磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁記錄介質(zhì)的制作方法

專利名稱：磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
作為磁記錄裝置等所使用的磁記錄介質(zhì)用基板，目前，一直使用鋁合金基板，但隨著高記錄密度化的要求，比鋁合金基板硬、且平坦性、平滑性優(yōu)異的玻璃基板逐漸成為主流。近年來，由于磁記錄介質(zhì)的高記錄密度化、高速旋轉(zhuǎn)化的進(jìn)一步發(fā)展，因此比以往更多地發(fā)生磁頭看丟記錄有磁記錄介質(zhì)的半徑/軌道位置信息的伺服信息而發(fā)生讀取/寫入錯誤的現(xiàn)象?？紤]這種錯誤的發(fā)生的原因為，伴隨著高記錄密度化的窄軌道寬度化、伴隨高速旋轉(zhuǎn)化的磁盤振動的發(fā)生引起的機(jī)械性振動。因此，為了抑制這種錯誤，例如，使用比模量(比模量是用玻璃密度除以楊氏模量而得到的量，是成為表現(xiàn)出輕且強(qiáng)、輕且難以變形的特性的指針的量。下面，也稱為比楊氏模量。)高的材料作為磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的材料，進(jìn)行抑制振動。另外，專利文獻(xiàn)I中記載有，通過選擇厚度方向的對稱性處于規(guī)定范圍內(nèi)的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，從而作為硬盤時減少磁記錄介質(zhì)所記錄的伺服信息的錯誤的磁盤用玻璃基板的制造方法。專利文獻(xiàn)1:日本國特開2010 — 277679號公報如上所述，以往，一直研究著抑制磁記錄介質(zhì)的錯誤發(fā)生的方法，但不能充分抑制錯誤發(fā)生，依然存在作為磁記錄介質(zhì)時發(fā)生錯誤的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)具有的問題而做出的，其目的在于提供一種在成為磁記錄介質(zhì)時錯誤的發(fā)生率較低的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。為了解決上述課題，本發(fā)明提供一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，其中，設(shè)如下的值為滯彈性變形量A:從下表面?zhèn)戎С兴龃庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經(jīng)過5小時的時候的平坦度和施加載荷前的平坦度之差的絕對值，這種情況下，所述滯彈性變形量A為4.2 m以下。本發(fā)明提供一種即使在對磁記錄介質(zhì)施加載荷而變形的情況下也能夠在規(guī)定時間內(nèi)恢復(fù)成原來的形狀的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。因此，即使在出庫時在盒子內(nèi)包裝、固定而磁記錄介質(zhì)用玻璃基板發(fā)生變形的情況下，也能夠在寫入伺服信息之前的時間內(nèi)復(fù)原成原來的形狀，在磁記錄介質(zhì)的恰當(dāng)?shù)奈恢糜涗浰欧畔?，可以抑制之后的錯誤(讀取/寫入錯誤)的發(fā)生。


圖1是本發(fā)明的第一實施方式的滯彈性變形量的測定流程的說明圖；圖2 (a)及2 (b)是本發(fā)明的第一實施方式的滯彈性變形量測定時的載荷附加方法的說明圖。標(biāo)號說明13磁記錄介質(zhì)用玻璃基板14兩 端部15 載荷
具體實施例方式下面，參照附圖對用于實施本發(fā)明的方式進(jìn)行說明，但本發(fā)明不限定于下述的實施方式，在不脫離本發(fā)明的范圍內(nèi)，可以對下述實施方式施加各種變形及置換。[第一實施方式]在本實施方式中，對本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板進(jìn)行說明。本發(fā)明的發(fā)明人等對即使在使用比模量(比模量是指玻璃的楊氏模量除以玻璃的密度得到的量，是成為表現(xiàn)出輕且強(qiáng)、輕且難以變形的特性的指針的量。下面，也稱為比楊氏模量。)高的材料作為磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的材料的情況下，在磁記錄介質(zhì)中也引起讀出錯誤的原因進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)原因之一是在輸送工序中磁記錄介質(zhì)發(fā)生了變形的情況下在變形沒有充分恢復(fù)時寫入伺服信息，由此完成了本發(fā)明。