一種導電布的專用生產設備的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種導電布的專用生產設備，包括鍍膜腔室、壓強控制系統、溫控系統、離子表面處理裝置以及真空抽氣系統；鍍膜腔室兩端分別設置有放卷裝置和收卷裝置，放卷裝置和收卷裝置之間設置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個鍍膜通道之間設置有冷卻輥，放卷裝置出來的導電布通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進行收卷，離子表面處理裝置設置放卷裝置出來的鍍膜通道前端兩側。通過本實用新型設備能夠增加被鍍導電層的附著力，解決現有技術中導電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導電層難度大的問題，使導電布在鍍膜后中不產生廢氣、廢水和廢物，避免了生產導電布對環境污染的影響。
【專利說明】
一種導電布的專用生產設備
技術領域
[0001]本實用新型涉及導電布領域，特別涉及一種導電布的專用生產設備。
【背景技術】
[0002]隨著電子技術的快速發展，人們生產和生活中使用的電子產品設備越來越多，而大多數的電子產品如微波爐、電冰箱、電熱毯、計算機、手機以及無線電、雷達發射裝置都會不同程度地產生電磁輻射。雖然電磁波傳播的滲透能力強，但是優良的導電或導磁材料可以用來屏蔽電磁波輻射，其中具有電磁屏蔽功能的導電布就是一種新興的電磁屏蔽材料，目前國際上最普遍使用的EMI導電布是鍍銅鍍鎳的導電布，其屏蔽效果達到99.999%。工業的發展特別是石油、化工、電子工業的快速發展，使靜電的危害逐漸引起人們的重視，與靜電同時存在的還有隨著科技發展帶來的電磁波對人類健康的危險，因此導電布經過長期的調研和開發其技術趨于成熟，并且在人們的生活、生產、工作、科研、軍事和航空航天等領域也得到廣泛使用。隨著智能手機、平板電腦等消費類電子產品的產品升級和技術升級，導電布用于消耗類電子設備中防止元件之間的相互電磁干擾，防止外界的電磁干擾已經變得必不可缺。隨著人們對健康、對產品質量、功能的要求越來越高，導電布的使用場合變的越來越多，巨大的市場空間將使導電布產業得到飛速發展。
[0003]現有的導電布的制備工藝中，一般包括真空電鍍、電鍍銅和電鍍鎳幾個步驟，具體過程為利用真空電鍍使布表面沉積一層金屬，沉積后布面導電化，然后利用電鍍銅加厚，達到所需要的導電性能，最后完成電鍍一層鎳進行保護。也有采用化學鍍方法先在基材上鍍一層較薄的導電金屬再進行水電鍍加厚鍍銅、鍍鎳，從而達到產品技術要求。
[0004]現有技術中導電布制作時，普遍采用滌綸布作為導電布的基材，即在滌綸布表明進行真空電鍍、電鍍銅和電鍍鎳處理，從而得到導電布。滌綸布具有強度高、彈性好、耐熱性好、耐磨性好等優點，但是滌綸布并不具有耐高溫性。采用滌綸布制作的導電布并不具有阻燃、防火以及隔熱的作用。
[0005]玻璃纖維(英文原名為:glass fiber或fiberglass)是一種性能優異的無機非金屬材料，具有絕緣性好、耐熱性強、抗腐蝕性好、機械強度高等優點，玻璃纖維通常用作復合材料中的增強材料、電絕緣材料和絕熱保溫材料，電路基板等國民經濟各個領域。玻璃纖維布是以玻璃球或廢舊玻璃為原料經高溫熔制、拉絲、絡紗、織布等工藝制造成的，其單絲的直徑為幾個微米到二十幾個微米，相當于一根頭發絲的1/20?1/5，每束纖維原絲都由數百根甚至上千根單絲組成。玻璃纖維布具有以下特點:1、用于低溫_196°C，高溫300°C之間，具有耐氣候性。2、非粘著性，不易粘附任何物質。2、耐化學腐蝕，能耐強酸、強堿、王水及各種有機溶劑的腐蝕。4、摩擦系數低，是無油自潤滑的最佳選擇。5、透光率達6?13%。6、具有高絕緣性能、防紫外線、防靜電。7、強度高，具有良好的機械特性。8、耐藥劑性。玻璃纖維布在工業上主要用于:隔熱、防火、阻燃。該材料在遭到火焰燃燒時吸收大量熱量并能阻止火焰穿過、隔絕空氣。因此若能夠將玻璃纖維布應用到導電布中，將使得導電布不僅僅有電磁干擾屏蔽功能，還具有不燃的特點，使得這種類型的導電布使用更加安全，但是由于玻璃纖維布具有非粘著性的特點，即在玻璃纖維布上沉積金屬導電層難度較大，這將阻礙以玻璃纖維布作為導電布基材技術的發展。而且現有的這種電鍍方法中，會產生廢氣廢水等污染環境。
