用于信息記錄介質的玻璃基質和應用該玻璃基質的信息記錄介質的制作方法

專利名稱：用于信息記錄介質的玻璃基質和應用該玻璃基質的信息記錄介質的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于信息記錄介質的玻璃基質和應用該玻璃基質的信息記錄介質。更具體地說，涉及一種用于信息記錄介質的玻璃基質，該玻璃基質可以完全滿足信息記錄介質所需要的物理性能，而不包含砷和銻化合物(這類化合物通常被用作精煉劑但是對環境有害)，以及涉及應用上述玻璃基質的信息記錄介質。
近年來，由于電子學技術的發展，特別地，以電腦為代表的信息技術，對信息記錄介質例如磁盤、光盤和磁光盤的需要快速增長。電腦的磁存儲器的主要部件等等是用于復現磁性記錄資料的磁記錄介質和磁頭。已知作為磁記錄介質的有軟盤和硬盤。用于硬盤(磁盤)的基質材料包括鋁基質、玻璃基質、陶瓷基質、碳基質等等。然而，事實上鋁基質和玻璃基質的使用主要地取決于容量和用途。最近，筆記本式電腦的硬磁盤驅動器的尺寸在減小，而其磁性記錄密度在增加，所以磁頭的浮動間隙正在減小。因此磁盤基質的表面平滑度要求滿足很高的精度。然而，鋁合金的硬度低，如果使用高精度的研磨劑和拋光機拋光鋁盤，那么拋光面經受塑性變形，所以它難以生產精度級別高于特定級別的平面。例如，即使用鎳-磷鍍覆鋁合金的表面，也不可能生產平均表面粗糙度Ra為20埃或更少的表面。此外，隨著硬磁盤驅動器的尺寸和厚度的減小，也強烈要求減小用于磁盤的基質的厚度。然而，因為鋁合金強度低和剛性低，所以對于保持硬磁盤驅動器技術規范需要的預定強度，難以減少磁盤的厚度。
在這種情況下，具有高強度、高剛性、高耐震強度和高表面光潔度的玻璃襯底已經開始用于磁盤。玻璃襯底在表面光潔度和機械強度方面是優良的，因此作為現在的和有前途的襯底引起了人們注意。
因此已經研究了用作信息記錄介質的玻璃襯底的許多玻璃。例如，JP-B-47-1949，JP-A-5-32431和JP-A-10-1329公開了可化學增強的玻璃和化學已增強的玻璃，JP-A-9-356234公開了主要結晶相由焦硅酸鋰相和β-鋰輝石相或β-鋰輝石固溶形成的玻璃，和JP-A-11-116267公開了比模量至少為36×106Nm／kg的玻璃。
同時，通常的做法是使用砷和銻化合物作為熔融態玻璃的精煉劑。雖然這些化合物在清除氣泡作用方面是優良的，但是這些化合物可能在生產玻璃的步驟和再循環步驟中對環境產生有害影響，所以它們的使用受到限制。
因此，例如，JP-A-10-72238公開了具有一種特殊組成的可化學增強的鋁硅玻璃，其中摻入了SnO2和F2，實質上沒有摻入As2O3和Sb2O3作為精煉劑。
然而，就用作信息記錄介質的上述玻璃襯底的玻璃來說，事實是沒有不含砷化合物或銻化合物的玻璃。
因此，本發明的目的是提供用于信息記錄介質的玻璃襯底，其不含作為精煉劑的砷和銻化合物，且可以滿足信息記錄的襯底所需要的物理性能，例如優良的表面光潔度、高的楊氏模量、高的比模量等等，并提供應用上述玻璃襯底的信息記錄介質。
本發明人為達到上述目的進行了努力的研究并發現下列結果。由包含預定量的特殊的組分和包含基于上述特殊的組分總量的具體數量比的氧化錫和氧化鈰的玻璃形成的襯底，或由從包含具體數量比的C、SO3和H2O的玻璃材料中獲得玻璃形成的襯底，可以滿足上述作為信息記錄介質的玻璃襯底的目的。于是，在上述發現的基礎上完成了本發明。
也就是說，根據本發明，提供用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的該玻璃含有35-70％的SiO2、0-15％的Al2O3、3-30％的Li2O+Na2O、1-45％的CaO、3-45％的CaO+MgO和0．1-30％的TiO2，且含有上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅰ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的，該玻璃含有60-75％的SiO2、2-10％的Al2O3、8-20％的Li2O、3-15％的Na2O和2-10％的ZrO2，Na2O／ZrO2摩爾比率為0．1-8，和Al2O3／ZrO2摩爾比率為0．2-5，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅱ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由含有SiO2-Al2O3-R2O的可化學增強玻璃形成的(其中R為堿金屬)，具有下列組成，該玻璃含有總量為98mol％以上的SiO2、Al2O3和R2O，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅲ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的，該玻璃含有45-85％的SiO2、4-32％的Al2O3、8-30％的Na2O+Li2O(只要Li2O的數量不超過Na2O和Li2O總量的70％)和2-13％的ZnO、F2或兩者(只要F2的量小于8％)，(Li2O+Na2O)／Al2O3摩爾比率為2／3-4／1，SiO2、Al2O3、Na2O、Li2O、F2和ZnO總含量為至少90mol％，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅳ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成，該玻璃含有35-65％的SiO2、5-25％的Al2O3、10-40％的MgO、5-15％TiO2、0．