專利名稱：一種在玻璃上制作標識的方法
一種在玻璃上制作標識的方法
技術領域：
本發明涉及標識制作領域，特別是玻璃標識制作領域。
背景技術：
傳統的在玻璃上制作標識的方法主要有以下幾種(I)網印油墨，這是目前在玻璃上制作商標的主要方法，通過網版印刷工藝，將油墨印制在玻璃上形成圖案，然后在高溫下烘干、燒結制成標識。油墨由有機溶劑、低熔玻璃粉和填料組成，其有機溶劑在烘干時大量揮發，并且油墨的清洗需要更多的有機溶劑，如二甲苯，這需要比較繁瑣的后期處理，易污染環境。(2)蝕刻法，它是利用材料和玻璃之間物理化學反應，在玻璃上制作標識的方法， 如公開號為CN1209421A的中國專利公開了一種用于汽車玻璃防盜標識制作的蝕刻劑，也適用于在其他玻璃上蝕刻各種標識圖案。但是這種方法制作的標識圖案是沒有顏色的，紋理很不清晰。(3)直接粘貼，它是直接把制好的標識粘貼在玻璃上，但長時間使用，標簽會磨損或脫落。目前，市場已廣泛應用節能玻璃，尤其是低輻射玻璃。低輻射玻璃又稱Low-e玻璃，是在玻璃表面鍍上多層金屬或化合物組成的膜系產品。其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，使玻璃產品具有優異的節能性能，因此被廣泛地應用于建筑玻璃和汽車玻璃上。Low-e鍍膜是由多層膜層構成的，以銀(Ag)層為主要功能層，根據需要Ag層可為純Ag膜，也可適量添加其他元素，如Cu。Ag層介于介質層和介質層之間形成“三明治結構”， 介質層不僅可以是單層膜層，還可以是由多個單層，比如金屬層、氧化物層、氮化物層或者它們的組合構成的復合層。低輻射膜層典型結構如圖I和圖2所示。低輻射玻璃按生產工藝可分為在線低輻射玻璃和離線低輻射玻璃，本文所指低輻射玻璃為離線低輻射玻璃。由于離線低輻射玻璃屬于軟涂層玻璃，耐磨性和牢固度比不上在線低輻射玻璃。而其主要功能層銀層透光低、反光高，且很容易受到腐蝕或機械磨損，所以需要配合介質層，起到加強連接、保護銀層、提高透光率和調整顏色等作用。不同介質層的選取和搭配會造成低輻射玻璃的不同性能，本文所指低輻射玻璃是可以經受400°C以上高溫熱處理的Low-e玻璃，尤其是可鋼化Low-e和可烘彎Low-e。如公開號為CN101585667A 的中國專利，其公開了一種可烘彎的低輻射玻璃，該可烘彎低輻射鍍膜玻璃的膜層結構自玻璃基板向外依次為玻璃基板/Si0xNy/ZnSn0x/Ti0y/Ag/Ti0x/ZnSn0y/SixNy。這里本文將TiOx/ZnSnOy/SixNy視為第一介質層，SiOxNy/ZnSnOx/TiOy視為第二介質層，銀層介于第一介質層和第二介質層之間。
發明內容本發明的目的在于解決上述在玻璃上制作標識的傳統方法存在的問題，提供了一種利用低輻射玻璃制作標識的新方法。為了實現上述目的，本發明所采取的技術方案是ー種在玻璃上制作標識的方法， 包括第一玻璃板、沉積在第一玻璃板的低福射膜層和待制作標識的第二玻璃板，所述低福射膜層從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質層、銀層和第二介質層，其特征在于還包括以下步驟I)對第一玻璃板上低輻射膜層的第一介質層進行刻蝕，刻蝕方向為從外至第一玻璃板方向，刻蝕厚度為第一介質層厚度的10-90%，使第一介質層顯出標識所對應的圖形；2)將第一玻璃板和第二玻璃板配對，使刻蝕后的低輻射膜層與第二玻璃板貼合， 間距小于0. 2mm ；3)將配對后的兩塊玻璃板在400°C以上熱處理，使指定的標識出現在第二玻璃板上。本發明的優點在于實施簡單，對環境無污染，生產的標識圖案清晰，且耐酸堿性、 耐摩擦性好，使用壽命長，具有很好的商業前景。
