專利名稱：正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種面料，尤其涉及一種制作服裝、玩具的面料，屬于紡織面料領域。
背景技術：
提花面料手感柔軟舒適，透氣性能好，頗受人們的喜愛。現有的提花面料多為單面提花或雙面提花，層次感不強。
發明內容
本發明的目的在于克服上述不足，提供一種層次感強的正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料。本發明的目的是這樣實現的一種正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料，包括基布，所述基布由若干經線和若干緯線交織而成，若干經線和若干緯線中嵌置有幾根包芯 線，所述包芯線由蠶絲包覆金屬離子纖維形成，且所述金屬離子纖維呈波浪形，所述基布的正反兩面均設有提花層，所述提花層包括若干個提花區域和非提花區域，所述提花區域呈塊狀，所述提花區域和非提花區域交錯排列，位于正反兩面的提花區域和非提花區域交錯對稱分布。與現有技術相比，本發明的有益效果是
I、正反交錯提花面料的正反面均設置交錯分布的提花區域和非提花區域，增強了面料的層次感。2、由于在經線和若干緯線中嵌置有幾根蠶絲包覆金屬離子纖維的包芯線，且將蠶絲包覆金屬離子纖維的包芯線中的金屬離子纖維制成具有記憶性的波浪形，因此，在具有抗電磁輻射的同時又大大提高了面料的支撐性能，同時使金屬纖維既有強度，又有彈性和柔度，從而擴大了面料的使用范圍，使得該面料可廣泛應用在電子、計算機、電訊、電站、發射站、軍事儀器等電磁輻射污染源區工作人員。
圖I為本發明正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料的平面示意圖。圖2為圖I的A-A剖視圖。其中
基布I 提花層2
提花區域21 非提花區域22。包芯線3。
具體實施方式
參見圖I和圖2，本發明涉及一種正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料，包括基布1，所述基布I由若干經線和若干緯線交織而成，若干經線和若干緯線中嵌置有幾根包芯線3，所述包芯線3由蠶絲包覆金屬離子纖維形成，且所述金屬離子纖維呈波浪形，所述基布I的正反兩面均設有提花層2。所述提花層2包括若干個提花 區域21和非提花區域22，所述提花區域21和非提花區域22均呈塊狀且交錯排列。位于正反兩面的提花區域21和非提花區域22交錯對稱分布。
權利要求
1. 一種正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料，包括基布(1)，其特征在于所述基布(I)由若干經線和若干緯線交織而成，若干經線和若干緯線中嵌置有幾根包芯線(3)，所述包芯線(3)由蠶絲包覆金屬離子纖維形成，且所述金屬離子纖維呈波浪形，所述基布(I)的正反兩面均設有提花層(2)，所述提花層(2)包括若干個提花區域(21)和非提花區域(22)，所述提花區域(21)和非提花區域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區域(21)和非提花區域(22)交錯對稱分布。
全文摘要
本發明涉及一種正反交錯提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料，屬于紡織面料領域。包括基布(1)，基布(1)由若干經線和若干緯線交織而成，若干經線和若干緯線中嵌置有幾根包芯線(3)，所述包芯線(3)由蠶絲包覆金屬離子纖維形成，所述基布(1)的正反兩面均設有提花層(2)，所述提花層(2)包括若干個提花區域(21)和非提花區域(22)，所述提花區域(21)和非提花區域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區域(21)和非提花區域(22)交錯對稱分布。正反交錯提花面料的正反面均設置交錯分布的提花區域和非提花區域，增強了面料的層次感。所述基布是麻、紗、絲纖維織層，具有涼爽絲滑感覺。且具有抗電磁輻射功能。
文檔編號D03D15/00GK102808272SQ20111014931
公開日2012年12月5日 申請日期2011年6月4日 優先權日2011年6月4日
發明者孫建良 申請人:孫建良