專利名稱：相對密閉的等離子體處理紡織面料系統的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，尤指一 種等離子體處理室是在一個相對密閉的不銹鋼殼體內，其殼體內是充 有氬氣并有少量任意反應氣體的，殼體上密閉板面上設有同一個面料 進、出口的，其殼體內由多組能實現自傳的放電電極組和導向輪構成 的高頻等離子體放電面料處理系統。
背景技術：
等離子體技術應用在紡織領域是在近年人們十分關注的新技術， 過去人們采用真空等離子體對各種紡織面料進行了放電處理，實驗證 明，經過等離子體處理后，在替代傳統的退漿工藝，提高色牢度和改 變手感方面都取得了很好的實驗結果。但是，由于真空等離子體器壁 限制，使其無法實現連續生產，設備運行費用也很高。在空氣中進行 的介質阻擋放電過去一般是采用硅橡膠包覆的金屬管，采用硅橡膠介 質與玻璃或陶瓷介質比較，電極之間需要的擊穿電壓較高，放電時所形成的局部電弧絲較粗，放電不均勻；另外，過去在常壓下進行的介 質阻擋放電， 一般是在空氣中進行的，放電時無法控制電極之間空氣 的組分，放電所產生的局部微電弧電流也比較大，在紡織面料通過時， 容易產生局部燒蝕，從而影響了處理面料的效果。此外，地電極一般 是采用帶有齒狀的鋁合金金屬，由于它與硅膠輪之間的縫隙比較小， 當兩塊面料的連接處通過放電間隙時容易發生阻塞。發明內容本發明的目的在于提供一種相對密閉的等離子體處理紡織面料 系統，尤指在一個相對密閉的多組金屬管電極分別用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放電進行時地電極自身可以轉動的，放電是在以氬氣為主 的氣體氛圍中進行的裝置。本發明提供一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，包括一 個電源組， 一個電機馬達組， 一個等離子體放電處理室，進氣系統， 擺布機和進布機等，其等離子體放電室是由不銹鋼制成的一個相對密 閉殼體，在殼體的上密閉板上設有同一個進布和出布口，在殼體的底 面密閉板上設有進氣孔，在殼體內充入氬氣和少量任意反應氣體，在 殼體內由多組被玻璃管或陶瓷管包覆的金屬管電極，稱為高壓電極； 以及在高壓電極一側的，與高壓電極管平行的電極，稱為地電極，高 壓電極和地電極分別與高頻電源連接，紡織面料由擺布機帶動，并通 過進布機進入到等離子體處理室。所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在于 系統所采用的電源頻率選擇范圍為1一100KHZ，放電電壓范圍為4一15KV，放電室是在常壓下，無需抽真空。所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在于等離子體放電室是由不銹鋼制成的一個長方密閉殼體，在殼體的 上密閉板上設有同一個進布和出布口，在殼體的底面密閉板上設有氣 體進氣孔，該進氣孔連接氬氣氣源和反應氣體，如氧氣，氨氣，氮 氣或SR等。所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在 于在等離子體放電室內設有，被稱為高壓電極的多組被玻璃管或陶 瓷管包覆的金屬管電極，以及在高壓電極一側的多組地電極，該高壓 電極和地電極分別與高頻電源連接，該高壓電極的兩端分別通過軸承固定在殼體支架上；該地電極的兩端分別連接彈簧，并通過彈簧連接 一個由馬達帶動的軸承上，該軸承固定在殼體支架上，連接在一起的 軸承、彈簧和地電極由馬達帶動形成自轉。所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在 于在等離子體放電室殼體內設有面料導向軸。所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在 于在等離子體放電室的上密閉板上設有同一個進布和出布口，在該 口的兩側設有面料傳遞輥軸，在其上方設有一個排氣罩。所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在 于在等離子體放電室的一側設有擺布機，另一側設有進布機，面料 是由擺布機帶動，通過進布機展平后，進入到等離子體放電處理室處 理。