專利名稱：一種瓷片及其制造方法
技術領域：
本發明涉及建筑陶瓷生產技術領域，更具體地涉及ー種瓷片及其制造方法。
背景技術：
在建筑陶瓷生產技術領域，瓷片是指表面具有釉面層的陶質磚，其磚坯吸水率一般為10 18%，多采用二次燒エ藝，即先進行素燒，再對燒后的素坯經施釉、印花等エ序后，二次燒成。當然也有大于二次燒的多次燒エ藝，例如需要多次施釉的腰線瓷片，會采用三次乃至更多次燒成。如申請號為200910041423. 7的發明專利中所介紹，現有瓷片生產エ藝中的施釉エ序為淋釉的方式，具體多為鐘罩式淋釉エ藝。當然，采用如上エ藝主要與瓷片的應用范圍有關。現有的裝修使用習慣，多將瓷片用于廚房和衛生間裝修，因為這些地方水汽油污等較多，因此需要一層較厚的釉面來防污，同時為了便于清潔，面釉多采用釉面粽眼氣孔較少的光澤釉或亞光釉。現有瓷片的釉面層厚度大于0. 6mm，對于ー些特殊的腰線類產品 會更厚一些，較厚的釉面對坯釉一致性要求較高，若坯釉的匹配性不好，使用后很容易出現龜裂等缺陷。同時瓷片的裝飾效果多是依靠在釉面層上印花，在光澤的釉面上印花很容易脫落；另外，因瓷片的淋釉エ藝限制，對于具有凹凸紋路的坯體，若凹陷和凸起達到一定高度(> 2mm)，就很容易出現斷釉的缺陷；而且較厚的光澤釉面很難獲得古樸典雅的效果，也會難以辨認瓷片坯體上的立體紋路。所以目前的瓷片除了一些特制的腰線或噴墨定制類產品外，附加值多很低。
發明內容
針對背景技術中所提到的技術問題，本發明提供一種瓷片及其制造方法。需要說明，本發明中所稱的瓷片是指背景技術中所提到的表面有釉面層的陶質磚，磚坯吸水率為10 18%。本發明所提供的瓷片具有較薄的底釉層和面釉層，通過噴釉的方式形成上述底釉層和面釉層。較薄的釉層可以緩解因坯釉匹配性問題造成的龜裂缺陷，同時也可以突出坯體上的立體紋路效果，并且可以解決立體紋路凹凸起伏過大造成的斷釉缺陷。在上述方案中，選用亞光釉作為面釉，再形成印花層，可以獲得古樸典雅的仿古磚效果，同時也可以在其表面進行其它裝飾，進ー步豐富裝飾效果。另外，目前酒店大堂或展廳等單層高度較高的建筑的室內裝修為追求高檔的裝飾效果，多采用瓷質仿古磚作為內墻或立柱外立面裝修材料，同時出于安全考慮，需要采用干掛鋪貼的方式施工，干掛鋪貼可以保障鋪貼的牢固性，但是干掛鋪貼需要安裝干掛支架，因此成本高，エ期長。而上述新エ藝制備的具有仿古效果瓷片的坯體吸水率較高，屬于陶質產品，因此其對水泥砂漿的吸附カ較強，同時瓷片的厚度較磚類產品薄，因此采用水泥砂漿等粘貼的鋪貼方式也可以滿足安全性能要求。本發明提供一種瓷片，其包括坯體層，底釉層，面釉層，印花層，其中所述的底釉層厚度為0. 1 0. 4mm,所述的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm。根據本發明提供的瓷片，其中所述的底釉層和面釉層的施釉方式為噴釉。
根據本發明提供的瓷片，其中所述印花層位于底釉層和面釉層之間。根據本發明提供的瓷片，其中所述面釉層為亞光釉。根據本發明提供的瓷片，其中所述印花層上還可以有ー層透明釉層。根據本發明提供的瓷片，其中所述印花層還可以位于底釉層之上，面釉為透明釉。根據本發明提供的瓷片，優選地，其中所述印花層上有隨機分布的點狀顆粒裝飾物。 根據本發明提供的瓷片，其中所述點狀顆粒裝飾物為直徑為0. 5 3mm的釉滴燒后形成的。根據本發明提供的瓷片，其中坯體層上具有凹凸紋路，底釉層、面釉層、印花層隨坯體層上的凹凸紋路起伏。本發明還提供一種制造上述瓷片的方法，其包括如下步驟原料球磨除鐵、噴霧造粒、粉料沖壓成型、素燒、施底釉、施面釉、印花、二次釉燒、揀選分級，其中所述施底釉和施面釉步驟是通過噴釉方式形成。