通常，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板以在其表面形成磁性層等而形成為磁記錄介質(zhì)之后不與其它磁記錄介質(zhì)接觸的方式收納于盒子中，進(jìn)而收納于減壓后的包裝容器內(nèi)，向硬盤驅(qū)動器的制造工廠進(jìn)行出庫、輸送。在輸送磁記錄介質(zhì)時，雖然磁記錄介質(zhì)收納于盒子內(nèi)，但由于進(jìn)而收納于減壓后的包裝容器(包裝)內(nèi)，因此，有時施加載荷而發(fā)生變形。而且，在輸送到硬盤驅(qū)動器的制造工廠之后，從盒子取出磁記錄介質(zhì)而組裝至硬盤驅(qū)動器，寫入伺服信息，并供于讀寫測試。如上所述，在輸送時對磁記錄介質(zhì)施加載荷而發(fā)生變形的情況下，由于從盒子取出而解除載荷，因此，在這些工序的期間，磁記錄介質(zhì)逐漸向原來的形狀恢復(fù)。通常，磁記錄介質(zhì)在從盒子取出后經(jīng)過5 12小時左右后寫入伺服信息。但是，在該階段中磁記錄介質(zhì)的形狀還未充分復(fù)原的情況下，即使寫入伺服信息之后該位置也發(fā)生位移。因此，寫入的伺服信息的寫入位置偏移，成為產(chǎn)生錯誤的原因。而且，對在磁記錄介質(zhì)中引起讀出錯誤的原因進(jìn)行了研究，其結(jié)果可知，由于磁記錄介質(zhì)是在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板表面形成磁性層等的磁記錄介質(zhì)，因此，磁記錄介質(zhì)的形狀的復(fù)原速度依賴于磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的滯彈性變形量。本發(fā)明通過將磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的滯彈性變形量A設(shè)為4.2 y m以下，要可靠地抑制在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板表面上形成磁性層等的磁記錄介質(zhì)中發(fā)生讀出錯誤的情況。在此所說的滯彈性變形量A是指如下所述的值:從下表面?zhèn)戎С写庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的相對的兩端部，并對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部(包含中心的中央?yún)^(qū)域)上表面施加48小時的載荷，之后解除載荷，解除載荷之后經(jīng)過5小時的平坦度和施加載荷之前的平坦度之差的絕對值。在此，在測定滯彈性變形量A時，對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板施加48小時的載荷是基于從將磁記錄介質(zhì)包裝、出庫到為了硬盤驅(qū)動器組裝而將包裝開封為止通常所需要的時間。進(jìn)而確認(rèn)到在測定后述的滯彈性變形量A C時，無論使用哪一玻璃基板，平坦度的變化都在施加載荷的時間為16小時左右飽和。因此，從平坦度的變化飽和并且即使進(jìn)一步施加載荷也不會引起平坦度變化的時間的觀點出發(fā)，也設(shè)為48小時。另外，將解除載荷之后5小時后的平坦度設(shè)為比較對象是因為，通常，在將磁記錄介質(zhì)的包裝開封后到寫入伺服信息為止的時間為5 12小時左右。為了抑制錯誤，在該期間需要磁記錄介質(zhì)用玻璃基板向原來的形狀恢復(fù)直到之后的位移不會成為問題的程度。作為滯彈性變形量A的值只要為在記錄了伺服信息之后即使磁記錄介質(zhì)用玻璃基板位移也允許的值即可，如上所述，滯彈性變形量A的值為4.2 以下。作為滯彈性變形量A，優(yōu)選為4.0 ii m以下，進(jìn)一步優(yōu)選為3.5 ii m以下，特別優(yōu)選為3.0 y m以下。滯彈性變形量A的下限值為0 y m。可以說這對其它滯彈性變形量B、滯彈性變形量C也是一樣的。另外，將如下所述的值設(shè)為滯彈性變形量B:從下表面?zhèn)戎С写庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板直徑方向的兩端部，對上述磁記錄用玻璃基板的中央部(包含中心的中央?yún)^(qū)域)上表面施加48小時的載荷，之后解除載荷，解除了載荷之后經(jīng)過5小時的平坦度和解除了載荷之后經(jīng)過48小時的平坦度之差的絕對值。在該情況下，優(yōu)選上述滯彈性變形量B為3.0 m以下的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。