本發明相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其優點是1、 高壓電極管被分別用玻璃管或陶瓷管包覆，采用該兩種介質可以較好 的減少放電擊穿電壓。2、等離子體放電室內充有以氬氣為主并有少 量反應氣體，使放電時的氣體成分能很好控制。3、在放電進行時， 電極本身分別被馬達和面料帶動自轉，這避免了電極局部受熱不均 勻。4、由于在地電極的兩端采用彈簧連接，當兩個面料的連接處通 過電極之間的縫隙時，不會阻塞。本發明是在大氣壓下產生低溫均勻等離子體放電室，主要用途是: 對穿過該放電室的各種面料的表面得到等離子體的放電處理，替代傳 統印染行業的精煉退漿工藝，提高色牢度和改善面料的手感。
圖1為本發明實施例相對密閉的等離子體處理紡織面料系統側 面刨示結構示意圖；圖2為本發明實施例相對密閉的等離子體處理紡織面料系統中 等離子體處理室側面刨示結構，以及和電源、氣源連接示意圖；圖3為本發明實施例相對密閉的等離子體處理紡織面料系統中 等離子體處理室內，其中一組電極結構正面示意圖。
具體實施方式
下面參照附圖，結合具體的實施例對本發明進行詳細的描述。 參閱圖1，為本發明實施例相對密閉的等離子體處理紡織面料系 統側面刨示結構示意圖。如圖l所示，提供一種相對密閉的等離子體 處理紡織面料系統，主要在一個等離子體放電處理室兩側設有一個擺 布機202和進布機201，其等離子體放電室是由不銹鋼制成的一個相 對密閉的殼體100，在殼體100內由多組被玻璃管或陶瓷管包覆的金 屬管高壓電極103，以及在高壓電極103—側的，與高壓電極管平行 的地電極104;在殼體IOO的上板面中部設有一個排氣罩。紡織面料105由擺布機202帶動，并通過進布機201把將進入等 離子體放電室的面料105展平后進入到等離子體處理室得到改性處 理。參閱圖2，為本發明實施例相對密閉的等離子體處理紡織面料 系統中等離子體處理室側面刨示結構，以及和電源、氣源連接示意圖。 如圖2所示，在等離子體放電室內設有，被稱為高壓電極的多組被玻 璃管或陶瓷管包覆的金屬管電極103，以及在高壓電極一側的多組地 電極104，該多組高壓電極103和多組地電極104分別通過電纜線206與高頻電源203連接；在殼體的上密閉板上設有同一個進布和出布口106，該口為一個寬度為8 —15毫米的縫隙，在該縫隙口兩側的板面 內外分別設有面料導向輪108和108-1，在殼體上密閉板的兩個拐角 處，分別設有另外的導向輪102和102-1;在殼體的底面密閉板上設 有進氣孔107，氣源204的氣體，通過控制閥門205與殼體100底面 密閉板的進氣孔107連接。通過氣源204向殼體內100內充入氬氣和 少量任意反應氣體。參閱圖3，為本發明實施例相對密閉的等離子體處理紡織面料 系統中等離子體處理室內，其中一組電極結構正面示意圖。如圖3所 示，該高壓電極103的外面被玻璃管或陶瓷管103-1包覆，其兩端分 別通過軸承103-2固定在殼體支架103-3上；該地電極104的兩端分 別連接彈簧104-1，并通過彈簧104-1連接一個由馬達207帶動的軸 承104-2上，該軸承固定在殼體支架104-3上，連接在一起的軸承 104-2、彈簧104-1和地電極104由馬達207帶動形成自轉。在高壓 電極103的一側可以設有多個地電極104，該多個地電極104與高壓 電極103外的絕緣介質103-1之間設有相同的間隙lll，在該間隙111 中形成等離子體的放電區。所采用的電源頻率選擇范圍為l一100KHz，放電電壓范圍為4 一15KV，放電室是在常壓下，無需抽真空。殼體100由不銹鋼板加工制成；排氣罩101由金屬材料，例如由 不銹鋼、鋁或鐵等加工制成，也可以用塑料制成；殼體上的支架103-3 用絕緣材料，如還氧，尼龍或聚四氟材料等制成；高壓電極用鋁管或鐵管制成，包覆高壓電極103的絕緣材料管可以選用玻璃管、石英管 或陶瓷管；地電極采用鋁管、不銹鋼管，鎢絲，鉬絲，以及用彈簧制 成。上面參考附圖結合具體的實施例對本發明進行了描述，然而，需 要說明的是，對于本領域的技術人員而言，在不脫離本發明的精神和 范圍的情況下，可以對上述實施例作出許多改變和修改，這些改變和 修改都落在本發明的權利要求限定的范圍內。
權利要求