8-10％的Y2O3和0-3％的ZrO2，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅴ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成，該玻璃含有25-52％的SiO2、5-35％的Al2O3、0-7％的Li2O、15-45％的MgO、0-17％的Y2O3、0-25％的TiO2、0-8％的ZrO2、1-30％的CaO和0-5％的B2O3+P2O5，Y2O3、TiO2、ZrO2和CaO總含量為5-30mol％，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅵ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成，該玻璃含有60-70％的SiO2、2-15％的Al2O3、6-20％的Li2O、2-9％的Na2O、0-3％的K2O、0-5％的MgO、1-7％的CaO、0-5％的SrO、0-2％的BaO、0-5％的TiO2、0-2％的Fe2O3、0-1％的MnO、0-5％的ZrO2和0-2％的Y2O3，Li2O、Na2O和K2O總含量為10-25mol％，MgO、CaO、SrO和BaO總含量為2-15mol％，TiO2、Fe2O3和MnO總含量為0．01-3mol％，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅶ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由含有作為主要結晶相的焦硅酸鋰(Li2O·2SiO2)的玻璃形成，該玻璃(mol％)含有65-85％的SiO2、8-30％的Li2O、l-10％的Al2O3和0-5％的P2O5，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅷ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成的玻璃形成，該組成(mol％)含有30-65％的SiO2、5-35％的Al2O3、5-35％的ZnO、0-20％的MgO、0．5-25％的CaO+SrO+BaO+B2O3+La2O3+Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2O5+WO3+Bi2O3(只要CaO+SrO+BaO的含量為0-20％，B2O3的含量為0-10％，La2O3+Y2O3+Gd2O3的含量為0-20％，而且Ta2O5+Nb2O3+WO3+Bi2O3的含量為0-10％)，1-15％的TiO2，0-7％的ZrO2+P2O5+SnO2(只要ZrO2的含量為0-2％，和P2O5的含量為0-5％)，和0-5％構成上述金屬氧化物的至少一種金屬元素的氟化物的F，而且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰(在下文中被稱為“玻璃襯底Ⅸ”)。
根據本發明，還提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由從一種玻璃材料中獲得的玻璃形成的，該材料含有基于玻璃組分數量的1-10mol％的至少一種選自作為精煉劑的C、SO3或H2O(在下文中“玻璃襯底Ⅹ”)。
根據本發明，還提供了具有用于信息記錄介質的上述玻璃襯底任何之一且在其至少部分表面上形成的磁層之信息記錄介質。
實現本發明的最好方式本發明用于信息記錄介質的玻璃襯底包括玻璃襯底Ⅰ到Ⅹ，和每一玻璃襯底是由一種玻璃組成形成，除了精煉劑外，該組分含有預定數量的選自SiO2、Al2O3、Li2O、Na2O、K2O、CaO、MgO、SrO、BaO、ZnO、Bi2O3、ZrO2、Y2O3、La2O3、Gd2O3、Ta2O5、Nb2O5、WO3、Bi2O3、Fe2O3、MnO、P2O5、B2O3和F。此外，每一玻璃襯底Ⅰ-Ⅸ的玻璃組成含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰作為精煉組分，而用于玻璃襯底Ⅹ的玻璃組成含有基于玻璃組分總量的1-10mol％的至少一種選自C、SO3或H2O作為精煉劑。
在本發明的玻璃襯底Ⅰ-Ⅸ的玻璃中，用作精煉劑的氧化錫通常是SnO或SnO2，而氧化鈰通常是Ce2O3或CeO2。可以單獨或組合使用這些精煉劑。此外，下面將描述這些精煉劑可以與C、SO3或H2O結合使用。
關于用作精煉劑的As2O3和Sb2O3的精煉作用，例如已經知道在玻璃原料熔化的最初階段As2O3變為As2O5，顯示出As2O3的精煉作用。雖然據說硝酸鹽的共同存在促進了As2O3變為As2O5(JP-A-11-49520)，但是硝酸鹽的共存會引起氮氧化物(NOx)出現和成本增加的問題。
相反，假設本發明中使用的SnO和SnO2的精煉作用是以下列反應流程(Ⅰ)為基礎的。
盡管上述SnO和SnO2的精煉作用與As2O3的作用相同，但其效果較差。當大量加入它們時，可以達到預期足夠的精煉效果。然而，當加入它們的數量太大時，會引起不良的情況，其中由于形成非熔化的物質而使玻璃質量差。出于精煉效果和防止形成非熔化的物質的考慮，玻璃中氧化錫的含量基于除了精煉劑外的玻璃組分總量為0．0001-10mol％，優選0．0001-7mol％，更優選0．0001-5mol％。
