專利名稱：具備雙面后上蠟裝置的漿紗機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及紡織印染機械，尤其涉及一種具備雙面后上蠟裝置的漿紗機。
背景技術：
后上蠟的作用原理是經紗在上漿烘干后，過干分絞棒卷入織軸前，從盛有蠟液的蠟槽上通過，與慢速轉動的上蠟輥表面接觸，從而使蠟液粘附在經紗表面保護漿膜，使紗身光潔柔滑，降低漿紗表面的摩擦系數，使漿紗之間、漿紗與機件之間的摩擦力減小，降低經紗毛羽再生和纏結的傾向，使經紗斷頭率顯著降低。
現有的國內外新型漿紗機均配置單面上蠟裝置。這種單面上蠟裝置只能使經紗的半個表面與蠟輥接觸，蠟液不能粘附于經紗整個表面，特別是對于雙漿槽漿紗機只能使下層紗片的下表面上蠟，從而使后上蠟的效果大打折扣，不利于保護漿膜。在專利號為ZL200420017318.2的實用新型專利說明書中公開了一種雙面上蠟漿紗機，可以實現對漿紗的雙面后上蠟，但是該實用新型采用不同位置分布的兩個上蠟槽對漿紗實施后上蠟，其中一個用于上層紗或上表面上蠟的上蠟槽需要設置在干區錫林與導紗輥之間的空間內，并且需改變原有導紗輥的位置，對于一般漿紗車間的漿紗機很難實現如此要求的改造，或者需要付出更高的成本購買在設計時就帶有該裝置的雙面上蠟漿紗機。
發明內容
本實用新型的目的旨在克服現有技術的不足而提供一種不需改變原有導紗輥位置、低成本、高功效、高質量，特別適合高支高密品種經紗上漿工序的具備雙面后上蠟裝置的漿紗機。
本實用新型的目的是這樣實現的一種具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，包括經軸、漿槽、錫林、張力輥、導紗輥、蠟槽、蠟輥、傳動軸、立柱、車頭動力機構及其傳動機構，在導紗輥8與干分絞棒10之間分別設置上蠟槽17和下蠟槽18，上蠟槽17和下蠟槽18通過托架固置在立柱23上，浸蠟輥14下部浸沒于上蠟槽17內，浸蠟輥14底部略高于上蠟槽17底部，和與之相配合的接觸紗片20的上蠟輥13的轉向相反，下蠟輥19與紗片20接觸并置于下蠟槽18內。
——所述的浸蠟輥14與上蠟輥13在軸向截面所形成的圓為相切的位置。
——所述上蠟輥13在豎直方向上最低點的表面紗速度方向與紗片20的前進方向一致。
——所述下蠟輥19在豎直方向的最高點的表面紗速度方向與紗片20的前進方向一致。
本實用新型涉及的一種具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，作為漿紗機上增設或改進的機構，或者作為新型漿紗機上配備的機構，具體指一種裝置使得經紗在上漿烘干后，過干分絞棒卷入織軸前，與慢速轉動的上下配置的蠟輥表面接觸，從而使蠟液粘附在經紗整個表面，在不改變現有漿紗機上的紗線運行路徑及其他裝置的基礎上對其實施雙面上蠟。相對單面上蠟，特別是雙漿槽漿紗機的單面上蠟，有利于更好地保護漿膜，使紗身光潔柔滑，降低漿紗表面的摩擦系數，使漿紗之間、漿紗與機件之間的摩擦力減小，從而使經紗斷頭率顯著降低并且抗靜電能力增強。本實用新型對于提高產品質量，提高織機的生產效率，特別是高速噴氣織機，有明顯的作用，特別適用于高支高密品種的經紗上漿工序。
本實用新型采取的技術方案是1.一種具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，包括蠟槽、蠟輥及其傳動機構。構成上區上蠟裝置和下區上蠟裝置，上區上蠟裝置和下區上蠟裝置在組成上有所不同。上區上蠟裝置主要包括上蠟槽、浸蠟輥、上蠟輥。下區上蠟裝置主要包括下蠟槽、下蠟輥。
2.上下蠟槽分設于導紗輥與干分絞棒之間、經紗運行路徑的上下方，分別通過托架固置在立柱上。上區上蠟裝置的浸蠟輥下部浸沒于上蠟槽內，浸蠟輥側面與上蠟輥接觸，通過轉動實現蠟液從蠟槽到上蠟輥甚至紗片上表面的轉移。
3.上區上蠟裝置的蠟槽軸向截面形狀可根據實際需要設計，只要能滿足浸蠟輥和上蠟輥的配合即可。
4.傳動機構采用兩個電動機。一個電動機傳動浸蠟輥與上蠟輥，另一個電動機傳動下蠟輥。
5.上下區上蠟裝置均需要配備溫控及液面保持裝置，不僅能夠保持蠟液處于保持熔融狀態，同時還需要使液面處于相對穩定的高度。
圖1是本實用新型一種具體結構的示意圖；圖2是本實用新型一種具體的雙面后上蠟裝置的結構示意圖；圖3是本實用新型的另一種具體的雙面后上蠟裝置的結構示意圖。
在圖1～圖3中1-漿紗機的經軸，2-第一漿槽，3-第一組烘筒，4-第二漿槽，5-第二組烘筒，6-干區烘筒，7-張力輥，8-導紗輥，9-下區上蠟裝置，10-干分絞棒，11-機頭動力機構，12-上區上蠟裝置，13、13’-上蠟輥，14、14’-浸蠟輥，15-蓋板，16-填蠟斗，17、17’-上蠟槽，18、18’-下蠟槽，19、19’-下蠟輥，20、20’-經紗片，21-傳輸帶，22-傳動軸，23-立柱。