滯彈性變形量B是指從去除載荷后經(jīng)過5小時的時候起到經(jīng)過48小時的時候之間的變形量。因此，該值越小，意味著在去除載荷并經(jīng)過5小時的時候?qū)懭胨欧畔⒑蟮奈?br> 移量越小。 因此，由于滯彈性變形量B滿足上述規(guī)定，從而寫入伺服信息后的位移量較小，在作為磁記錄介質(zhì)的情況下，可以進(jìn)一步抑制錯誤的發(fā)生。作為滯彈性變形量B的值，只要是寫入伺服信息后進(jìn)行數(shù)據(jù)的讀取、寫入時允許的變形量即可，但如上述，優(yōu)選為3.0 m以下。作為滯彈性變形量B，更優(yōu)選為2.5 m以下，特別優(yōu)選為2.0iim以下。此外,優(yōu)選的是,從下表面?zhèn)戎С写庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的兩端部,對上述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部(包含中心的中央?yún)^(qū)域)上表面施加48小時的載荷之后，解除載荷，在解除了載荷之后，經(jīng)過5小時的時候的平坦度即滯彈性變形量C為5.m以下。滯彈性變形量C的值越小，表示載荷去除后經(jīng)過5小時的時候的平坦度越小。滿足該參數(shù)的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板表示，雖然施加48小時的載荷但變形量還是較少及/或去除載荷后在5小時內(nèi)恢復(fù)平坦度的情況。因此，即使載荷去除后經(jīng)過5小時的時候?qū)懭胨欧畔ⅲ庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的之后的變形量也是較小，可以抑制錯誤的發(fā)生。使用圖1、2對到目前為止說明的滯彈性變形量A C的測定方法進(jìn)行說明。下面的說明，在圖1中如F (xh)那樣表示在各時間的平坦度。式中X表示將解除載荷的時刻設(shè)為基準(zhǔn)(Oh)的情況下解除載荷后的經(jīng)過時間。另外，解除載荷之前的時間用負(fù)號表示。因此，例如，F(xiàn) ( - 48h)表示解除載荷前的48小時，即施加載荷前的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的平坦度。首先，使用圖1對滯彈性變形量測定流程進(jìn)行說明。
就測定而言，如圖1所示，首先，在施加載荷前，測定磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的平坦度F ( - 48h)(圖1中(I)的點)。然后，通過后述的方法對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板施加48小時的載荷。這是因為，在通常的硬盤驅(qū)動器組裝工序中，從將磁記錄介質(zhì)包裝、出庫起到開封為止為48小時左右。另外，如上所述，確認(rèn)了在任意玻璃基板上施加載荷后平坦度的變化都在16小時左右飽和(玻璃基板變形)。因此，從平坦度的變化飽和并且即使進(jìn)而長期作用載荷也不會引起平坦度變化的時間的觀點出發(fā)，也設(shè)為48小時。經(jīng)過48小時后解除載荷(圖1中(2)的點)，在解除了載荷之后經(jīng)過5小時的時候，再次測定平坦度(圖1中(3)的點)，并將其設(shè)為F (5h)。這是因為，通常在硬盤驅(qū)動器的組裝工序中，在包裝開封后經(jīng)過5 12小時左右后進(jìn)行伺服信息的寫入。另外，測定在解除載荷之后經(jīng)過了 48小時的時候的平坦度(圖1中(4)的點)，并將其設(shè)為F (48h)。這是因為，在通常的硬盤驅(qū)動器的組裝工序中，在將包裝開封后經(jīng)過了48小時左右的時刻進(jìn)行讀寫測試。而且，如上所述，滯彈性變形量A作為施加載荷之前的平坦度F ( - 48h)和解除載荷之后經(jīng)過了 5小時的時候的平坦度之差的絕對值而算出，并利用下面的式子表示。(滯彈性變形量A) = I F (5h) — F ( - 48h) |滯彈性變形量A的值越小，表示越是從通過施加載荷產(chǎn)生的變形向原來的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的形狀(平坦度)恢復(fù)。另外，如上所述，滯彈性變形量B作為解除載荷之后經(jīng)過了 5小時的時候的平坦度和經(jīng)過了 48小時的時候的平坦度之差的絕對值而被算出，并利用下面的式子表示。(滯彈性變形量B)= I F (5h) - F (48h) |