也可以認為Ce2O3和CeO2的精煉作用是基于下列反應流程(Ⅱ)。
盡管上述Ce2O3和CeO2的精煉作用與As2O3的精煉作用相同，但其效果較差。它們相對優選的是用于酸性玻璃(含有大量硅酸)。然而，隨著堿度的增加(因為堿金屬和堿土金屬氧化物的含量增加)，其效果勢必降低。當大量加入Ce2O3和CeO2時，可以預期達到充分的精煉效果。然而，當他們加入量太大時，玻璃在失透性方面開始變差，且引起玻璃著色，以及增加密度。考慮到玻璃的精煉效果和物理性能，玻璃中氧化鈰的含量基于除了精煉劑外的玻璃組分總量為0．0001-10mol％，優選0．0001-7mol％，更優選0．0001-5mol％。
當用上述氧化錫和上述氧化鈰代替As2O3和Sb2O3作為精煉劑時，不僅帶來了對環境不會產生有害影響的優點，而且可以預期可以帶來下列優點。
(1)氧化錫和氧化鈰的可容許的數量范圍大于As2O3和Sb2O3的范圍，所以可以更容易地控制精煉作用。可以加入As2O3的含量通常是大約0．1-0．6mol％，可以加入Sb2O3的含量通常是大約0．1-1mol％。如上所述，氧化錫和／或氧化鈰的含量為0．0001--10mol％，且其加入量為大約10mol％時，觀察到玻璃的物理性能實質上不會降低。
(2)可以減少硝酸鹽的含量，或可以不使用硝酸鹽。
(3)除了向下拉成形方法和壓制成形方法之外，可以應用浮法成型方法。當As2O3或Sb2O3用作精煉劑時，存在不能使用浮法成型方法的局限性。在浮法成型方法中，在金屬錫浴中流出玻璃形成玻璃制品。在這種情況下，錫擴散到玻璃中。例如當使用As2O3時，按照反應流程(Ⅲ)發生還原反應，(Ⅲ)并且，在玻璃中的金屬例如As或Sb沉淀物引起玻璃失色或質量改變，所以浮法成型方法不能應用于含有As2O3或Sb2O3的玻璃中。相反，當使用氧化錫或氧化鈰時，不涉及這種問題，且可以使用浮法成型方法。
在本發明的玻璃襯底Ⅰ-Ⅸ中，可以將As2O3和／或Sb2O3與上述氧化錫和上述氧化鈰一起結合到玻璃中，數量為小于基于除了精煉劑外的玻璃組分總量的0．05mol％。
在本發明玻璃襯Ⅹ中，至少一種C、SO3和H2O用作精煉劑。可以單獨使用或兩種結合或全部結合使用這些精煉劑。此外，可以與上述氧化錫和／或上述氧化鈰結合使用這些精煉劑。在上述精煉劑中，在玻璃熔化的最初階段和高溫下C以CO2的形式溶解，它通過產生CO2氣體而表現出精煉活性。當C的含量太大時，會引起不良的情況，其中由于氧化還原平衡改變，玻璃強烈地著色，或當使用鉑坩堝形成玻璃時，它與鉑形成合金。考慮到其精煉效果和上述原因，玻璃材料中C的含量，基于除了精煉劑外玻璃組分的總量，為1-10mol％，優選1-5mol％。
SO3于低溫下在玻璃中有高的溶解度，而在高溫下有低的溶解度。當含有SO3的玻璃熔體加熱到高溫時，SO3產生SO2和O2顯示出精煉效果。當增加SO3的含量時，或當減少SO3的含量時，對玻璃的性質影響不大。然而，當SO3的含量太大時，在熔融態玻璃表面上出現漂浮的非熔化的硫酸鹽，或留下白色氣泡，這使玻璃的質量惡化。此外，隨著氣體組分增加，在玻璃的溶化過程中引起可操作性變差。考慮到精煉效果、玻璃質量和可操作性，玻璃材料中SO3的含量(基于除了精煉劑外玻璃組分的總量)為1-10mol％，優選1-7mol％。SO3是以硫酸鹽或硫酸的形式提供的。
此外，H2O是以氫氧化物、分子水或水合物的形式供給的，且在玻璃原料溶化的最初階段，產生大量的水汽。然而，在溶化的最初階段，相對低溫的情況下，有時堿金屬的硅酸鹽、碳酸鹽，硝酸鹽等等反應形成熔化物，而且因為熔化物具有高粘度，所以有時抑制了從玻璃熔體中釋放氣體。因為在溶化的最初階段H2O產生大量的水汽，攪拌形成的熔化物，所以H2O具有精煉效果。當加入H2O的數量太多時，氣體組分的含量增加，所以在溶化的過程中引起可操作性變差，而且引起玻璃質量變差。考慮到精煉效果和玻璃質量，玻璃材料中H2O的含量(基于除了精煉劑外玻璃組分的總量)為1-10mol％，優選1-7mol％。
當至少一種C、SO3和H2O代替As2O3或Sb2O3被用作精煉劑時，不僅有對環境不會引起有害影響的優點，而且還帶來下列優點。因為C、SO3和H2O的可容許的數量范圍大于As2O3或Sb2O3的數量范圍，所以可以容易控制精煉特性。此外，與使用上述氧化錫和氧化鈰相類似，可以減少硝酸鹽的含量，或可以不使用硝酸鹽，除向下拉拔成形方法和壓制成形方法之外，可以使用浮法成型方法。
當上述氧化錫和／或上述氧化鈰用作精煉劑時，其含量是基于在獲得的玻璃中除了精煉劑外玻璃組分的值。當C、SO3和H2O的任何一種用作精煉劑時，由于這些精煉劑由揮發而減少，其含量是基于在玻璃材料(玻璃的原材料)中除了精煉劑外玻璃組分的值。
在本發明的玻璃襯底X中，基于除了精煉劑外玻璃組分總量的小于0．05mol％的As2O3和／或Sb2O3，可以與上述C、SO3和H2O的任何一種一起摻入到玻璃中。
以下將說明本發明用于信息記錄介質的玻璃襯底的玻璃中除了精煉劑以外的玻璃組分。
SiO2是一種作為玻璃網絡形成體氧化物和增加玻璃網絡穩定性的組分，即結晶穩定性與失透性。此外，SiO2與氧化物例如Al2O3結合可以提高用于信息記錄介質的襯底所需要的機械性能，例如玻璃強度、剛度等等，而且它還可以改善玻璃的耐熱性。
Al2O3是一種賦予玻璃高的耐熱性和高的耐久性的非常重要的組分，且與SiO2結合是一種提高玻璃網絡的穩定性和剛度的組分。特別是當Al2O3代替一部分SiO2被引入玻璃中時，Al2O3進入玻璃的網絡中，并作為網絡形成物對提高玻璃的楊氏模量和耐熱性有大的作用。也就是說，Al2O3對提高玻璃的楊氏模量和玻璃的耐熱性是必不可少的。