具體實施方式
現結合附圖和實施例對本實用新型做進一步詳細描述本實用新型的雙面后上蠟裝置的漿紗機是這樣實現的，主要由蠟槽、蠟輥、傳動機構及溫控裝置構成，構成上區上蠟裝置12和下區上蠟裝置9，上區上蠟裝置12和下區上蠟裝置9在組成上有所不同。上區上蠟裝置12主要包括上蠟槽17、浸蠟輥14、上蠟輥13。下區上蠟裝置9主要包括下蠟槽18、下蠟輥19，體現為現有漿紗機上蠟裝置的構成形式。在導紗輥8與干分絞棒10之間分設上下蠟槽17、18，上下蠟槽17、18分別通過托架固置在立柱23上。浸蠟輥14下部浸沒于上蠟槽17內，浸蠟輥14底部略高于上蠟槽17底部，與之配合的上蠟輥13轉向相反。工作時，粘附了蠟液的浸蠟輥14慢速轉動，上蠟輥13反向轉動。由于浸蠟輥14與上蠟輥13在軸向截面內所形成的圓為相切的位置關系，其接觸可以保證蠟液從浸蠟輥14到上蠟輥13的傳輸，使上蠟輥13表面粘附有蠟液。同時可以調整其轉速使上蠟輥13表面粘附有足夠有效的蠟液。表面粘附了蠟液的上蠟輥13，其在豎直方向上的最低點的表面線速度方向與紗片20的前進方向一致但遠遠小于紗片20的速度，紗片20經過前面的上漿烘干后運行至此處，與上蠟輥13下表面弧線接觸，蠟液被均勻括抹至紗片20上，從而實現對紗片20的上表面上蠟。
下區上蠟裝置9主要由下蠟槽18、下蠟輥19構成，下蠟輥19浸沒于下蠟槽18內。下蠟輥19由一個電動機單獨控制，其在豎直方向上的最高點的表面線速度方向與紗片20的前進方向一致，紗片20上漿烘干后運行至此處，與下蠟輥19的上表面弧線接觸，蠟液被均勻括抹至紗片20上，從而實現對紗片20的下表面上蠟。至此，完成了對紗片20的上下表面的上蠟過程，之后紗片經過干分絞最后卷繞至經軸上。
本實用新型的核心技術創新是在不改變現有漿紗機上的紗線運行路徑及其它裝置的基礎上對其實施雙面上蠟。對紗片上表面的上蠟是通過在原有對紗片下表面上蠟裝置區域上方加裝一種上蠟裝置實現的。上蠟裝置通過間接的方法來實現蠟槽內的蠟液傳遞至上蠟輥表面。這種間接的方法可以有多種構成形式，如由兩個上蠟槽17′、兩個浸蠟輥14′、傳動軸22、傳輸帶21及傳動機構等構成的上區上蠟裝置12，傳輸帶21在浸蠟輥14′的帶動下傳動，同時粘附蠟液，在與上蠟輥13′接觸時將蠟液傳輸給上蠟輥13′，上蠟輥13′不停地轉動，在與紗片20′的接觸過程中使蠟液粘附至紗片20′上，實現對紗片20′上表面的上蠟作用。其結構示意圖參見圖3。
綜上所述，凡是在不改變現有漿紗機上紗線運行路徑的基礎上，通過蠟槽與上蠟輥間接接觸的方法對漿紗上表面實施上蠟的雙面上蠟形式均屬于本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，包括經軸、漿槽、錫林、張力輥、導紗輥、蠟槽、蠟輥、傳動軸、立柱、車頭動力機構及其傳動機構，其特征在于在導紗輥(8)與干分絞棒(10)之間分別設置上蠟槽(17)和下蠟槽(18)，上蠟槽(17)和下蠟槽(18)通過托架固置在立柱(23)上，浸蠟輥(14)下部浸沒于上蠟槽(17)內，浸蠟輥(14)底部略高于上蠟槽(17)底部，和與之相配合的接觸紗片(20)的上蠟輥(13)的轉向相反，下蠟輥(19)與紗片(20)接觸并置于下蠟槽(18)內。
2.根據權利要求1所述的具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，其特征在于所述的浸蠟輥(14)與上蠟輥(13)在軸向截面所形成的圓為相切的位置。
3.根據權利要求1所述的具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，其特征在于所述上蠟輥(13)在豎直方向上最低點的表面紗速度方向與紗片(20)的前進方向一致。
4.根據權利要求1所述的具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，其特征在于所述下蠟輥(19)在豎直方向的最高點的表面紗速度方向與紗片(20)的前進方向一致。
專利摘要本實用新型涉及一種具備雙面后上蠟裝置的漿紗機，其特征在于在導紗輥與干分絞棒之間分別設置上蠟槽和下蠟槽，上蠟槽和下蠟槽通過托架固置在立柱上，浸蠟輥下部浸沒于上蠟槽內，浸蠟輥底部略高于上蠟槽底部，和與之相配合的接觸紗片的上蠟輥的轉向相反，下蠟輥與紗片接觸并置于下蠟槽內；本實用新型對于提高產品質量，提高織機的生產效率，特別是高速噴氣織機，有明顯的作用，特別適用于高支高密品種的經紗上漿工序。
文檔編號D06B21/00GK2801842SQ20052006046
公開日2006年8月2日 申請日期2005年6月27日 優先權日2005年6月27日
發明者張玉高, 何小東 申請人:廣東溢達紡織有限公司