滯彈性變形量C表示去除載荷之后經(jīng)過了 5小時的時候的平坦度。因此，利用下面的式子表不。(滯彈性變形量C)= F (5h)對測定磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的平坦度的單元沒有特別限定，可以通過例如相位測定干涉法(相移法)進(jìn)行測定。接著，下面對測定滯彈性變形量時的在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上施加載荷的方法進(jìn)行說明。對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板施加載荷時，通過如下方式進(jìn)行施加:從下表面?zhèn)戎С写庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的相對的直徑方向的兩端部，對于磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的包含中心的中央部，從磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的上表面向垂直下方施加載荷。使用圖2 (a)及2 (b )對具體的例子進(jìn)行說明。圖2 (a)及2 (b)表示為了測定滯彈性變形量而對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板施加載荷的構(gòu)成例，圖2 Ca)表示橫側(cè)視圖，圖2 (b)表示俯視圖。如圖2 (a)及2 (b)所示，為了支承磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的兩端部，而使用V字塊體11，并在該塊體11上配置磁記錄介質(zhì)用玻璃基板13、載荷(重石)15，從而對玻璃基板施加載荷。在V字塊體11的中央部具有V字狀的切入部12。而且，以覆蓋V字狀切入部12的方式配置磁記錄介質(zhì)用玻璃基板13，由此能夠只將磁記錄介質(zhì)用玻璃基板13的兩端部14從下表面?zhèn)戎С?。作為支承磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的部件，不限定于V字塊體，只要是可支承磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的兩端部14的部件即可。例如，也可以是以在兩個四棱柱形狀的塊體上隔開規(guī)定間隔且可支承磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的兩端部14的方式配置的部件。在該情況下，與V字塊體接觸且設(shè)于支承磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的直徑方向的兩端的兩個部位的兩端部(支承部)14分別被弦141、142和圓弧包圍。而且，弦141和弦142為V字塊體的切入部的端部，且成為平行。而且，弦和圓弧之間的距離的最大值即圖2 (a)及2(b)中的Wl分別優(yōu)選為例如磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的直徑的2.3% 7.7%的長度，更優(yōu)選為直徑的3.0% 4.6%。這是因為，當(dāng)支承的部分的范圍過窄時，在施加載荷的情況下，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板可能偏離落下而損壞，當(dāng)過寬時，與載荷部分之間的距離變短，平坦度的變化難以產(chǎn)生，測定的分解能力變低。關(guān)于載荷，只要能夠?qū)Υ庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的包含中心的中央部施加載荷即可，對其配置、載荷的大小沒有特別限定。例如圖2 (a)及2 (b)所示，可以通過在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部配置長方體的載荷(重石)而進(jìn)行。在該情況下，優(yōu)選載荷以與構(gòu)成支承上述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的兩端部的弦141、142平行的方式配置。另外，如圖2 (b)所示，還優(yōu)選載荷以全部覆蓋距與弦141、142平行的中心線為一定距離的寬度(范圍)的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的方式配置。例如，作為載荷(重石)，可以優(yōu)選使用其寬度即圖2 (a)及2 (b)中W2的長度為磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的直徑的35 % 80 %的 長方體，可以更優(yōu)選使用55 % 75 %的長方體。