Li2O是一種適合于提高玻璃的可熔性而不會降低玻璃的楊氏模量的玻璃組分，且它也是一種可以通過化學增強法增強玻璃的玻璃組分。而Na2O具有降低楊氏模量的作用，它是一種可以顯著地減小玻璃的液相線溫度的組分。K2O是一種提高玻璃可熔性的組分，并且在化學增強玻璃中，它在離子交換作用之后具有降低表面壓應力的作用。
CaO是一種適合于生產具有高的楊氏模量和具有低的液相線溫度的玻璃的組分。然而，CaO具有增加玻璃比重的作用。MgO也是適合于生產具有高的楊氏模量的玻璃的組分，而且與CaO比較，它還具有升高液相線溫度的作用。此外，MgO具有降低玻璃比重的作用。SrO和BaO是不僅對提高玻璃的可熔性，而且是降低玻璃的液相線溫度的有效組分。然而，這些組分具有增加玻璃比重的作用。
ZnO是一種組分，當其摻入較大數量時與Al2O3組分一起在玻璃材料的熱處理條件下產生作為主要晶體的鋅尖晶石，因此提高了玻璃的硬度和耐熱性。
TiO2起形成玻璃網絡組分和改性組分作用，它是一種減小玻璃高溫粘度而改善玻璃的可熔性和提高玻璃網絡的穩定性和耐久性的組分。當其摻入玻璃時，具有極大地提高玻璃楊氏模量的作用，而不會太增加玻璃的比重。
ZrO2是一種主要提高玻璃耐久性和剛度的組分。當摻入少ZrO2時，具有提高玻璃耐熱性的作用，以及它提高了玻璃結晶穩定性以防失透性。當ZrO2的含量太大時，引起在高溫下玻璃的可熔性變差，并且也引起玻璃的表面光潔度變差。
Y2O3是提高玻璃楊氏模量、提高玻璃結晶穩定性以及提高高溫下玻璃的耐久性和可熔性的一種組分。特別是當大量玻璃中引入Al2O3以提高玻璃的抗彎強度和抗震性時，Y2O3作為溶化Al2O3的助劑具有極好的效果。
La2O3、Gd2O3、Ta2O5、Nb2O5、WO3和Bi2O3是提高玻璃物理性能例如可熔性、硬度，化學耐久性等等的有效組分。當這些的含量太大時，降低玻璃的質量。
Fe2O3在熔融玻璃中處于Fe2+和Fe3+的離子平衡態，并且這些離子對熔融玻璃的透光率，特別是紅外線區的透射率有大的影響。當其含量太大時，紅外線區的吸收作用大，所以在溶化和形成玻璃的過程中難以控制玻璃溫度分布。MnO是一種通過改變Fe2+和Fe3+的平衡態和他們相互作用而改變透光率的有效組分。然而，當MnO的含量太大時，引起玻璃質量變差。
P2O5和B2O3是調節高溫下玻璃可熔性的組分。例如，當將少量的P2O5或B2O3摻入玻璃中時，玻璃的比模數變化不大，但是玻璃的高溫粘度大大減小，所以它對容易熔化玻璃有大的影響。
F通常是以氟化物的形式引入，而且是作為玻璃材料的溶化劑和對調節結晶有效的組分。當其含量太大時，難以獲得均勻的玻璃，該玻璃易于失透，而且它難以形成玻璃。
在本發明的玻璃襯底Ⅰ-Ⅸ中，除了精煉劑外玻璃組分的含量如下。在下文玻璃襯底中“％”代表“mol％”。
玻璃襯底Ⅰ該玻璃含有35-70％的SiO2、0-15％的Al2O3、3-30％的Li2O+Na2O、1-45％的CaO、3-45％的CaO+MgO和0．1-30％的TiO2，優選含有40-65％的SiO2、2-10％的Al2O3、3-27％的Li2O+Na2O、1-20％的CaO、5-40％的CaO+MgO和1-20％的TiO2。在上述玻璃中，可以用Y2O3或ZrO2代替部分TiO2。
用已知的方法可以化學增強上述的玻璃，該玻璃可以應用于玻璃襯底中。
玻璃襯底Ⅱ該玻璃含有60-75％的SiO2、2-10％的Al2O3、8-20％的Li2O、3-15％的Na2O和2-10％的ZrO2，且Na2O／ZrO2摩爾比率為0．1-8，和Al2O3／ZrO2摩爾比率為0．2-5，優選含有65-75％的SiO2、8-10％的Al2O3、10-17％的Li2O、5-12％的Na2O和2-7％的ZrO2，且Na2O／ZrO2摩爾比率為0．5-4．0，和Al2O3／ZrO2摩爾比率為0．3-4．0。
用已知的方法可以化學增強上述的玻璃，該玻璃可以應用于玻璃襯底Ⅱ中。
玻璃襯底Ⅲ該玻璃是一種含有SiO2-Al2O3-R2O的可化學增強的玻璃(其中R是堿金屬)，其組成含有總計98mol％以上的SiO2、Al2O3和R2O。
上述玻璃是一種可化學增強的玻璃，用一種已知的方法可以化學增強，且可以應用于玻璃襯底Ⅲ中。
玻璃襯底Ⅳ該玻璃組成含有45-85％的SiO2、4-32％的Al2O3、8-30％的Na2O+Li2O(只要Li2O的含量不超Na2O和Li2O總量的70％)和2-13％的ZnO、F2或兩者(只要F2的含量小于8％)，(Li2O+Na2O)／Al2O3摩爾比率為2／3-4／1，總含量至少為90％的SiO2、Al2O3、Na2O、Li2O、F2和ZnO。
用已知的方法可以化學增強上述的玻璃，該玻璃可以應用于玻璃襯底Ⅳ中。
玻璃襯底Ⅴ該玻璃組成含有35-65％的SiO2、5-25％的Al2O3、10-40％的MgO、5-15％TiO2、0．8-10％的Y2O3和0-3％的ZrO2，優選含有37-60％的SiO2、7-22％的Al2O3、12-38％的MgO、5．5-14％的TiO2、1-8％的Y2O3和0-3％的ZrO2。上述玻璃是一種結晶玻璃。
玻璃襯底Ⅵ該玻離組成含有25-52％的SiO2、5-35％的Al2O3、0-7％的Li2O、15-45％的MgO、0-17％的Y2O3、0-25％的TiO2、0-8％的、1-30％的CaO和0-5％的B2O3+P2O5，總含量為5-30％的Y2O3、TiO2、ZrO2和CaO，優選含有30-50％的SiO2、7-32％的Al2O3、0．5-6％的Li2O、22-40％的MgO、O．5-15％的Y2O3、1-20％的TiO2、0．5-6％的ZrO2、2-27％的CaO和0．5-3．5％的B2O3+P2O5，總含量為5．5-27％的Y2O3、TiO2、ZrO2和CaO。上述玻璃是一種高彈力玻璃。