根據本發明提供的制造方法，其中施底釉所形成的底釉層厚度為0. 1 0. 4mm。根據本發明提供的制造方法，其中施面釉所形成的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm。根據本發明提供的制造方法，其中印花步驟為貼花、絲網、滾筒、噴墨中的ー種或多種組合。根據本發明提供的制造方法，優選地，其中粉料沖壓成型所用模具的模腔內具有凹凸紋路。根據本發明提供的制造方法，優選地，其中印花步驟可以在施底釉和施面釉之間，面釉為透明面釉。根據本發明提供的制造方法，優選地，可以施面釉后進行印花，然后再施ー層透明釉后進行二次釉燒。根據本發明提供的制造方法，優選地，可以在印花后，在印花層上噴灑點狀的顆粒裝飾物。根據本發明提供的制造方法，優選地，所述點狀的顆粒狀裝飾物為直徑為0. 5 3mm的釉滴。本發明的技術方案和現有技術相比，具有如下優點。1、使用噴釉的方式形成底釉層和面釉，可以較現有的淋釉エ藝獲得更薄的底釉層和面釉層，較薄的釉層可以緩解因坯釉匹配性問題造成的龜裂缺陷，抗凍性更好。2、較薄的底釉層和面釉層可以突出坯體上的立體紋路效果，使整個產品更具細膩的立體感，同時也可以解決現有淋釉エ藝中因立體紋路凹凸起伏過大而出現的斷釉缺陷。3、選擇較薄的亞光釉面釉層可以獲得古樸典雅的裝飾效果，使之更為高檔。4、應用范圍更為廣泛，施工便捷，其高吸水率的坯體，能更好的吸附水泥砂漿等粘接劑，另外，瓷片厚度較仿古磚薄，也使墻體單位面積重量低，能在很多傳統需要干掛鋪貼施工處采用常規的水泥砂漿或粘接劑鋪貼的方式施工。施工便捷，エ期短，成本低。5、其較現有的瓷片產品，底釉層和面釉層厚度降低，因此原料成本更低。
附圖1為本發明實施例1產品橫截面示意圖。附圖2為本發明實施例2產品橫截面示意圖。附圖3為本發明實施例3產品橫截面示意圖。附圖4為本發明實施例4產品橫截面示意圖。附圖標號說明101—還體層；201—底軸層；301—面軸層；401—印花層；501—透明釉保護層；601—點狀的顆粒裝飾物。
具體實施例方式為了更好的說明本發明的技術方案，參照附圖，并提供如下具體實施例。通過以下描述，本領域技術人員可以很好的理解本方案，并且更容易了解其帶來的優點。需要說明的是，附圖內容只為說明技術方案的示意圖，并非按照實際比例繪制，其中為了說明某些特 征，會對局部特征進行放大或縮小。同時為了節約說明書篇幅，對于本領域技術人員公知的或ー些背景專利中提到的技術將會做ー些省略。實施例1。參照附圖1，本實施例提供ー種瓷片產品，其自下而上的依次為坯體層101、底釉層201、面釉層301、印花層401，其中底釉層厚度約為0. 2mm，面釉層厚度約為0. 1mm。制備方法包括如下步驟。(1)原料球磨除鐵。本步驟中，選用瓷片生產技術中常規配方即可。即以長石、石英、粘土、滑石等常規原料為主要成分的原料，經球磨、除鐵、陳腐均化。(2)噴霧造粒。將步驟(1)中除鐵后陳腐均化好的漿料入噴霧干燥塔噴霧造粒，噴霧造粒后形成顆粒狀粉料，粉料含水率3 7%。(3)粉料沖壓成型。將步驟(2)中制得的粉料經布料后，送入壓機沖壓成型。本實施例產品規格為300 X 300mm，模具系數為1. 1。(4)素燒。沖壓成型的坯體經干燥窯干燥后入輥道窯進行素燒，燒成溫度1120°C，燒成周期為60分鐘。(5)施底釉。素燒后的坯體經揀選分級后，置于施釉輸送帶上，灑水將坯體表面潤濕，經水刀式噴釉機噴底釉，底釉為瓷片生產エ藝公知的遮蓋カ較強、白度較高的化妝土。施釉時釉漿比重為1. 