圖I是低輻射玻璃的單銀Low-e膜典型結構圖；圖2是低輻射玻璃的雙銀Low-e膜典型結構圖；圖3是刻蝕后的第一玻璃板上Low-e膜層結構示意圖；圖4是本發明配對后的第一玻璃板以及功能膜層和第二玻璃板的結構示意圖；圖5是本發明的エ藝流程圖。
具體實施方式—種在玻璃上制作標識的方法，包括第一玻璃板I、沉積在第一玻璃板I的低福射膜層2和待制作標識的第二玻璃板3，所述低輻射膜層2從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質層21、銀層22和第二介質層23，其特征在于還包括以下步驟I)對第一玻璃板I上低輻射膜層2的第一介質層21進行刻蝕，刻蝕方向為從外至第一玻璃板方向，刻蝕厚度為第一介質層21厚度的10-90%,使第一介質層21顯出標識所對應的圖形；2)將第一玻璃板I和第二玻璃板3配對,使刻蝕后的低福射膜層2與第二玻璃板 3貼合，間距小于0. 2mm ；3)將配對后的兩塊玻璃板在400°C以上熱處理，使指定的標識出現在第二玻璃板 3上。其中，所述第一介質層21厚度至少為20nm,刻蝕厚度至少為2nm ；所述第一介質層21和/或第二介質層23可為單層膜，也可為由金屬膜、氧化物膜、氮化物膜或者它們的組合構成的復合膜層；刻蝕方法可采用激光刻蝕或可印刷蝕刻介質刻蝕，激光刻蝕可采用紅光(波長為 1064nm)、綠光(波長為532nm)或紫外光(波長為0_380nm)進行刻蝕，可印刷的蝕刻介質可以為蝕刻糊、蝕刻膏以及蝕刻油墨；所述玻璃板為浮法玻璃。
本發明所指的低輻射膜層為可耐高溫熱處理，一般介質層都比較致密或有Ag層保護層，使其在高溫狀態下，能夠保護Ag層，避免或減少Ag層氧化。但如果采用蝕刻方法把Ag層上方的介質層給刻蝕掉，而不刻蝕掉Ag層，那么膜層刻蝕部位的Ag層在高溫狀態下，就易擴散到配片玻璃表面或內部，在玻璃表面和玻璃內部發生復雜的物理化學反應，從而使第二板玻璃所對應的部位變黃，形成黃色的標識。以下結合附圖對本發明的內容作進ー步說明實施例I首先對浮法玻璃原片按照所需尺寸進行切割，制作配對的第一玻璃板I和第二玻璃板3，清洗干燥后采用以下步驟制作I)采用磁控濺射方法在第一玻璃板I上依次沉積中國專利CN101585667A例I 中所述的Low-e膜層2，銀層22以上的第一介質層21為TiO1VZnSnO2VSi3N4,總厚度為 49. 5nm ；2)米用激光刻蝕方法在Low-e膜2刻蝕,刻蝕方向為從外至第一玻璃板方向，刻蝕深度20nm，使第一介質層21上呈現“FY”字樣的刻蝕圖案。刻蝕后的第一玻璃板I上 Low-e膜層2結構如圖3所示。其中，激光刻蝕可采用紅光(1064nm)、綠光(532nm)或紫外 (0-380nm)進行刻蝕；3)將第一玻璃板I和第二玻璃板3配對，指在第一玻璃板I上加另一片清洗干凈的、未鍍膜的第二玻璃板3 (也稱為配片)，使第一玻璃板I的膜面和第二玻璃板3相貼,配對后的第一玻璃板I以及低輻射膜層2和第二玻璃板3的結構如圖4所示，中間加入適量的隔離粉；4)將已配對好的第一玻璃板I和第二玻璃板3進行600°C的烘彎熱處理，并在 600°C溫度下保溫3分鐘，整個熱處理過程不超過20分鐘，“FY”標識鏡像顯示在第二玻璃板3的相應位置,取出，完成標識制作。本實施例中制備標識方法的主要エ藝流程如圖5所示。該實施例I的標識是應用到汽車前擋低輻射鍍膜玻璃，有效結合汽車前擋低輻射玻璃制備エ藝，僅多出激光刻蝕標識圖案步驟，簡單方便，標識清晰持久。