這是因為，在例如施加載荷的范圍過窄的情況下，由于載荷集中在較窄的范圍、載荷變得不穩(wěn)定而倒下等，可能損壞磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，在施加載荷的范圍過寬的情況下，與支承的兩端部之間的距離變窄，平坦度的變化難以產(chǎn)生，測定的分解能力變低。作為載荷(重石)縱向方向的長度，如上所述，優(yōu)選為與磁記錄介質(zhì)用的玻璃基板的直徑相同的長度或其以上的長度。作為載荷的重量，沒有特別限定，只要是充分引起基于滯彈性的變形且不損壞磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的范圍即可，可以根據(jù)使用的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的面積、強(qiáng)度等選擇。例如，可以以磁記錄介質(zhì)用玻璃基板主平面的面積每Imm2成為0.233gf (2.28mN)的載荷的方式進(jìn)行選擇。即，可以施加利用(磁記錄介質(zhì)用玻璃基板主平面的面積)mm2X0.233gf/mm2 (2.28mN/mm2)來計算出的載荷。例如,在外徑為65mm、內(nèi)徑(中央部圓孔的直徑)為20_的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板(2.5英寸的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板)的情況下，將700gf (6.86N)的載荷施加在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部上表面。本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板可以通過包含下面工序I 4的制造方法進(jìn)行制造。(工序I)由玻璃原基板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板之后，倒角加工內(nèi)周端面和外周端面的形狀賦予工序。(工序2)研磨玻璃基板的端面(內(nèi)周端面及外周端面)的端面研磨工序。(工序3)研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序。(工序4)清洗上述玻璃基板并進(jìn)行干燥的清洗工序。而且，利用包含上述各工序的制造方法得到的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板通過進(jìn)一步進(jìn)行在其上形成磁性層等薄膜的工序而可以制成磁記錄介質(zhì)。
在此，(工序I)的形狀賦予工序?qū)凑崭》?、熔化法、沖壓成形法、下拉法或再曳引法成形的玻璃原基板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板。使用的玻璃原基板沒有特別限定，只要加工而得到的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板滿足上述滯彈性變形量即可。例如，也可以是非晶玻璃、結(jié)晶化玻璃、在玻璃基板的表層具有壓縮應(yīng)力層(加強(qiáng)層)的強(qiáng)化玻璃。優(yōu)選玻璃基板的比模量(比楊氏模量)高，例如優(yōu)選為29GPa cm3/g以上，更優(yōu)選為30GPa cm3/g 以上。而且，(工序2)的端面研磨工序?qū)ΣＡЩ宓亩嗣?側(cè)面部和倒角部)進(jìn)行端面研磨。關(guān)于(工序3)的主平面研磨工序，使用雙面研磨裝置，向玻璃基板的主平面供給研磨液且對玻璃基板的上下主平面同時進(jìn)行研磨。本發(fā)明的玻璃基板的研磨也可以只進(jìn)行一次研磨，也可以進(jìn)行一次研磨和兩次研磨，也可以在兩次研磨后進(jìn)行三次研磨。在上述(工序3)主平面研磨工序之前，也可以實施主平面的打磨(lap)(例如，游離磨粒打磨、固定磨粒打磨等)。另外，也可以在各工序之間實施玻璃基板的清洗(工序之間清洗)、玻璃基板表面的蝕刻(工序之間蝕刻)。主平面的打磨廣義上是主平面的研磨。此外，也可以在研磨工序前、或研磨工序后、或研磨工序之間實施在玻璃基板的表層形成壓縮應(yīng)力層(加強(qiáng)層)的加強(qiáng)工序(例如，化學(xué)加強(qiáng)工序)。[第二實施方式]在本實施方式中，對使用本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的磁記錄介質(zhì)進(jìn)行說明。