53,此規格產品單件還體用釉量約為30克，施釉后底釉層厚度約為0. 2_。而目前使用淋釉エ藝中，相同的基料配方，但底釉釉漿淋釉時比重為1. 8，此規格產品單件用釉量約為65克，釉層厚度約為0. 45mm。因此噴釉エ藝和目前淋釉エ藝相比，其底釉厚度和用釉量都降低了一半。節約了一定生產成本。(6)施面釉。采用水刀式噴釉機施面釉，面釉為亞光釉，其配方干料組分質量比為熔塊類助熔劑59%，高嶺土 /煅燒高嶺土 16%，煅燒滑石5%，氧化鋁5%，氧化鋅9%，碳酸鋇6%。外加干料總重0. 05%的羧甲基纖維素、0. 3%的三聚磷酸鈉、35%的水球磨。球磨后釉漿的325目篩余1 2%，流動性< 100S。施釉時釉漿比重為1. 59。單件坯體用釉量約為15g，釉層厚度約為0. 1mm。現有淋釉エ藝中，相同配方的釉料，但施釉時釉漿的比重為1. 92，單件用釉量約為32g/片，釉層厚度約為0. 25mm。噴釉エ藝可以較目前淋釉エ藝釉層厚度降低一半，且用釉量也少減少為目前淋釉エ藝的一半。需要說明上述熔塊類助熔劑為購自廣東三水大鴻制釉有限公司的鋯基乳濁熔塊，當然業內其他熔塊助熔劑生產企業的類似產品也能獲得相同效果。本實施例中給出的企業和熔塊種類只為便于本領域技術人員實施本專利，但不構成對本專利的限制。對于本領域技術人員，因只需給出熔塊的種類(透明或乳濁)及相應的燒成溫度(本實施例中步驟(8)給出)，就很容易知道選擇何種熔塊，井能根據使用條件及賽格爾式確定其相應用量。(7)印花。本實施例采用希望陶瓷機械有限公司生產的四色噴墨打印系統，墨水采用西班牙 意達加(esmaglass · itaca)公司所生產的粉紅、黃色、棕色、藍色墨水。(8) 二次釉燒。二次釉燒采用輥道窯，燒成溫度為1080°C，燒成周期約為40分鐘。(9)揀選分級。對二次釉燒的產品進行揀選分級，當然若產品尺寸有偏差或需要拋磨，也可以包括磨邊和拋光エ序。本實施例所提供的產品，因其磚坯吸水較高，對水泥等粘接劑的吸附作用較好，而且面釉層為亞光釉，與印花圖案有機結合，可以替代目前干掛仿古磚類產品用于高處裝修。對比實施例及測試結果。為了說明本方法相較現有制造方法的先進之處，選用與實施例1相同エ藝制備的一次燒成素坯，采用淋釉エ藝制備對比實施例瓷片，具體為采用鐘罩式淋釉機淋釉，底釉和面釉的干料配方如實施例1，施釉エ藝為，底釉釉漿比重為1. 8，施釉厚度為0. 45mm，面釉釉漿比重為1. 92，施釉厚度為0. 5mm。印花后與實施例1相同的燒成制度燒成。分別挑選實施例1與對比實施例所制備的釉面質量良好的瓷片各100片，參照GB/3810. 12-2006《陶瓷磚試驗方法第12部分抗凍性的測定》的實驗方法進行實驗，經100次融凍實驗后，釉面質量良好，涂紅墨水測試，均無龜裂。說明兩種方法制備的瓷片均達到國標。為了進一歩測試兩者抗凍性，我們將GB/3810. 12-2006中凍融測試溫差提高，改為-10°C和10°C之間循環，100次凍融循環后，我們發現，實施例1中制備的瓷片表面無明顯裂紋，涂抹紅墨水后，也無細碎的龜裂紋路出現；對比實施例中的瓷片，有3片表面出現明顯裂紋，涂抹紅墨水后，有24片表面出現細碎的龜裂紋路。由此可以說明本方案所制備的瓷片在抗凍性和坯釉匹配性上要優于現有技術中采用淋釉エ藝釉層較厚的瓷片。實施例2。參照附圖2，本實施例提供ー種瓷片產品，其自下而上依次為坯體層101、底釉層201、印花層401、面釉層301，其中底釉層厚度為0. 4mm，面釉層厚度為0. 2mm，面釉層為透明軸。本實施例制備方法基本如實施例1，所不同的是1、底釉層噴釉的用釉量約為實施例1中的一倍。