玻璃襯底Ⅶ該玻璃組成含有60-70％的SiO2、2-15％的Al2O3、6-20％的Li2O、2-9％的Na2O、0-3％的K2O、0-5％的MgO、1-7％的CaO、0-5％的SrO、0-2％的BaO、0-5％的TiO2、0-2％的Fe2O3、0-1％的MnO、0-5％的ZrO2和0-2％的Y2O3，總含量為10-25％的Li2O、Na2O和K2O，總含量為2-15％的MgO、CaO、SrO和BaO，總含量為0．01-3％的Bi2O3、Fe2O3和MnO。
用已知的方法可以化學增強上述的玻璃，該玻璃可以應用于玻璃襯底Ⅶ中。
玻璃襯底Ⅷ該玻璃含有作為主要結晶相的焦硅酸鋰(Li2O·2SiO2)，且其組成含有65-85％的SiO2、8-30％的Li2O、1-10％的Al2O3和0-5％的P2O5，優選含有作為主要結晶相的焦硅酸鋰(Li2O·2SiO2)，且其組成含有65-85％的SiO2、8-20％的Li2O、5-10％的Al2O3和1-5％的P2O5。
上述玻璃是一種含有焦硅酸鋰(Li2O·2SiO2)作為主要結晶相的Li2O-SiO2-Al2O3玻璃陶瓷。為了降低玻璃的溶化和成型溫度，以及為了抑制成型過程中玻璃的失透性，根據需要上述玻璃可以含有不超過10％，優選不超過5％的Na2O或K2O。
玻璃襯底Ⅸ該玻璃組成含有30-65％的SiO2、5-35％的Al2O3、5-35％的ZnO、0-20％的MgO、0．5-25％的CaO+SrO+BaO+B2O3+La2O3+Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2O5+WO3+Bi2O3(只要CaO+SrO+BaOBaO的含量為0-20％，B2O3的含量為0-10％，La2O3+Y2O3+Gd2O3的含量為0-20％，而且Ta2O5+Nb2O5+WO3+Bi2O3的含量為0-10％)，1-15％的TiO2、0-7％的ZrO2+P2O5+SnO2(只要ZrO2的含量為0-2％，而且P2O5的含量為0-5％)，和0-5％的構成上述金屬氧化物的至少一種金屬元素的氟化物的F。上述SnO2組分用作作為輔助組分的成核劑。
當化學增強的玻璃用于上述玻璃襯底Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ和Ⅶ時，該化學增強方法沒有特別地限制。用已知的方法例如在含有Na離子和／或K離子的處理浴中使可化學增強的玻璃經過離子交換處理的方法可以進行化學增強。實質上，在等于或低于玻璃的熱變形溫度的溫度下和在熔鹽不分解的溫度下進行上述處理。因為處理浴中含有Na離子和／或K離子，優選使用硝酸鈉和／或硝酸鉀浴。然而，沒有強制限制使用硝酸鹽，可以使用硫酸鹽、硫酸氫鹽、碳酸鹽、碳酸氫鹽或鹵化物。當處理浴中含有Na離子時，Na離子與玻璃中的Li離子進行離子交換。當處理浴中含有K離子時，K離子與玻璃中的Li離子和Na離子進行離子交換。此外，當處理浴中含有Na離子和K離子時，該Na離子和K離子與玻璃中的Li離子和Na離子進行離子交換。由于上述的離子交換，用具有較大離子半徑的堿金屬離子代替該玻璃表面部分中的堿金屬離子，從而在玻璃表面部分形成變形層，因此在玻璃表面上形成壓應力，而在玻璃內部形成拉應力。因此以化學方法可增強該玻璃。
在本發明提供的用于信息記錄介質的玻璃襯底(玻璃襯底Ⅰ-Ⅹ)中，玻璃的楊氏模量優選為至少70GPa。當楊氏模量小于70GPa時，玻璃的強度不夠，所以難以獲得非常可靠的玻璃襯底。考慮到玻璃襯底的可靠性，該玻璃的楊氏模量優選具有至少80GPa。
此外，該玻璃的比模量優選具有至少30×106Nm／kg。當比模數小于30×106Nm／kg時，難以獲得非常可靠的玻璃襯底，該玻璃襯底可以應付驅動裝置的高速旋轉，且可減少厚度和增加記錄介質的記錄密度。考慮到玻璃襯底的可靠性，該玻璃的比模數優選具有至少32×106Nm／kg。術語“比模數”是指“楊氏模量／比重”，而楊氏模量是指根據隨后描述的方法通過測量獲得的值。
此外，玻璃襯底優選具有7μm或更小的最大表面粗糙度(Rmax)。當Rmax超過7μm時，難以達到較高的記錄密度。考慮到較高的記錄密度，Rmax更優選為5μm或更小。
用于信息記錄介質的玻璃襯底的玻璃(玻璃襯底Ⅰ-Ⅹ)通常著色，且在波長為400nm時的透射率通常不到10％。這種玻璃可用來改善制造信息記錄介質的過程中玻璃襯底的溫度增加能力，和用來改善用于信息記錄介質的玻璃襯底的缺陷試驗過程中的可見性。
當生產信息記錄介質時，在玻璃襯底上形成由金屬、合金、金屬化合物等等制成的層例如磁層。優選由濺射方法形成此層。在濺射方法中，通常通過帶有鹵素燈的聚光器將玻璃襯底加熱到200℃或更高。從上述光源發出的光的波長為250nm或更長，由上述有色玻璃制成的襯底吸收加熱源的光，所以短時期內玻璃襯底可以加熱到預定的溫度。因此，可以減少制造信息記錄介質的周期。
上述玻璃的液相線溫度優選為1400℃或更低，特別優選1360℃或更低。在這種情況下，通過壓制成形或向下拉拔成形法可容易地生產用于信息記錄介質的玻璃襯底。此外，在本發明中，通過浮法成型方法可以生產該玻璃襯底，因為該玻璃不要求含有As2O3和Sb2O3作為已經描述的精煉劑。
由本發明提供的用于信息記錄介質的玻璃襯底(玻璃襯底Ⅰ-Ⅹ)是由上述玻璃之一組成。不限制生產玻璃襯底的方法，可以使用任何已知的方法。例如，用直接的壓制方法將該玻璃直接形成圓盤形狀。另外，用向下拉拔成形方法、熔化法或漂浮法將該玻璃形成片狀，和將片狀形式的玻璃加工成圓盤形狀。然后，將該如此成型的玻璃研磨和拋光生產具有要求尺寸和要求形狀的用于信息記錄介質的玻璃襯底。