磁記錄介質(zhì)可以通過在第一實施方式中說明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上成膜磁性層等而形成磁記錄介質(zhì)(磁盤)。磁記錄介質(zhì)中有水平磁記錄方式、垂直磁記錄方式，但在此，以垂直磁記錄方式為例，如下說明順序。磁記錄介質(zhì)中，至少在其表面具備磁性層、保護(hù)層、潤滑膜。而且，在垂直磁記錄方式的情況下，通常配置軟磁性基底層，該軟磁性基底層由起到使來自磁頭的記錄磁場回流的作用的軟磁性材料構(gòu)成。因此，從玻璃基板表面依次以例如軟磁性基底層、非磁性中間層、垂直記錄用磁性層、保護(hù)層、潤滑膜的方式層疊。下面，對各層進(jìn)行說明。作為軟磁性基底層，例如可使用CoNiFe、FeCoB、CoCuFe、NiFe、FeAlS1、FeTaN、FeN、FeTaC、CoFeB、CoZrN 等。而且，非磁性中間層由Ru、Ru合金等構(gòu)成。該非磁性中間層具有用于容易地使垂直記錄用磁性層的外延成長的功能及切斷軟磁性基底層和記錄用磁性層之間的磁交換耦合的功能。垂直記錄用磁性層是易磁化軸朝向與基板面垂直的方向的磁性膜，至少包含Co、Pt。而且，為了降低成為較高的固有介質(zhì)噪音的原因的粒間交換耦合，優(yōu)選形成為良好隔離的微粒子構(gòu)造(顆粒構(gòu)造)。具體而言，也可以使用在CoPt系合金等中添加氧化物(Si02、SiO、Cr2O3> CoO、Ta2O3> TiO2 等)、Cr、B、Cu、Ta、Zr 等的磁性層。
至此已說明的軟磁性基底層、非磁性中間層、垂直記錄用磁性層能夠用在線濺射法、DC磁控管濺射法等連續(xù)性地制造。
接著，保護(hù)層是為了防止垂直記錄用磁性層的腐食且即使在磁頭與介質(zhì)接觸的情況下也防止介質(zhì)表面損傷而設(shè)置的層，所述保護(hù)層設(shè)于垂直記錄用磁性層的上方。作為保護(hù)層，能夠使用包含C、ZrO2, SiO2等的材料。作為保護(hù)層的形成方法，能夠使用例如在線濺射法、CVD法、旋涂法等。為了降低磁頭和記錄介質(zhì)(磁盤)的摩擦，在保護(hù)層的表面形成潤滑層。潤滑層能夠使用例如全氟聚醚、氟化醇、氟化羧酸等。對于潤滑層，能夠使用浸潰法、噴射法等形成。如以上說明，在第一實施方式中說明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成磁性層等而得到的磁記錄介質(zhì)在寫入伺服信息之后位移也較少，因此可以抑制錯誤的發(fā)生。實施例下面，列舉具體的實施例進(jìn)行說明，但本發(fā)明不限定于這些實施例。首先，對下面的實施例、比較例中的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的評價方法及在玻璃基板表面成膜磁性層等薄膜的磁記錄介質(zhì)的評價方法進(jìn)行說明。(I)滯彈性變形量滯彈性變形量A C如第一實施方式中已進(jìn)行的說明，首先，分別測定對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板施加載荷之前的平坦度F ( - 48h)和在施加48小時載荷之后解除載荷后經(jīng)過5小時、48小時的時候的平坦度F (5h)、F (48h)。各時間的平坦度的測定利用相位測定干涉法(相移法)進(jìn)行。具體而言，使用干涉式平坦度測定儀(Zygo社制,型號:Zygo GI Flat (MESA)),以680nm的測定波長進(jìn)行測定。然后，根據(jù)測定 到的各平坦度，通過下面的式子，算出滯彈性變形量A C。(滯彈性變形量A)= I F (5h) - F ( - 48h) |(滯彈性變形量B)= I F (5h) - F (48h) |(滯彈性變形量C)= F (5h)在此，對在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板施加載荷時的條件進(jìn)行說明。首先，如圖2 (a)及2 (b)所示，利用V字塊體支承磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的兩端部分。支承部14配置于直徑方向的兩端，兩個兩端部(支承部)被弦141、142和(被弦切割的較短的一方的弧)圓弧包圍，兩個兩端部形成相同的形狀。而且，弦141、142和圓弧之間的距離的最大值Wl以成為磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的直徑的3.8%的方式配置。接著，以與構(gòu)成被V字塊體支承的兩端部分的弦141、142平行的方式，在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的主平面上配置載荷15。