【實用新型內容】
[0006]本實用新型的目的在于克服現有技術的缺點與不足，提供一種導電布的專用生產設備，該生產設備具有結構簡單，能夠實現導電布基材連續鍍膜的優點，通過該生產設備對導電布基材進行鍍膜時，能夠增加被鍍導電層的附著力，提高鍍膜效果。解決了現有技術中導電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導電層難度大的問題，能夠生產出更好的以玻璃纖維布為基材的不燃導電布，促進以玻璃纖維布作為導電布基材技術的發展。
[0007]本實用新型的目的通過下述技術方案實現:一種導電布的專用生產設備，包括鍍膜腔室、用于向鍍膜腔室內充入氣體的氣體壓強控制系統、用于控制鍍膜腔室內溫度的溫控系統、用于為鍍膜腔室提供陽極層型離子源的離子表面處理裝置以及控制鍍膜腔室內真空度的真空抽氣系統;鍍膜腔室的其中兩端分別設置有放卷裝置和收卷裝置，其中放卷裝置和收卷裝置之間設置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個鍍膜通道之間設置有冷卻輥，放卷裝置出來的導電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進行收卷，離子表面處理裝置設置在放卷裝置出來的鍍膜通道前端的兩偵U，向經過鍍膜通道的導電布基材提供陽極層型離子源。
[0008]優選的，所述每排磁控濺射靶中包括3個以上磁控濺射靶。
[0009]優選的，離子表面處理裝置包括外陰極、內陰極、磁鐵、陽極和氣體通道;其中外陰極為頂部開有口的方形結構，外陰極頂部開口處設置有內部陰極，在外陰極內底部與內陰極底部之間設置有磁鐵，陽極設置于外陰極、內陰極和磁鐵圍成的空間中，氣體通道設置在外陰極底部，氣體通過外陰極底部進入到外陰極、內陰極和磁鐵圍成的空間中。
[0010]優選的，所述放卷裝置包括放卷筒和第一引導輥，放卷裝置出來的導電布基材通過第一引導輥后傳入到鍍膜通道中；所述第一引導輥的個數為一個或多個。
[0011]優選的，所述收卷裝置包括收卷筒和第二引導輥，導電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導輥收卷入收卷筒中，所述第二引導輥的個數為一個或多個。
[0012]優選的，所述氣體壓強控制系統為氬氣、氮氣或氧氣氣體壓強控制系統，即氣體壓強控制系統充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮氣或氧氣。
[0013]優選的，放卷裝置出來的鍍膜通道以及進入收卷裝置的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶。
[0014]優選的，放卷裝置出來的鍍膜通道和進入收卷裝置的鍍膜通道之間的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。
[0015]優選的，導電布基材為玻璃纖維布。
[0016]本實用新型導電布的專用生產設備的工作原理如下:導電布基材通過放卷裝置投入到鍍膜腔室中，放卷裝置出來的導電布基材首先穿過鍍膜通道，并且從鍍膜通道之間的冷卻繞過后進入到相鄰鍍膜通道，在穿過最后一個鍍膜通道后收入到收卷裝置。在需要鍍膜時，控制鍍膜腔室磁控濺射靶通電；離子表面處理裝置采用陽極層型離子源對放卷裝置出來的導電布基材表面進行處理，氣體壓強控制系統充入的氣體離子在電場作用下轟擊各鍍膜通道兩側的磁控濺射靶射出靶材原子，在導電布基材經過各鍍膜通道時通過各鍍膜通道兩側的磁控濺射靶射出的靶材原子進行濺射鍍膜。經過鍍膜后的各導電布基材回收入收卷裝置，實現連續的鍍膜。
[0017]本實用新型相對于現有技術具有如下的優點及效果:
[0018](I)本實用新型導電布的專用生產設備由放卷裝置將導電布基材置入鍍膜腔室，通過收卷裝置收入鍍膜完成的導電布基材，導電布基材從放卷裝置到收卷裝置的過程中，經過通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥，在經過各鍍膜通道的時候由各鍍膜通道兩側的磁控濺射靶實現濺射鍍膜，因此本實用新型專用生產設備能夠實現導電布基材的連續鍍膜，另外在本實用新型導電布的專用生產設備中設置有離子表面處理裝置，該離子表面處理裝置采用陽極層型離子源對導電布基材表面進行處理，增加導電布基材被鍍導電層的附著力，從而保證成膜質量，使得導電布在鍍膜后中不產生廢氣、廢水和廢物，避免了生產導電布對環境污染的影響。解決了現有技術中導電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導電層難度大的問題，能夠生產出更好的以玻璃纖維布為基材的不燃導電布，促進以玻璃纖維布作為導電布基材技術的發展。
[0019](2)本實用新型導電布的專用生產設備由于由多個靶組成，每個靶能鍍一定厚道的膜，多個靶沉積的膜厚度累計起來，能一次性沉積足夠厚度的膜，無需再用其它方法加厚，效率高，能效高。本實用新型導電布的專用生產設備中通過氣體壓強控制系統充入到鍍膜腔室內的氣體改變鍍膜腔室內的壓強；同時當磁控濺射靶通電時，氣體壓強控制系統充入的氣體在電場作用下轟擊磁控濺射靶射出靶材原子，實現鍍膜腔室中導電布基材的鍍膜。
[0020](3)本實用新型專用生產設備中相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，鍍膜通道之間設置有冷卻輥，即相鄰鍍膜通道之間通過冷卻輥進行銜接，導電布基材經過當前鍍膜通道后通過冷卻輥繞到相鄰的鍍膜通道，通過冷卻輥不僅起到導電布基材的傳動作用，而且還能夠實現對導電布基材進行冷卻處理，避免了導電布基材因受溫過高而導致基材性能變化的情況。
[0021](4)本實用新型當導電布基材為玻璃纖維布時，通過本實用新型導電布的專用生產設備能夠生產出不燃導電布，并且采用本實用新型導電布的專業生產設備能夠大大提高玻璃纖維布被鍍導電層的附著力，使得生產的導電布具有阻燃性的同時保證了其電磁干擾屏蔽效果，并且通過本發明導電布專用生產設備使得玻璃纖維布基材的不燃導電布在生產過程中不產生廢氣、廢水和廢物，避免了生產不燃導電布對環境污染的影響。
【附圖說明】
[0022]圖1是本實用新型導電布的專用生產設備結構示意圖。
[0023]圖2是本實用新型離子表面處理裝置結構示意圖。
【具體實施方式】
[0024]下面結合實施例及附圖對本實用新型作進一步詳細的描述，但本實用新型的實施方式不限于此。
[0025]實施例
[0026]如圖1所示，本實施例公開了一種導電布的專用生產設備，包括鍍膜腔室1、用于向鍍膜腔室內充入氣體的氣體壓強控制系統、用于控制鍍膜腔室內溫度的溫控系統、為鍍膜腔室提供離子源的離子表面處理裝置3以及控制鍍膜腔室內真空度的真空抽氣系統;鍍膜腔室的其中兩端分別設置有放卷裝置2和收卷裝置7，其中放卷裝置2和收卷裝置7之間設置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個鍍膜通道之間設置有冷卻輥6，相鄰鍍膜通道通過冷卻輥6進行銜接，放卷裝置2出來的導電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥6后由收卷裝置7進行收卷，離子表面處理裝置3設置放卷裝置2出來的鍍膜通道前端的兩側，向經過鍍膜通道的導電布基材表面發射陽極層型離子源。