研磨和拋光步驟通常包括步驟(1)粗磨，(2)研磨(細磨)，(3)第一次拋光(拋光)和(4)第二次磨光(終拋光)。通過這些精確的拋光步驟，可以獲得最大表面粗糙度(Rmax)為7μm或更小的玻璃襯底，也可以獲得最大表面粗糙度(Rmax)為5μm或更小的玻璃襯底。
在用于信息記錄介質的玻璃襯底中，根據需要，用氫氟酸和硝酸的混合物濕蝕刻處理，通過形成不均勻的鋁層等等，或借助于激光或用紫外線輻照形成粗糙表面，這些可以使玻璃襯底的表面起紋理。
當信息記錄介質的玻璃襯底用于直徑為2．5英寸或較小的標準的信息記錄介質時，優選當玻璃襯底厚度h為1．0毫米時偏離完全平整度的最大平整度值為3．0μm或更小，而當玻璃襯底的厚度h為0．7毫米或更小時，平整度為2．0μm或更小。
本發明的玻璃襯底用作信息記錄介質例如磁盤、磁光盤或光盤的襯底。本發明的玻璃襯底特別優選作為磁盤的襯底。該磁盤沒有特別的限制。例如，本發明的玻璃襯底可以優選用于與低飛行高度磁頭相適合的磁盤，或用于與磁阻(MR)磁頭或巨大的磁阻(GMR)磁頭相適合的磁盤。
本發明的信息記錄介質具有上述玻璃襯底和在玻璃襯底的至少部分表面上形成的磁層。在上述玻璃襯底上通常可以通過連續地形成底層、磁層、保護層和潤滑層來生產本發明的信息記錄介質。
在本發明的信息記錄介質中，根據在其上面形成的磁層可適當選擇底層。例如，在由作為主要成分的Co制成的磁層中，從改善磁性能的觀點來看，該底層優選由Cr單質或Cr合金制成。
該底層是由選自選自非磁性金屬例如Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al等等至少一種材料制成。在由作為主要成分的Co制成的磁層中，從改善磁性能的觀點來看，該底層優選由Cr單質或Cr合金制成。此外，該底層不局限于單層，而且它可以有多層相同或不同類型的層狀結構。例如，該多層層狀結構包括多層底層例如Cr／Cr、Cr／Cr／Mo、Cr／CrV、CrV／CrV、Al／Cr／CrMo、Al／Cr／Cr、Al／Cr／CrV、Al／CrV／CrV。
在本發明中，在玻璃襯底和磁層之間，或在該磁層上面，可以形成不規則的成形層以防止磁頭和信息記錄介質的粘附。當提供了上述不規則成形層時，適當地調整信息記錄介質的表面粗糙度，就不會發生磁頭和信息記錄介質的粘附，所以可以獲得非常可靠的信息記錄介質。
已知許多種用于不規則成形層的原料及其形成方法，但是并不限制用于成形不規則成形層的材料和方法。優選使用較除本發明的上述玻璃襯底更高熔點的材料等等。用于不規則成形層的材料選自金屬例如Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、Si、Zr、Cr、Cu、Au、Sn、Pd、Sb、Ge和Mg，及其合金。這些金屬和合金可以單獨使用或組合使用。此外，上述材料也可選自選自上述金屬的氧化物、氮化物或碳化物。
考慮到形成不規則成形層的容易性及其作用，該材料優選是Al單質或含有鋁作為主要成分的金屬例如Al合金、氧化鋁或氮化鋁。
此外，考慮到磁頭粘附，不規則成形層的表面粗糙度優選為Rmax=50-300埃，優選Rmax=100-200埃。
當上述Rmax小于50埃時，信息記錄介質的表面接近平坦。因此，所不希望的是磁頭和信息記錄介質彼此粘附，結果可能損壞磁頭和信息記錄介質或粘附可能引起磁頭碰撞。此外，當Rmax超過300埃時，所不希望的是滑動高度開始變大，結果減小了記錄密度。
在本發明的信息記錄介質中，不限制用于磁層的材料，且根據需要它可以選已知的材料。該磁層包括由含有Co作為主要成分的材料例如CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr和CoNiPt制成的磁性薄膜，或CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrTaPt和CoCrPtSiO的磁性薄膜。該磁層可以有多層結構(例如CoPtCr／CrMo／CoPtCr或CoCrTaPt／CrMo／CoCrTaPt)，其中磁膜由非磁性的薄膜(例如Cr、CrMo或CrV)分開以減小噪音。
與磁阻磁頭(MR磁頭)或巨大的磁阻磁頭(GMR磁頭)相適合的磁層也包括將選自Y、Si、稀土元素、Hf、Ge、Sn或Zn雜質元素或任何一種這些雜質元素的氧化膜摻入含Co合金中而形成的磁層。
此外，該磁層可以是含有鐵氧體的磁層、含有鐵-稀土元素的磁層，或在由SiO2、BN等等制成的非磁性層中分散Fe、Co、FeCo、CoNiPt等等的磁粉而構成的粒狀磁層。此外，該磁層可以屬于任何記錄類型例如縱向記錄類型或垂直記錄類型。
在本發明的信息記錄介質中，對該保護層沒有特別地限制，且可包括Cr薄膜、Cr合金薄膜、碳膜、氧化鋯薄膜和二氧化硅薄膜。用直列式濺射裝置可以連續地形成保護層、底層、磁層等等。該保護層可以有單層的結構或相同或不同類型的多層結構。
在本發明中，可以在上述保護層上形成其他的保護層，或代替上述保護層。例如，代替上述保護層，用酒精溶劑稀釋四烷氧基硅烷，將膠態氧化硅微粒分散在其中制備涂覆溶液，涂覆該涂覆溶液并煅燒該涂覆的溶液，可以提供由此方法形成的二氧化硅(SiO2)薄膜。
在本發明的信息記錄介質中，該潤滑層沒有特別地限制。例如，用烯烴溶劑稀釋作為液體潤滑劑的全氟聚醚(perfluoropolyether)(PEPE)制備一種涂覆溶液，用浸漬方法、旋涂方法或噴霧法將該涂覆溶液涂覆到介質的表面上，以及選擇性地加熱該涂覆的涂層，由此形成潤滑層。
