玻璃基材23的缺陷區域，使得此處的刻蝕溶液的濃度降低，從而減小對此不良位置的刻蝕效果，使得顯示面板的不良率降低。如圖5所示，為本實用新型實施例一中開關裝置的側視圖，由于本實用新型實施例采用的開關裝置26為閥門矩陣開關，由多個閥門51組成，閥門51 —般為毫米級設置，并且都由處理器控制，當接收到處理器的控制信號時，即可打開處理器要求的對應閥門，即將對應缺陷區域的閥門打開，從而進一步執行操作。另外本實用新型實施例中的開關裝置26還可以采用激光矩陣開關，一般采用冷激光，通過冷激光照射缺陷區域，可以降低反應溫度，從而進一步的降低所述缺陷區域的刻蝕溶液的刻蝕速率。[0037]經過本實用新型提供的設備進行減薄處理后，使得原本因表面劃傷而導致的濕法刻蝕處理后的凹陷部分轉換成凸起，再經過拋光打磨，實現玻璃基材的表面平滑。本實用新型提供的實施例具有以下優點本實用新型實施例提供的玻璃減薄設備，包括用于噴射刻蝕溶液到待減薄的玻璃基材上的噴射裝置，還包括檢測裝置、開關裝置、噴射器及處理器，通過檢測裝置獲取玻璃基材上的缺陷區域所在的位置信息；并將所述缺陷區域的位置信息發送給處理器，所述處理器向所述開關裝置發送控制信號，開啟與所述缺陷區域的位置對應的閥門，并控制所述噴射器通過開啟的閥門向所述缺陷區域進行噴射，減少所述缺陷區域附著的刻蝕溶液，從而提高了減薄工件的良率，并且減少了玻璃基材的浪費，節省了能源提高了生產效率，節約了生產成本。顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及 其等同技術的范圍之內，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內。
權利要求1.一種玻璃減薄設備，包括用于噴射刻蝕溶液到待減薄的玻璃基材上的噴射裝置，其特征在于，還包括 檢測裝置，用于獲取所述玻璃基材上的缺陷區域所在的位置信息； 開關裝置，包括若干個按矩陣式排列在同一平面上的閥門，且所述開關裝置與所述玻璃基材平行設置；噴射器，用于通過閥門，向附著有刻蝕溶液的玻璃基材上的所述缺陷區域進行噴射；處理器，與所述檢測裝置、開關裝置及噴射器相連接，用于根據所述檢測裝置獲取的所述缺陷區域的位置信息，向所述開關裝置發送控制信號，開啟與所述缺陷區域的位置對應的閥門，并控制所述噴射器通過開啟的閥門向所述缺陷區域進行噴射，減少所述缺陷區域附著的刻蝕溶液。
2.如權利要求I所述的設備，其特征在于，所述閥門所在矩陣平面的面積不小于所述玻璃基材的面積。
3.如權利要求I所述的設備，其特征在于，所述檢測裝置具體為激光掃描定位器； 所述激光掃描定位器，用于檢測所述玻璃基材上缺陷區域的位置坐標信息，并將所述位置坐標信息發送給所述處理器。
4.如權利要求I所述的設備，其特征在于，所述檢測裝置的數量為兩個，分別設于所述玻璃基材的兩側，用于對所述玻璃基材的兩側表面分別進行檢測。
5.如權利要求2所述的設備，其特征在于，所述開關裝置具體為閥門矩陣開關或激光矩陣開關。
6.如權利要求5所述的設備，其特征在于，所述激光矩陣開關采用冷激光源，用于降低所述缺陷區域的刻蝕溶液的刻蝕速率。
7.如權利要求5所述的設備，其特征在于，所述開關裝置的數量為兩個，分別位于所述玻璃基材的兩側。
8.如權利要求I所述的設備，其特征在于，所述噴射器具體為高壓氣槍或高壓水槍。
專利摘要本實用新型公開了一種玻璃減薄設備，包括用于噴射刻蝕溶液的噴射裝置，還包括檢測裝置，用于獲取玻璃基材上的缺陷區域所在的位置信息；開關裝置，包括若干個按矩陣式排列在同一平面上的閥門，且開關裝置與玻璃基材平行設置；噴射器，用于通過閥門，向附著有刻蝕溶液的玻璃基材上的缺陷區域進行噴射；處理器，與檢測裝置、開關裝置及噴射器相連接，用于根據檢測裝置獲取的缺陷區域的位置信息，向開關裝置發送控制信號，開啟與缺陷區域的位置對應的閥門，并控制噴射器通過開啟的閥門向缺陷區域進行噴射，減少缺陷區域附著的刻蝕溶液。本實用新型提供的技術方案，提高了減薄工件的良率，并且減少了玻璃基材的浪費，節約了生產成本。
文檔編號C03C15/00GK202519159SQ20122012673
公開日2012年11月7日 申請日期2012年3月29日 優先權日2012年3月29日
發明者史文森 申請人:北京京東方光電科技有限公司