在本實施例中，作為載荷的尺寸，其橫向?qū)挾燃磮D2(a)及2 (b)中的W2使用了作為磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的直徑的67%的載荷。在該情況下，載荷的寬度方向的中心線以通過磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中心的方式配置。另外，關(guān)于縱向方向，為了在載荷的橫向?qū)挾确秶w上完全覆蓋磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，使用了比磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的直徑更長的載荷。(2)讀寫測試對于得到的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，在形成磁性層等之后按照如下說明的順序進(jìn)行讀寫測試。具體而言,將在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成有磁性層等的磁記錄介質(zhì)裝入硬盤驅(qū)動器(HDD)中，以下述的順序?qū)懭胨欧畔?。然后，按照下述實施例的順序，以磁道密度約 254TPI (Track per inch:磁道 / 英寸)、線記錄密度約 1500BPI (Bit per inch:位數(shù) /英寸)的條件，記錄磁信號，并確認(rèn)讀出該信號時有無錯誤產(chǎn)生。在本實施例中，對于比楊氏模量較高的玻璃基板的數(shù)種類(表I所示的例I 例9的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板)進(jìn)行了研究。表I
權(quán)利要求
1.一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，其中， 設(shè)如下的值為滯彈性變形量A:從下表面?zhèn)戎С兴龃庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經(jīng)過5小時的時候的平坦度和施加載荷前的平坦度之差的絕對值， 這種情況下，所述滯彈性變形量A為4.2 m以下。
2.如權(quán)利要求1所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，其中， 設(shè)如下的值為滯彈性變形量B:從下表面?zhèn)戎С兴龃庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經(jīng)過5小時的時候的平坦度和解除載荷之后經(jīng)過48小時的時候的平坦度之差的絕對值， 這種情況下，所述滯彈性變形量B為3.0 m以下。
3.如權(quán)利要求1或2所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，其中， 從下表面?zhèn)戎С兴龃庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經(jīng)過5小時的時候的平坦度即滯彈性變 形量C為5.5 y m以下。
4.一種磁記錄介質(zhì),其特征在于,使用了權(quán)利要求1 3中任一項所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種在形成磁記錄介質(zhì)時錯誤的發(fā)生率較低的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板及使用了該磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的磁記錄介質(zhì)。本發(fā)明中，在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上，設(shè)如下的值為滯彈性變形量A從下表面?zhèn)戎С猩鲜龃庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對上述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經(jīng)過5小時的時候的平坦度和施加載荷之前的平坦度的差的絕對值，這種情況下，上述滯彈性變形量A為4.2μm以下。
文檔編號C03C19/00GK103172276SQ20121056084
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月22日
發(fā)明者田先雷太, 大塚晴彥 申請人:旭硝子株式會社