實施例在下文中將參考實施例更進一步詳細地說明本發明，而這些實施例不應該限制本發明。
用下列方法測量或評估玻璃的物理性能。
(1)楊氏模量使用一種完全退火的試樣，其尺寸為20毫米×20毫米×100毫米，測量5MHz超聲波的縱波速率。根據下列公式計算楊氏模量。
楊氏模量=(4G2-3G·V12·ρ)／(G-V12·ρ)G=Vs2·ρ其中G=剛性模量，V1=縱波速率(m／s)，Vs=橫波速率(m／s)，ρ=密度(g／cm3)。
(2)比模數比模數=楊氏模量／比重(3)熱膨脹系數用熱力學分析儀(TMA)測量試樣，并確定從100到300℃的平均熱膨脹系數。
(4)最大表面粗糙度(Rmax)用Digital Instruments Inc供給的AFM Mano Scope3A測量。
(5)液相線溫度將試樣放在鉑容器中，并保留在梯度溫度爐中30分鐘，然后通過光學顯微鏡觀察試樣表面和內部的晶體。沒有晶體沉淀的最低溫度被認為是液相線溫度。
(6)波長為400nm的透射率用Shimadzu Corporation提供的“MPS-2000”測量1．00毫米厚的玻璃板在波長為400nm時的透射率。
實施例1-28稱重原材料例如氧化物、氫氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氯化物、硫酸鹽、精煉劑，以便形成表1-5所示的氧化物組成，并混合制備原材料的混合物。將原材料的混合物分別地放入鉑坩堝中，被加熱到1，450-1550℃熔化，攪拌，均化和精煉。然后，將所得熔融態玻璃澆鑄入由鐵制成的模子中，并退火制成玻璃。表1-5表示了該玻璃的物理性能。
關于玻璃氧化物組成，實施例1-16與玻璃襯底Ⅰ的玻璃有關，實施例17與玻璃襯底Ⅱ的玻璃有關，實施例18與玻璃襯底Ⅲ的玻璃有關，實施例19-21與玻璃襯底Ⅶ的玻璃有關，實施例22和23與玻璃襯底Ⅷ的玻璃有關，實施例24-25與玻璃襯底Ⅸ的玻璃有關，實施例26與玻璃襯底Ⅴ的玻璃有關，實施例27與玻璃襯底Ⅵ的玻璃有關，以及實施例28與玻璃襯底Ⅳ的玻璃有關。
在實施例1-21以及28中的玻璃物理性能是由化學增強的玻璃獲得的。
表1
Y*=淡黃色，O*=橙色表2
YB*=淡黃棕色，Y*=淡黃色表3
Y*=淡黃色表4
Y*=淡黃色表5
DB*=暗棕色，C-Less*=無色注SO3是以硫酸鹽例如Na2SO4、Li2SO4或MgSO4的形式提供的，而H2O是以氫氧化物或水合物例如Al(OH)3、Mg(OH)2、Ca(OH)2、MgCl2·6H2O的形式提供。
實施例29用直接壓制方法將與實施例1的玻璃具有相同組成的玻璃制成直徑為2．5英寸和厚度為0．8毫米的玻璃襯底，并以化學方法增強該玻璃襯底。用直列式濺射裝置在上述每個玻璃襯底的表面上連續地形狀AlN紋理層、CrMo底層、CoPtCrTa磁層和碳保護層以制成磁盤。
將由此獲得的磁盤進行滑動測試，表明既不會碰撞(磁頭刮擦磁盤表面的凸起)也不會破碎(磁頭碰撞磁盤表面上的凸起)。
用于信息記錄介質的玻璃襯底的平均表面粗糙度(Ra)為5埃和平整度為1微米。
實施例30使用與實施例29相同的玻璃襯底。用直列式濺射裝置在每個玻璃襯底的表面上連續地形成由Al(層厚為50埃)／Cr(1，000埃)／CrMo(100埃)組成的底層、由CoPtCr(120埃)／CrMo(50埃)／CoPtCr(120埃)制成的磁層、和Cr(50埃)保護層。
將上述襯底浸入有機硅化合物溶液(水、異丙醇和四乙氧基硅烷的混合物)，其中SiO2顆粒(粒徑為100埃)已經分散在其中，將從溶液取出的襯底煅燒形成對每面具有紋理作用的SiO2保護層。此外，用由全氟聚醚制成的潤滑劑對每個保護層的表面浸漬處理，獲得與MR磁頭相適合的磁盤。
對由此獲得的磁盤進行滑動測試，表明既不碰撞也不破碎。也發現在各層例如磁層中沒有任何缺陷。
實施例31除了用Al／Cr／Cr制成的底層代替原來的底層，并且用CoNiCrTa制成的磁層代替原來的磁層之外，用和實施例30一樣的方法制得磁盤。該磁盤與實施例30有相同的結果。
根據本發明，不使用常規的砷和銻化合物(該化合物用作精煉劑但對環境造成有害影響)，可以獲得完全滿足信息記錄介質的襯底所需要的物理性能的由玻璃制成的玻璃襯底。例如，這種用于信息記錄介質的玻璃襯底適合作為磁盤的襯底、磁光盤的襯底和光盤的襯底。
權利要求
1．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由下列組成的玻璃形成的，該組成(mol％)含有35-70％的SiO2、0-15％的Al2O3、3-30％的Li2O+Na2O、1-45％的CaO、3-45％的CaO+MgO、和0．1-30％的TiO2，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
2．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的，該玻璃含有60-75％的SiO2、2-10％的Al2O3、8-20％的Li2O、3-15％的Na2O和2-10％的ZrO2，Na2O／ZrO2摩爾比率為0．1-8，和Al2O3／ZrO2摩爾比率為0．2-5，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
3．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由含有SiO2-Al2O3-R2O的可化學增強玻璃形成的(其中R為堿金屬)，該玻璃含有總量為98mol％以上的SiO2、Al2O3和R2O，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
