一種反應室清掃裝置制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種反應室清掃裝置，涉及液晶顯示器制造領域。為解決由于清掃反應室碎片使得產能下降以及產品不良率上升的問題而發明。本發明提供的一種反應室清掃裝置，包括殼體、吸附體卷輥、固定架、第一驅動機構、第二驅動機構以及靜電發生器，殼體內設有真空空間，殼體的側壁上設有對接門；吸附體卷輥設置于真空空間內，吸附體卷輥包括轉軸和套設于轉軸上的吸附體卷；固定架設置于真空空間內，吸附體卷的起始端固定于固定架上；第一驅動機構與轉軸連接；第二驅動機構與固定架連接，可帶動固定架與吸附體卷輥整體沿第一直線往復移動，對接門位于第一直線上；靜電發生器與吸附體卷連接。本發明可用于清掃干法刻蝕機反應室的玻璃碎片。
【專利說明】一種反應室清掃裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及液晶顯示器制造領域，尤其涉及一種反應室清掃裝置。
【背景技術】
[0002]在液晶顯示器的制造工藝中，干法刻蝕工藝是把基板上無光刻膠掩蔽的金屬膜或非金屬膜刻蝕掉，使有光刻膠掩蔽的區域保存下來，從而在基板上形成所需要的圖形。對基板進行刻蝕是在干法刻蝕設備的真空反應室內進行的，參照圖1，圖1為反應室中玻璃基板的受力示意圖，把玻璃基板03放置在反應室01的下部電極02上，在下部電極02的表面凸頭施加靜電，對玻璃基板03產生向下的吸附力F，同時，下部電極02上分布著大小均勻的氦氣孔眼021，氦氣向上吹出，冷卻玻璃基板03的背部，且對玻璃基板03產生向上的升力F’ ；由于下部電極02的凸頭上易于堆積附著物，使得吸附力下降且不均勻，在氦氣的作用下，玻璃基板03容易發生局部翹起，則玻璃基板03的邊沿部會泄露氦氣，由此，玻璃基板03發生振動，從而導致玻璃基板03破碎。另一方面，在刻蝕反應結束后，為了去除殘留在玻璃基板03背部的靜電荷，通常采用2000瓦特的射頻功率對氧氣進行轟擊產生等離子體氣團來去除，由于等離子體的充電效應，使得靜電難以完全去除，因而，在除電步驟中會發生玻璃基板03破碎，實際生產中，大約90%以上的玻璃基板03破碎發生在除電步驟，由于玻璃基板03破碎后在下部電極02等部位上產生了碎片和碎粒，影響了下一個玻璃基板03進行刻蝕反應，因此，需對反應室內01的玻璃碎片進行清理。
[0003]現有技術中，必須打開反應室01對碎片進行清理，清理前需排出尾氣、降溫以及大氣處理，然后打開反應室01清理碎片，由于大氣和水汽進入了反應室01，再次生產需要溫度上升預熱、真空處理以及等離子體對電極表面處理等過程，則最少需停機21小時才可恢復生產，使得產能大幅度下降。另一方面，一旦反應室01被打開，大氣中的水汽會吸附在下部電極02上，短時間內很難去除，容易在反應中造成下部電極02異常放電和附生物溶解分化，造成工藝不良，同時，反應室01的設備特性和內部表面活性以及生成物吸附等特性發生突變，使得生產的基板性能不一致，從而產品不良率上升。
【發明內容】
[0004]本發明的實施例提供一種反應室清掃裝置，在反應室狀態不變的情況下，對碎片進行清掃，縮短了恢復生產的時間，從而提升了產能，同時，維持了反應室設備狀態的一致性，保證了基板性能的一致性，從而提升了良品率。