2、形成底釉層后先進行噴墨印花形成印花層401，再噴面釉層，面釉層為透明釉，面釉層厚度為0.2_。透明釉干料組分為出產自廣東三水大鴻制釉有限公司的透明熔塊95%，高嶺土 5%。球磨時，外加干料重量0. 06%的甲基纖維素、0. 15%的三聚磷酸鈉、32%的水；混合球磨。釉漿325目篩余2 3. 5%，流動性彡100S，施釉時釉漿比重為1. 87。本方案中印花層位于底釉和面釉之間，面釉為透明釉，即可以讓印花圖案得以呈現，又能很好的保護印花層，避免其使用過程磨損而造成的圖案模糊。實施例3。參照附圖3，為保護印花層，本實施例提供ー種瓷片產品，其自下而上的依次為坯體層101、底釉層201、面釉層301、印花層401，透明釉保護層501，其中底釉層201厚度為0. 1mm,面釉層301為亞光釉，其厚度為0. 05mm,透明釉保護層501厚度為0. 1mm。其制備方法與實施例1基本相同，所不同的是底釉和面釉的用量約為實施例1的一半，其厚度也為實施例1的一半。増加一歩在印花層上施透明釉保護層的步驟，透明釉的·組分與實施例2中的透明釉組分相同。用量約為15. 5g/片。在本實施例中，雖然增加了一道施透明釉保護層的步驟，但與實施例2相較，因為印花層處面釉層和透明釉保護層之間，面釉層為白度較高的亞光釉面，印花圖案更為清晰，同時能避免分層缺陷出現。因為底釉層的主要作用是遮蓋坯體中對釉面質量有影響的成分，緩解坯釉應力，其多很粗糙，燒成溫度低于坯體，但遠遠高于面釉層，所以，在其表面印花分辨精度會降低，而且容易失真，特別是，噴墨印花層在底釉層和面釉層之間還會加大分層危險，因為噴墨印花油墨與底釉層在燒成過程中產生液相的潤濕角很大。實施例4。參照附圖4，本實施例提供ー種瓷片產品，其自下而上的依次為坯體層101、底釉層201、面釉層301、印花層401，印花層上還有分散的點狀的顆粒裝飾物601。其制備方法與實施例1基本相同，所不同的是在印花后増加一步噴灑點狀的顆粒裝飾物的步驟，本實施例中，點狀裝飾物為較大的透明釉滴燒后形成的。透明釉滴直徑為
0.5 3mm，用量為2 5g/片。實施例5。本實施與實施例1基本相同，所不同的是坯體層101上表面有凹凸紋理，其上的底釉層201、面釉層301、印花層401都隨坯體層101上表面的凹凸紋理起伏。當然，以上實施例所給出的方案可以相互組合使用，而且會有相應拓展。例如本發明的另ー個實施例是在實施例2的基礎上增加一步噴灑點狀裝飾物的步驟，點狀裝飾物選擇為含有色料的乳濁釉。本發明提供另ー個實施例，其印花層是通過滾筒印花的方式形成。本發明提供另ー個實施例，其印花層是通過絲網印花的方式形成。本發明提供另ー個實施例，其印花層是通過絲網印花和滾筒印花組合的方式形成。本發明提供另ー個實施例，其印花層是通過絲網印和噴墨印花組合的方式形成。通過組合印花可以克服ー些現有エ藝的缺陷，例如目前噴墨印花的灰度高于60則容易出現噴頭阻塞，印花層拉絲的現象，絲網和滾筒印花的分辨精度不高。將兩者或多者組合使用可以彌補以上缺陷，獲得深色、分辨率高的印花圖案，而且可以在噴墨印花前或后進行補色，エ藝設置十分靈活。當然，貼花エ藝也適用本方法，也可以與其它印花エ藝組合使用。本發明提供另ー個實施例，其中所噴灑的點狀裝飾物為含有色料的透明釉基釉滴。本發明提供另ー個實施例，其中所噴灑的點狀裝飾物為直徑為0. 5 3mm的透明無色熔塊顆粒。本發明提供另ー個實施例，其中所噴灑的點狀裝飾物為直徑為0. 5 3mm的有色的単色熔塊或多種顏色熔塊顆粒組合。