4．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的，該玻璃含有45-85％的SiO2、4-32％的Al2O3、8-30％的Na2O+Li2O(只要Li2O的數量不超過Na2O和Li2O總量的70％)和2-13％的ZnO、F2或兩者(只要F2的量小于8％)，(Li2O+Na2O)／Al2O3摩爾比率為2／3-4／1，SiO2、Al2O3、Na2O、Li2O、F2和ZnO總含量為至少90mol％，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
5．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成，該玻璃含有35-65％的SiO2、5-25％的Al2O3、10-40％的MgO、5-15％TiO2、0．8-10％的Y2O3和0-3％的ZrO2，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
6．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的，該玻璃含有25-52％的SiO2、5-35％的Al2O3、0-7％的Li2O、15-45％的MgO、0-17％的Y2O3、0-25％的TiO2、0-8％的ZrO2、1-30％的CaO和0-5％的B2O3+P2O5，Y2O3、TiO2、ZrO2和CaO總含量為5-30mol％，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
7．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成(mol％)的玻璃形成的，該玻璃含有60-70％的SiO2、2-15％的Al2O3、6-20％的Li2O、2-9％的Na2O、0-3％的K2O、0-5％的MgO、1-7％的CaO、0-5％的SrO、0-2％的BaO、0-5％的TiO2、0-2％的Fe2O3、0-1％的MnO、0-5％的ZrO2和0-2％的Y2O3，Li2O、Na2O和K2O總含量為10-25mol％，MgO、CaO、SrO和BaO總含量為2-15mol％，TiO2、Fe2O3和MnO總含量為0．01-3mol％，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
8．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底由含有焦硅酸鋰(Li2O·2SiO2)作為主要結晶相的玻璃形成的，該玻璃含有(mol％)65-85％的SiO2、8-30％的Li2O、1-10％的Al2O3、和0-5％的P2O5、且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
9．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由具有下列組成的玻璃形成的，該玻璃含有(mol％)30-65％的SiO2、5-35％的Al2O3、5-35％的ZnO、0-20％的MgO、0．5-25％的CaO+SrO+BaO+B2O3+La2O3+Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2O5+WO3+Bi2O3(只要CaO+SrO+BaO的含量為0-20％，B2O3的含量為0-10％，La2O3+Y2O3+Gd2O3的含量為0-20％，且Ta2O5+Nb2O5+WO3+Bi2O3的的含量為0-10％)，1-15％的TiO2、0-7％的ZrO2+P2O5+SnO2(只要ZrO2，的含量為0-＜2％，且P2O5的含量為0-5％)，和0-5％的構成上述金屬氧化物中的至少一種金屬元素的氟化物的F，且含有基于上述玻璃組分總量的0．0001-10mol％的氧化錫和／或氧化鈰。
10．一種用于信息記錄介質的玻璃襯底，該玻璃襯底是由含有下列組成的玻璃形成的，該玻璃材料含有基于玻璃組分總量的1-10mol％的至少一種選自C、SO3或H2O作為精煉劑。
11．權利要求1-10之任一項的玻璃襯底，其具有至少70 GPa的楊氏模量。
12．權利要求1-11之任一項的的玻璃襯底，其比模數為至少30×106Nm／kg。
13．權利要求1-12之任一項的玻璃襯底，其最大表面粗糙度(Rmax)為7μm或更少。
14．權利要求1-13之任一項的玻璃襯底，其在400nm波長時的透射率小于10％。
15．權利要求1-14之任一項的玻璃襯底，其液相線溫度為1，400℃或更低。
16．一種信息記錄介質，其具有權利要求1-15之任一項的一種玻璃襯底，和在其至少部分表面上形成的磁層。
全文摘要
提供一種用于信息記錄介質的玻璃襯底,由可完全滿足信息記錄介質的襯底所需要的物理性能的玻璃組成。該玻璃襯底是由含有下列組成的玻璃形成的,該玻璃含有基于除任何精煉劑以外的玻璃組分總量的0.0001—10mol%的氧化錫和/或氧化鈰,或由含有下列組成的玻璃形成的,該玻璃含有基于玻璃組分總量的1—10mol%的至少一種選自C、SO
文檔編號C03C10/04GK1290665SQ0013386
公開日2001年4月11日 申請日期2000年9月8日 優先權日1999年9月8日
發明者橋本和明, 渡邊隆 申請人:保谷株式會社