[0005]為達到上述目的，本發明實施例提供了一種反應室清掃裝置，包括:殼體，所述殼體內設有真空空間，所述殼體的側壁上設有對接門；吸附體卷輥，所述吸附體卷輥設置于所述真空空間內，所述吸附體卷輥包括轉軸和套設于所述轉軸上的吸附體卷，所述吸附體卷可帶靜電；固定架，所述固定架設置于所述真空空間內，所述吸附體卷的起始端固定于所述固定架上；第一驅動機構，所述第一驅動機構與所述轉軸連接，且可帶動所述吸附體卷輥相對于所述固定架移動；第二驅動機構，所述第二驅動機構與所述固定架連接，且可帶動所述固定架與所述吸附體卷輥整體沿第一直線往復移動，所述對接門位于所述第一直線上；靜電發生器，所述靜電發生器與所述吸附體卷連接。
[0006]進一步地，所述第一驅動機構包括齒輪、齒條、第一連接臂、第二連接臂以及第一氣缸，所述第一氣缸的活塞桿與所述齒條固定連接，所述齒輪與所述齒條相嚙合，所述齒輪通過齒輪旋轉軸固定于所述固定架上，所述第一連接臂的一端與所述齒輪固定連接，另一端與所述第二連接臂的一端鉸接，所述第二連接臂的另一端與所述轉軸固定連接。
[0007]進一步地，所述第一氣缸設置于所述殼體外部，所述第一氣缸的活塞桿穿過所述殼體的側壁后與所述齒條固定連接。
[0008]進一步地，述第一連接臂和第二連接臂之間設有復位彈簧。
[0009]更進一步地，所述第二驅動機構包括第二氣缸，所述第二氣缸的活塞桿與所述固定架固定連接。
[0010]進一步地，所述第二氣缸設置于所述殼體外部，所述第二氣缸的活塞桿穿過所述殼體的側壁后與所述固定架固定連接。
[0011]進一步地，所述吸附體卷由橡膠制成。
[0012]進一步地，所述靜電發生器可發出正電荷和負電荷。
[0013]進一步地，所述對接門連接有驅動電機，所述驅動電機可帶動對接門開啟和閉合。
[0014]本發明實施例提供的一種反應室清掃裝置，包括殼體、吸附體卷輥、固定架、第一驅動機構、第二驅動機構以及靜電發生器；殼體內設置了真空空間，且殼體的側壁上設置了對接門，在清掃反應室內的玻璃碎片時，通過打開對接門將殼體和反應室連通，則殼體內和反應室內均為真空狀態，在第二驅動機構的帶動下，將固定架與吸附體卷輥整體沿著第一直線向對接門處移動，當吸附體卷棍到達對接門處時，第一驅動機構帶動著吸附體卷棍上的轉軸轉動，由于吸附體卷的起始端固定于固定架上，則吸附體卷輥上的吸附體卷可逐圈展開并覆蓋到反應室玻璃碎片上，通過靜電發生器使吸附體卷表面帶有靜電，對玻璃碎片進行靜電吸附，再通過第二驅動機構，將吸附有玻璃碎片的吸附體卷輥沿著第一直線移動到殼體內，對接門關閉，靜電發生器再發出相反的靜電電荷，中和了吸附體卷表面的靜電，此時，碎片失去吸附力而掉在殼體內，吸附體卷輥上的吸附體卷在第一驅動機構的帶動下逐圈的卷到轉軸上，為下次清理做好準備。由于清掃碎片的過程中，殼體內和反應室內均為真空狀態，反應室的大氣狀態和溫度均未發生改變，無需溫度上升預熱、真空處理以及等離子體對電極表面處理等過程，對接門關閉后即可繼續投入生產，大大縮短了恢復生產的時間，從而提升了產能，同時，由于無水汽進入反應室，維持了反應室設備狀態的一致性，避免了反應室內設備的異常，保證了基板性能的一致性，從而提升了良品率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0015]為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0016]圖1為現有技術中干法刻蝕反應室中玻璃基板的受力示意圖；
[0017]圖2為本發明實施例反應室清掃裝置的結構示意圖；