1. 一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，包括一個電源組，一個電機馬達組，一個等離子體放電處理室，進氣系統，擺布機(或稱帶布機)和進布機等，其等離子體放電室是由不銹鋼制成的一個相對密閉殼體，在殼體的上密閉板上設有同一個進布和出布口，在殼體的底面密閉板上設有進氣孔，在殼體內充入氬氣和少量任意反應氣體，在殼體內由多組被玻璃管或陶瓷管包覆的金屬管電極，稱為高壓電極；以及在高壓電極一側的，與高壓電極管平行的電極，稱為地電極，高壓電極和地電極分別與高頻電源連接，紡織面料由擺布機帶動，并通過進布機進入到等離子體處理室。
2、 如權利要求1所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統， 其特征在于系統所采用的電源頻率選擇范圍為l一100KHz，放電電壓范圍為4 —15KV，放電室是在常壓下，無需抽真空。
3、 如權利要求1所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統， 其特征在于等離子體放電室是由不銹鋼制成的一個長方密閉殼體，在殼體的上密閉板上設有同一個進布和出布口，在殼體的底面密閉板 上設有多個氣體進氣孔。
4、 如權利要求1和3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在于在等離子體放電室內設有，被稱為高壓電極的多組被玻璃管或陶瓷管包覆的金屬管電極，以及在高壓電極一側的多組 地電極，該高壓電極和地電極分別與高頻電源連接。
5、 如權利要求1和3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在于該高壓電極的兩端分別通過軸承固定在殼體支架上，該支架是有絕緣材料制成。
6、 如權利要求1和3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料 系統，其特征在于該地電極的兩端分別連接彈簧，并通過彈簧連接 一個由馬達帶動的軸承上，該軸承固定在殼體支架上，連接在一起的 軸承、彈簧和地電極由馬達帶動形成自轉。
7、 如權利要求1和3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料 系統，其特征在于在等離子體放電室內設有面料導向軸。
8、 如權利要求1和3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料 系統，其特征在于在等離子體放電室的上密閉板上設有同一個進布和出布口，該口為一個寬度為8 — 15毫米的縫隙，在該口的兩側設有面料傳遞輥軸，在其上方設有一個排氣罩。
9、 如權利要求1和3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在于與殼體的底面密閉板上進氣孔連接的氣源采用氬氣，并可以選擇添加反應氣體氧氣，氨氣，氮氣或SF6等。
10、 如權利要求1或3所述的一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，其特征在于在等離子體放電室的一側設有擺布機，另一側設有進布機，面料是由擺布機帶動，通過進布機展平后，進入到等離子 體放電處理室處理。
全文摘要
本發明公開一種相對密閉的等離子體處理紡織面料系統，包括一個電源組，一個電機馬達組，一個等離子體放電處理室，進氣系統，擺布機(或稱帶布機)和進布機等，其等離子體放電室是由不銹鋼制成的，一個相對密閉的殼體，在殼體上密閉板上設有同一個進布和出布口，在殼體底面密閉板上設有進氣孔，在殼體內充入氬氣和少量任意反應氣體，在殼體內由多組被玻璃管或陶瓷管包覆的金屬管電極，稱為高壓電極；以及在高壓電極一側的，與高壓電極管平行的電極，稱為地電極，高壓電極和地電極分別與高頻電源連接，紡織面料由擺布機帶動，并通過進布機進入到等離子體處理室得到改性處理，其目的是替代傳統印染工藝中的精煉工藝，提高色牢度和改善面料的手感。
文檔編號D06M10/00GK101275360SQ20071009003
公開日2008年10月1日 申請日期2007年3月26日 優先權日2007年3月26日
發明者王守國 申請人:中國科學院光電研究院;王守國