專利名稱：玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室的制作方法
技術領域：
玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室技術領域[0001]本實用新型涉及玻璃鍍膜技術領域，特別涉及一種玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室。
背景技術：
[0002]在真空鍍膜設備中經常需要使用到鋁靶，而在實際的工藝生產中，采用鋁靶進行鍍膜時，并非所有的濺射粒子都會濺射到工件上，部分粒子會在容器內壁和傳動輥等零件上沉積，長時間后會形成一層致密的鋁層，這種鋁層累積到一定程度后需要清理，否則會影響真空系統的抽氣速度，同時也影響鍍膜質量。在目前使用的真空鍍膜設備中，鋁靶濺射后鋁層直接貼附于容器內壁和傳動輥上，清理時一般采用鋼刷刷、錘子敲打、磨機打磨、鏟子鏟等方法，但這些方法使用時操作麻煩、清理也不夠徹底，還容易損壞各零部件，影響生產效率和工件質量。實用新型內容[0003]本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供一種鋁層清理較為方便快速的玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室。[0004]本實用新型的技術方案為一種玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室，包括容器體、鋁靶和傳動輥，鋁靶和傳動輥均設于容器體內部，鋁靶設于傳動輥上方，所述容器體內壁和傳動輥外表面上分別設有碳層。[0005]所述碳層的厚度為1 2mm。[0006]作為一種優選方案，所述容器體內，位于鋁靶下方的側壁及容器體底面分別設置碳層。由于位于鋁靶上方的容器體內壁及其它零部件受到鋁靶濺射的幾率小很多，所以當需要節省碳層用料時，可以只在鋁靶下方的側壁及容器體底面上設置碳層即可。[0007]為了使容器體內各個零部件的清理都較為方便，除了容器體內壁及傳動輥外，設于容器體內的各零部件表面也可設置碳層。[0008]本玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室使用時，其原理是真空鍍膜工藝室使用前，預先在容器體內壁及各個傳動輥上涂覆碳層；真空鍍膜工藝室使用時，鋁靶濺射過程中落到容器體內壁及各傳動輥等零件上的鋁粒子與碳層結合在一起；真空鍍膜工藝室需要清理時， 只要采用硬物輕敲，鋁層與碳層同時脫落，清理過程快速方便，對工藝室內各零部件的損害也較小。[0009]上述原理中，涂覆碳層時，只要將碳塊加入溶液中，攪拌溶解后，將溶液均勻涂覆到容器體內壁及各個傳動輥或其它零部件上，待溶液風干后即在容器體內壁及各個傳動輥或其它零部件上分別形成碳層。[0010]本實用新型相對于現有技術，具有以下有益效果[0011]本玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室結構簡單，在現有真空鍍膜工藝室的基礎上增加碳層，使鋁靶濺射時鋁層與碳層結合在一起，清理時只要采用硬物輕敲，鋁層與碳層同時脫落，整個清理過程快速方便，對工藝室內各零部件的損害也較小，而碳的價格較低，所以對玻璃鍍膜工藝的成本影響也不大。
[0012]圖1為本玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室的結構示意圖。
具體實施方式
[0013]下面結合實施例及附圖，對本實用新型作進一步的詳細說明，但本實用新型的實施方式不限于此。[0014]實施例[0015]本實施例一種玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室，如圖1所示，包括容器體1、鋁靶2和傳動輥3，鋁靶2和傳動輥3均設于容器體1內部，鋁靶2設于傳動輥3上方，容器體內壁和傳動輥外表面上分別設有碳層4。[0016]碳層4的厚度可為1 2_。[0017]作為一種優選方案，在容器體內，可只在位于鋁靶下方的側壁及容器體底面分別設置碳層。由于位于鋁靶上方的容器體內壁及其它零部件受到鋁靶濺射的幾率小很多，所以當需要節省碳層用料時，可以只在鋁靶下方的側壁及容器體底面上設置碳層即可。[0018]為了使容器體內各個零部件的清理都較為方便，除了容器體內壁及傳動輥外，設于容器體內的各零部件表面也可設置碳層。[0019]本玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室使用時，其原理是真空鍍膜工藝室使用前，預先在容器體內壁及各個傳動輥上涂覆碳層；真空鍍膜工藝室使用時，鋁靶濺射過程中落到容器體內壁及各傳動輥等零件上的鋁粒子與碳層結合在一起(形成如圖1中所示的鋁沉積層 5)；真空鍍膜工藝室需要清理時，只要采用硬物輕敲，鋁層與碳層同時脫落，清理過程快速方便，對工藝室內各零部件的損害也較小。[0020]上述原理中，涂覆碳層時，只要將碳塊加入溶液中，攪拌溶解后，將溶液均勻涂覆到容器體內壁及各個傳動輥或其它零部件上，待溶液風干后即在容器體內壁及各個傳動輥或其它零部件上分別形成碳層。[0021]如上所述，便可較好地實現本實用新型，上述實施例僅為本實用新型的較佳實施例，并非用來限定本實用新型的實施范圍；即凡依本實用新型內容所作的均等變化與修飾， 都為本實用新型權利要求所要求保護的范圍所涵蓋。
權利要求1.玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室，包括容器體、鋁靶和傳動輥，鋁靶和傳動輥均設于容器體內部，鋁靶設于傳動輥上方，其特征在于，所述容器體內壁和傳動輥外表面上分別設有碳層。
2.根據權利要求1所述玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室，其特征在于，所述碳層的厚度為1 2mm。
3.根據權利要求1所述玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室，其特征在于，所述容器體內，位于鋁靶下方的側壁及容器體底面分別設置碳層。
專利摘要本實用新型公開一種玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室，包括容器體、鋁靶和傳動輥，鋁靶和傳動輥均設于容器體內部，鋁靶設于傳動輥上方，容器體內壁和傳動輥外表面上分別設有碳層。本玻璃鍍膜用的真空鍍膜工藝室結構簡單，在現有真空鍍膜工藝室的基礎上增加碳層，使鋁靶濺射時鋁層與碳層結合在一起，清理時只要采用硬物輕敲，鋁層與碳層同時脫落，整個清理過程快速方便，對工藝室內各零部件的損害也較小，而碳的價格較低，所以對玻璃鍍膜工藝的成本影響也不大。
文檔編號C03C17/09GK202322637SQ20112045622
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月17日 優先權日2011年11月17日
發明者朱建明 申請人:肇慶市科潤真空設備有限公司