[0027]本實施例中離子表面處理裝置3采用陽極層型離子源對導電布基材表面進行處理，增加導電布基材被鍍膜的附著力。如圖2所示，本實施中離子表面處理裝置3包括外陰極31、內陰極32、磁鐵33、磁路(離子源殼體)、陽極34和氣體通道35。其中外陰極為頂部開有口的方形結構，外陰極31頂部開口處設置有內部陰極32，在外陰極31內底部與內陰極底部之間設置有磁鐵33，磁鐵的N極朝上，S極朝下；陽極34設置于外陰極31、內陰極32和磁鐵33圍成的空間中，氣體通道35設置在外陰極31底部，氣體通過外陰極31底部進入到外陰極31、內陰極32和磁鐵33圍成的空間中。等離子體36從外陰極31與內陰極32之間噴出。依據陽極層線性封閉漂移理論，氣體在離子中的陰陽極之間通過，其陽極的正電壓與加在內外陰極端部間的強磁場相互作用，產生等離子體，來自于等離子體中的離子受陽極電場的驅動，由離子源中產生噴出的離子束流。其中離子發射溝道和陽極被磁路所包圍。放電溝道內具有很強的磁場，將電子約束在其中，在正交的電場和磁場的作用下，電子在溝道內進行閉環迀移并形成電子流。閉環迀移的電子與氣體發生碰撞時，氣體電離為離子和電子。當直流正電位施加在陽極上時，陽極表面形成電場，在此電場作用下，離子被加速發射出放電溝道形成離子束，離子束對基材進行轟擊或蝕刻。
[0028]本實施例中每排磁控濺射靶中包括3個以上磁控濺射靶，使得本實施例中導電布基材經過鍍膜通道時能夠被充分的濺射鍍膜，磁控濺射靶更換不同材質的靶材可以對導電布基材鍍不同材質的導電層。本實施例中左側兩排和右側兩排的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶4，中間各排磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶5。即放卷裝置出來的鍍膜通道以及進入收卷裝置的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶;放卷裝置出來的鍍膜通道和進入收卷裝置的鍍膜通道之間的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。
[0029]本實施例放卷裝置2包括放卷筒和第一引導輥21，放卷裝置2出來的導電布基材通過第一引導輥21后傳入到鍍膜通道中，第一引導輥21的個數為一個或多個;收卷裝置7包括收卷筒和第二引導輥71，導電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導輥71收卷入收卷筒中，第二引導輥71的個數為一個或多個。
[0030]本實施例中的氣體壓強控制系統為氬氣、氮氣或氧氣氣體壓強控制系統，即氣體壓強控制系統充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮氣或氧氣，具體根據不同的工藝要求選用相應的氣體，通過氣體壓強控制系統將充入到鍍膜腔室的氣體改變鍍膜腔室內部壓強。同時磁控濺射靶通電時，氣體壓強控制系統充入的氣體在電場作用下轟擊磁控濺射靶射出靶材原子，實現鍍膜腔室中玻璃纖維布的鍍膜。
[0031]本實施例中冷卻輥6對導電布基材在鍍膜時產生的高溫進行冷卻，避免了導電布基材因受溫過高而導致基材性能變化的情況。
[0032]本實施例中導電布的專用生產設備的工作原理如下:導電布基材通過放卷裝置2投入到鍍膜腔室中，放卷裝置2出來的導電布基材首先穿過鍍膜通道，并且從鍍膜通道之間的冷卻輥6繞過后進入到相鄰鍍膜通道，在穿過最后一個鍍膜通道后收入到收卷裝置7中。在需要鍍膜時，控制鍍膜腔室磁控濺射靶通電；離子表面處理裝置3采用陽極層型離子源對放卷裝置2出來的導電布基材表面進行處理，氣體壓強控制系統充入的氣體離子在電場作用下轟擊各鍍膜通道兩側的磁控濺射靶射出靶材原子，在導電布基材經過各鍍膜通道時通過各鍍膜通道兩側的磁控濺射靶射出的靶材原子進行濺射鍍膜。經過鍍膜后的各導電布基材回收入收卷裝置，實現連續的鍍膜。
[0033]本實施例導電布的專用生產設備由于由多個靶組成，每個靶能鍍一定厚道的膜，多個靶沉積的膜厚度累計起來，能一次性沉積足夠厚度的膜，無需再用其它方法加厚，效率1?，會ο
[0034]本實施例導電布基材可以為玻璃纖維布，通過本實用新型導電布的專用生產設備能夠提高玻璃纖維布被鍍導電層的附著力，使得導電布具有阻燃性的同時保證了其電磁干擾屏蔽效果。本實施例導電布基材可以選用玻璃纖維布，此時通過本實施例導電布的專用生產設備生產的導電布為不燃導電布，通過本實施例專業生產設備能夠大大提高玻璃纖維布被鍍導電層的附著力，使得生產的導電布具有阻燃性的同時保證了其電磁干擾屏蔽效果，并且通過本實施例導電布專用生產設備使得玻璃纖維布基材的不燃導電布在生產過程中不產生廢氣、廢水和廢物，避免了生產不燃導電布對環境污染的影響。