實施例2首先對浮法玻璃原片按照所需尺寸進行切割，制作配對的第一玻璃板I和第二玻璃板3，清洗干燥后采用以下步驟制作I)采用磁控濺射方法在第一玻璃板I上依次沉積中國專利CN1300327A例8中所述的雙銀低輻射膜層2，離第一玻璃板I最遠的銀層22上的第一介質層21為鈦/氧化鋅 /52-48錫酸鋅/鈦，總厚度約為24nm ；2)米用蝕刻膏刻蝕方法在低福射膜層2刻蝕,刻蝕方向為從外至第一玻璃板方向，刻蝕深度20nm，使第一介質層21上呈現“FY”鏡像圖形的刻蝕圖案，其中，蝕刻膏可以采用公開號為CN101600779A的中國專利所描述的蝕刻膏進行絲網印刷刻蝕；3)將第一玻璃板I和第二玻璃板3配對，指在第一玻璃板I上加另一片清洗干凈的、未鍍膜的第二玻璃板3 (也稱為配片)，使第一玻璃板I的膜面和第二玻璃板3相貼，中間加入適量的隔離粉；4)將已配對好的第一玻璃板I和第二玻璃板3進行550°C的烘彎熱處理，并在550°C溫度下保溫4分鐘，整個熱處理過程不超過25分鐘，“FY”標識顯示在第二玻璃板3的相應位置，取出，完成標識制作。該實施例與實施例I的區別在于低輻射膜層為雙銀Low-e膜層，且膜層結構不同， 刻蝕方式改為用蝕刻膏進行蝕刻，這樣降低成本，也能取得同樣的效果。以上內容是對本發明所述的ー種在玻璃上制作標識的方法進行了具體描述，但是本發明不受以上描述的具體實施方式
內容的局限，所以凡依據本發明的技術要點進行的任何改進、等同修改和替換等，均屬于本發明的范圍。
權利要求
1.ー種在玻璃上制作標識的方法，包括第一玻璃板、沉積在第一玻璃板的低福射膜層和待制作標識的第二玻璃板，所述低輻射膜層從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質層、銀層和第二介質層，其特征在于還包括以下步驟D對第一玻璃板上低輻射膜層的第一介質層進行刻蝕，刻蝕方向為從外至第一玻璃板方向，刻蝕厚度為第一介質層厚度的10-90%，使第一介質層顯出標識所對應的圖形；2)將第一玻璃板和第二玻璃板配對，使刻蝕后的低輻射膜層與第二玻璃板貼合，間距小于0. 2mm ；3)將配對后的兩塊玻璃板在400°C以上熱處理，使指定的標識出現在第二玻璃板上。
2.根據權利要求I所述的在玻璃上制作標識的方法，其特征在于所述低輻射膜層可以經受400°C以上高溫熱處理。
3.根據權利要求I所述的在玻璃上制作標識的方法，其特征在于所述第一介質層厚度至少為20nm。
4.根據權利要求I所述的在玻璃上制作標識的方法，其特征在于所述第一介質層和/ 或第二介質層可為單層膜，也可為由金屬膜以及氧化物膜層組成的復合膜層。
5.根據權利要求I所述的在玻璃上制作標識的方法，其特征在于刻蝕方法可采用激光刻蝕或可印刷蝕刻介質刻蝕，激光刻蝕可采用波長為1064nm的紅光、波長為532nm的綠光或波長為0-380nm的紫外光進行刻蝕，可印刷蝕刻介質可以為蝕刻糊、蝕刻膏以及蝕刻油星。
6.根據權利要求I所述的在玻璃上制作標識的方法，其特征在于所述玻璃板為浮法玻璃。
全文摘要
本發明提供了一種在玻璃上制作標識的方法，涉及標識制作領域，包括第一玻璃板、沉積在第一玻璃板的低輻射膜層和待制作標識的第二玻璃板，所述低輻射膜層從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質層、銀層和第二介質層，其特征在于還包括以下步驟首先，對第一玻璃板上低輻射膜層的第一介質層進行刻蝕，使第一介質層顯出標識所對應的圖形；其次，將第一玻璃板和第二玻璃板配對，使刻蝕后的低輻射膜層與第二玻璃板貼合；最后，將配對后的兩塊玻璃板在400℃以上熱處理，使指定的標識出現在第二玻璃板上。優點是實施簡單，對環境無污染，生產的標識圖案清晰，且耐酸堿性、耐摩擦性好，使用壽命長，具有很好的商業前景。
文檔編號C03C23/00GK102603211SQ20121006545
公開日2012年7月25日 申請日期2012年1月12日 優先權日2012年1月12日
發明者何立山, 盧國水, 朱謐, 林柱, 福原康太, 袁軍林 申請人:福耀玻璃工業集團股份有限公司