專利名稱：：雙銀復合結構的低反射高遮陽的低輻射鍍膜玻璃及工藝的制作方法
技術領域：
：本發明涉及一種鍍有雙銀層、復合電介質層及復合吸收層的低反射率和高效遮陽低輻射鍍膜玻璃。
背景技術：
：-市場上現有鍍有雙銀層的低輻射鍍膜玻璃，但普遍高透遮陽系數較高，而中低透透射的玻璃能滿足低遮陽系數的要求但反射率又偏高，故尚沒有同時滿足低遮陽系數和低反射率的雙層銀的鍍膜玻璃。
發明內容本發明目的，為了能同時滿足低遮陽系數和低反射率的雙層銀的鍍膜玻璃，提供一種雙銀復合結構的低反射高遮陽的低輻射鍍膜玻璃及生產工藝；該玻璃結構自玻璃基板向外依次為玻璃/電介質層(1)/復合吸收層(1)/銀層(1)/保護層(1)/復合電介質層(1)/銀層(2)/保護層(2)池介質層(2);其中電介質層(O為Sn02，膜層厚度為35nm40nm;銀層(1)、(2)為Ag;膜層厚度為10nm12nm;復合吸收層(1)為NiCr/陶瓷ZnOx保護層(1)、(2)為NiCr;膜層厚度為12nm14nm;復合電介質層(1)為Ti(VSn02/TiOx/ZnO結構；膜層厚度為100nm110nm;電介質層(2)為Si3N4;膜層厚度為35nm40nm;本發明采用真空磁控濺射鍍膜工藝，各膜層的鍍制工藝是電介質層(1)，通過交流陰極的錫靶在氧氬氛圍中濺射；復合吸收層(1),通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20，并在鎳鉻合金上鍍有由交流陰極的陶瓷鋅耙濺射的ZnOx層，其氬氧比例保持在20:1.5;銀層(1)、(2)，通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射；保護層(1)、(2)，通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20;復合電介質層(1)，通過交流陰極的氧化鈦靶、錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射；電介質層(2)，通過交流陰極的硅鋁合金靶在氮氬氛圍中濺射，硅鋁合金之比為Si:Al=90:10。本發明優點是，具有紅外線反射能力強，膜層表面輻射率低遮陽系數低且反射率低等優良特性的玻璃。與傳統的低輻射雙銀玻璃相比，由于中間鍍制了有復合電介質層間隔的兩層銀層，使得輻射率大大降低，并且玻璃的遮陽性能又有更大提高，而且由于復合了吸收層，使得產品保留了本身低輻射率的性能上，吸收率得到極大提高，可以按客戶要求在同時滿足中透射率和低遮陽系數的前提下，有效抑制反射率，使其能符合目前很多城市已出臺的限制玻璃的可見光反射率法規，避免了常見的低遮陽系數和低透射高反射之間的矛盾。低反射率和高效遮陽低輻射鍍膜玻璃的主要用途為建筑幕墻、用窗玻璃，可以達到降低玻璃表面輻射率，提高玻璃隔熱性能。在獲得高遮陽性能的同時，實現可見光的中低透過率和中低反射率，同時顏色中性，外觀效果自然柔和，具有廣闊的應用范圍和市場前景。復合電介質層(l)采用TiOx/Sn02/TiOx/ZnO結構，是因為TiOx有折射率高(折射率n=2.352.65),吸收率低的特點，使膜層獲得高的透射值；Sn02的折射率較TiOx的折射率低，這樣，他們之間由于半波反射的原理，可以使得透射值有很大的提高。TiOx/Sn02/TiOx連續鍍制，構成的復合膜層可以極大的提高透射率，使得上層的銀層(2)為滿足降低輻射率的要求而厚度增加時，整體膜層仍然保持較高的透射率。通過調整各膜層的厚度和互相之間的比例，甚至是工藝氣體的分布比例，可以方便的把產品的透射率在60%~80%之間進行調節。同時，光在多層膜之間反射時，由于干涉原理，只要合理調節和分配各膜層厚度，就可以較便利得控制膜層顏色，使最終整體膜層的顏色中性。ZnO層的作用是降低膜層的輻射率。這是由于作為復合電介質層頂層的ZNO和Ag之間有較好的浸潤性，使得同樣厚度的Ag層鍍在ZnO上比直接鍍在TiOx上能達到更低的輻射率。數據表明在其他膜層結構和厚度不變的情況下，單層鍍制90nm的Sn02后，膜層的總透射值為70%，而用TiOx/Sn02/TiOx/ZnO結構取代單層Sn02結構，鍍制相同厚度的復合電介質層后，膜層總透射值可以達到近80%。而通過復合電介質層和復合吸收層、保護層的厚度氣體調節，可以輕而易舉的將透射值降至60以下。同時，因為SnO2單層膜層在90mn左右變化時，最終膜層顏色透射色坐標W值和玻璃面反射色坐標M值相反變化，這樣，就很難使得產品的透射和反射顏色達到所需的中性顏色。使用TKVSnCVTi(VZnO結構后，合理分配膜層厚度，可以使鍍膜玻璃的玻璃面顏色和透射顏色都呈中性。復合吸收層為NiCr/陶瓷ZnOx其中陶瓷ZnOx在氬氧氣氛圍中濺射得出的ZnOx膜層，其氬氧比例保持在20:1.5左右。