表面的點狀裝飾物除了増加裝飾效果外，還有防滑的效果，這在現有瓷片中是沒有的，在衛浴空間內，大家多重視地面的防滑，但墻體材料的防滑也很重要，表面凸起的點 狀裝飾物，可以增大光澤釉面的摩擦力，洗浴時，倚靠墻面不易滑倒，能有效防止意外傷害。本發明提供另ー個實施例，其坯體層101如實施例5類似，都具有凹凸紋理，所不同的是水刀式噴釉機中噴釉的噴槍為> 6個噴槍構成的噴槍組，每個噴槍合一沿其固定軸轉動，使噴嘴與施釉面角度可以隨坯體上紋路的圖案進行相應調整，調整角度為30 90°，這樣可以使凹凸紋理的側面也能獲得較均勻的釉層，降低因立體紋路中凹凸起伏過大而出現斷釉缺陷的風險。因此應該理解為，在以上實施例所提供的方案可以進行交叉組合，對于ー些業內公知的替換也應該理解為未能脫離本發明所給出的指示范圍，同時需要說明，本發明所列舉的坯體、底釉組分和燒成制度等僅為提供示例性描述，不構成對本發明的限制。本發明在應用上可以延伸為其他的修改、變化、應用和實施例，并且因此認為所有這樣的修改、變化、應用、實施例都在本發明的精神和教導范圍內。
權利要求
1.本發明提供一種瓷片，其包括坯體層，底釉層，面釉層，印花層，其特征是，所述的底釉層厚度為0. I 0. 4mm,所述的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm。
2.如權利要求I所述的瓷片，其特征是，所述的底釉層和面釉層的施釉方式為噴釉。
3.如權利要求2所述的瓷片，其特征是，所述印花層位于面釉層之上，面釉層為亞光軸。
4.如權利要求2所述的瓷片，其特征是，所述印花層位于底釉層和面釉層之間，面釉為透明釉。
5.如權利要求3所述的瓷片，其特征是，所述印花層上還有一層透明釉保護層。
6.如權利要求3所述的瓷片，其特征是，所述印花層上有隨機分布的點狀顆粒裝飾物。
7.如上述I 6中任意一項權利要求所述的瓷片，其特征是，所述坯體層上具有凹凸紋路，底釉層、面釉層、印花層隨坯體層上的凹凸紋路起伏。
8.如權利要求I所述的瓷片制造方法，其包括如下步驟原料球磨除鐵、噴霧造粒、粉料沖壓成型、素燒、施底釉、施面釉、印花、二次釉燒、揀選分級，其特征是，所述施底釉所形成的底釉層厚度為0. I 0. 4mm,所述施面釉所形成的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm,施底釉和施面釉步驟是通過噴釉方式形成。
9.如權利要求8所述的瓷片制造方法，其特征是，所述印花步驟為貼花、絲網、滾筒、噴墨中的一種或多種組合。
10.如權利要求8所述的瓷片制造方法，其特征是，所述印花步驟在施底釉和施面釉之間，面釉為透明面釉。
全文摘要
本發明提供一種瓷片及其制造方法。本發明所提供的瓷片其包括坯體層，底釉層，面釉層，印花層，其中所述的底釉層厚度為0.1～0.4mm，所述的面釉層厚度為0.05～0.2mm。其制造方法包括如下步驟原料球磨除鐵、噴霧造粒、粉料沖壓成型、素燒、施底釉、施面釉、印花、二次釉燒、揀選分級，其中所述施底釉所形成的底釉層厚度為0.1～0.4mm，所述施面釉所形成的面釉層厚度為0.05～0.2mm，施底釉和施面釉步驟是通過噴釉方式形成。較薄的釉層可以緩解因坯釉匹配性問題造成的龜裂缺陷，同時也可以突出坯體上的立體紋路效果，并且可以解決立體紋路凹凸起伏過大造成的斷釉缺陷。因其坯體吸水率較高，使用水泥砂漿粘貼的方式鋪貼于高處，也能保證安全，施工便捷，工期短，成本低。
文檔編號C04B41/89GK102951932SQ20121051736
公開日2013年3月6日 申請日期2012年12月6日 優先權日2012年12月6日
發明者劉章寶, 徐艦, 唐遠兵 申請人:廣東金牌陶瓷有限公司