[0035]上述實施例為本實用新型較佳的實施方式，但本實用新型的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本實用新型的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種導電布的專用生產設備，包括鍍膜腔室，其特征在于，還包括用于向鍍膜腔室內充入氣體的氣體壓強控制系統、用于控制鍍膜腔室內溫度的溫控系統、用于為鍍膜腔室提供陽極層型離子源的離子表面處理裝置以及控制鍍膜腔室內真空度的真空抽氣系統;鍍膜腔室的其中兩端分別設置有放卷裝置和收卷裝置，其中放卷裝置和收卷裝置之間設置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個鍍膜通道之間設置有冷卻輥，放卷裝置出來的導電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進行收卷，離子表面處理裝置設置在放卷裝置出來的鍍膜通道前端的兩側，向經過鍍膜通道的導電布基材提供陽極層型離子源。2.根據權利要求1所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，所述每排磁控濺射靶中包括3個以上磁控濺射靶。3.根據權利要求1所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，離子表面處理裝置包括外陰極、內陰極、磁鐵、陽極和氣體通道;其中外陰極為頂部開有口的方形結構，外陰極頂部開口處設置有內部陰極，在外陰極內底部與內陰極底部之間設置有磁鐵，陽極設置于外陰極、內陰極和磁鐵圍成的空間中，氣體通道設置在外陰極底部，氣體通過外陰極底部進入到外陰極、內陰極和磁鐵圍成的空間中。4.根據權利要求1所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，所述放卷裝置包括放卷筒和第一引導輥，放卷裝置出來的導電布基材通過第一引導輥后傳入到鍍膜通道中；所述第一引導輥的個數為一個或多個。5.根據權利要求1所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，所述收卷裝置包括收卷筒和第二引導輥，導電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導輥收卷入收卷筒中，所述第二引導輥的個數為一個或多個。6.根據權利要求1所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，所述氣體壓強控制系統為氬氣、氮氣或氧氣氣體壓強控制系統，即氣體壓強控制系統充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮氣或氧氣。7.根據權利要求1所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，放卷裝置出來的鍍膜通道以及進入收卷裝置的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶。8.根據權利要求1至7中任一項所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，放卷裝置出來的鍍膜通道和進入收卷裝置的鍍膜通道之間的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。9.根據權利要求1至7中任一項所述的導電布的專用生產設備，其特征在于，導電布基材為玻璃纖維布。
【文檔編號】D06M11/83GK205443738SQ201521131294
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2015年12月29日
【發明人】李家樑
【申請人】廣州市新景機電股份有限公司