輸入微量的氧氣目的是補充濺射過程中ZnOx圓靶在純氬狀態下濺射可能出現的失氧狀態，保持濺射下的ZnOx物質單一穩定。鎳鉻合金的作用是有效的降低產品的透射值并且降低其遮陽系數，但單純鍍厚鎳鉻合金層以降低透射值和遮陽系數的副作用是產生極高的反射值。為了達到低遮陽低反射的效果，我們在鍍鎳鉻合金層上鍍了ZnOx層，通過光譜的互相干涉作用，使得在保有原吸收率的前提下，反射率大幅度下降。通過不斷調整試驗，利用NiCr/ZnOx復合吸收層在光譜中與其他層互相干涉所能起到的低反射中吸收的作用，有效的使得最終產品在保證原有的透射值和低遮陽系數的基礎上降低了產品的反射率，使其能符合目前很多城市己出臺的限制玻璃的可見光反射率法規(即光污染問題)。具體實施例方式本發明用平板玻璃雙端連續式鍍膜機，包括11個交流陰極，10個直流陰極，采用下表列出的工藝參數，使用8個交流雙靶，5個直流單靶，共13個靶位進行生產，制出本發明低反射率和高效遮陽低輻射鍍膜玻璃，其工藝參數和靶的位置列表如下低反射率和高效遮陽低輻射鍍膜玻璃耙位分布及工藝參數<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>用上述工藝參數制出的玻璃光學性能如下:玻璃可見光透過率T=60.0%可見光玻璃面反射率=14%可見光玻璃面色坐標&*值=-1色坐標15*值=-2.7可見光透射色坐標&*值=-3.2色坐標1)*值=3.1玻璃的輻射率e=0.031。？本發明制成中空玻璃間隔為12mm充空氣窗結構，按照ISO10292標準測定的數據如下可見光透過率T=54%可見光玻璃面反射率(Out)=16%可見光玻璃面反射率(In)=16%太陽能透過率丁=30%太陽能反射率(Out)=30%G-value=0.36遮陽系數SC-0.41傳熱系數U=1.61W/m2K。權利要求1、一種雙銀復合結構的低反射高遮陽的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于在玻璃基板鍍制多層膜層的結構，各膜層結構，自玻璃基板向外依次為玻璃/電介質層(1)/復合吸收層(1)/銀層(1)/保護層(1)/復合電介質層(1)/銀層(2)/保護層(2)/電介質層(2)；其中電介質層(1)為Sn02，膜層厚度為35nm～40nm；銀層(1)、(2)為Ag；膜層厚度為10nm～12nm；復合吸收層(1)為NiCr/陶瓷ZnOx；膜層厚度為12nm～14nm；保護層(1)、(2)為NiCr；膜層厚度為1nm～2nm；復合電介質層(1)為TiOx/SnO2/TiOx/ZnO結構；膜層厚度為100nm～110nm；；電介質層(2)為Si3N4；膜層厚度為35nm～40nm。2、一種雙銀復合結構的低反射高遮陽的低輻射鍍膜玻璃鍍制工藝，其特征在于該玻璃采用真空磁控濺射鍍膜工藝。3、按權利要求2所述雙銀復合結構的低反射高遮陽的低輻射鍍膜玻璃鍍制工藝，其特征在于各膜層的鍍制工藝是-電介質層(1)，通過交流陰極的錫靶在氧氬氛圍中濺射；復合吸收層(1)，通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20，并在鎳鉻合金上鍍有由交流陰極的陶瓷鋅靶濺射的ZnOx層，其氬氧比例保持在20:1.5;銀層(1)、(2)，通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射；保護層(1)、(2)，通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20;復合電介質層(1)，通過交流陰極的氧化鈦靶、錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射；電介質層(2),通過交流陰極的硅鋁合金靶在氮氬氛圍中濺射，硅鋁合金之比為Si:Al=90:10。全文摘要本發明提供一種雙銀復合結構的低反射高遮陽的低輻射鍍膜玻璃及鍍制工藝，該玻自玻璃基板向外的結構層依次為玻璃/電介質層(1)/復合吸收層(1)/銀層(1)/保護層(1)/復合電介質層(1)/銀層(2)/保護層(2)/電介質層(2)；采用真空磁控濺射鍍膜工藝，優點是，具有紅外線反射能力強，膜層表面輻射率低，在獲得高遮陽性能的同時，實現可見光的中低透過率和中低反射率等優良特性的玻璃。文檔編號C03C17/36GK101148329SQ200710045930公開日2008年3月26日申請日期2007年9月13日優先權日2007年9月13日發明者斌吳,孫大海,安吉申,李志軍,王茂良申請人:上海耀華皮爾金頓玻璃股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司