[0018]圖3為本發明實施例反應室清掃裝置和干法刻蝕反應室連接后的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0019]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0020]在本發明的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。此夕卜，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。
[0021]在本發明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
[0022]圖2為本發明實施例反應室清掃裝置的一個具體實施例；參照圖2，本實施例中反應室清掃裝置，包括殼體1、吸附體卷輥2、固定架3、第一驅動機構4、第二驅動機構5以及靜電發生器6，殼體I內設有真空空間，殼體I的側壁上設置了對接門7 ;吸附體卷輥2設置于真空空間內，吸附體卷輥2包括轉軸21和套設于轉軸21上的吸附體卷22，同時，吸附體卷22可帶靜電10 ;固定架3設置于真空空間內，吸附體卷22的起始端固定于固定架3上；第一驅動機構4與轉軸21連接，且可帶動吸附體卷輥2相對于固定架3移動；第二驅動機構5與固定架3連接，且可帶動固定架3與吸附體卷輥2整體沿第一直線往復移動，對接門7位于所述第一直線上；靜電發生器6與吸附體卷22連接。
[0023]參照圖2和圖3，本發明實施例提供的一種反應室清掃裝置，包括殼體1、吸附體卷輥2、固定架3、第一驅動機構4、第二驅動機構5以及靜電發生器6;在清掃反應室01內的玻璃碎片時，通過打開對接門7將殼體I和反應室01連通，則殼體I內和反應室01內均為真空狀態，在第二驅動機構5的帶動下，將固定架3與吸附體卷輥2整體沿著第一直線向對接門7處移動，當吸附體卷棍2到達對接門7處時,第一驅動機構4帶動著吸附體卷棍2上的轉軸21轉動，由于吸附體卷22的起始端固定于固定架3上，則吸附體卷輥2上的吸附體卷22可逐圈展開并覆蓋到反應室01玻璃碎片上，通過靜電發生器6使吸附體卷22表面帶有靜電10，對玻璃碎片進行靜電吸附，再通過第二驅動機構5，將吸附有玻璃碎片的吸附體卷輥2沿著第一直線移動到殼體I內，對接門7關閉，靜電發生器6再發出相反的靜電電荷，中和了吸附體卷22表面的靜電10，此時，碎片失去吸附力而掉在殼體I內，吸附體卷輥2上的吸附體卷22在第一驅動機構4的帶動下逐圈的卷到轉軸21上，為下次清理做好準備。參照圖3，由于清掃碎片的過程中，殼體I內和反應室01內均為真空狀態，反應室01的大氣狀態和溫度均未發生改變，無需溫度上升預熱、真空處理以及等離子體對電極表面處理等過程，對接門7關閉后即可繼續投入生產，大大縮短了恢復生產的時間，從而提升了產能，同時，由于無水汽進入反應室OI，維持了反應室OI設備狀態的一致性，避免了反應室OI內設備的異常，保證了基板性能的一致性，從而提升了良品率。此外，對于大片的玻璃碎片，因吸附面積大可較輕易吸走，對于小的碎粒，可通過調節吸附體卷22到碎粒的距離或增大靜電10電壓來增加吸附力，從而將碎粒完全吸走。
[0024]另一方面，在沒有發生破片時，可對反應室01內下部電極02表面的生成物、顆粒物、細小異物以及電極陶瓷的細微脫落物進行吸附，以完成對下部電極02的清潔。當下部電極02表面的生成物附著緊密時，可通過第一驅動機構4將吸附體卷22覆蓋在下部電極02上，再在第二驅動機構5的帶動下，吸附體卷22整體往復運動，通過吸附體卷22擦拭下部電極02表面的生成物，之后再通過第一驅動機構4將吸附體卷22收縮，將吸附體卷22離開下部電極02 —定距離，通過吸附體卷22上的靜電10吸附走擦拭下的生成物，從而完成了下部電極02表面上生成物的清潔。同時，由于下部電極02長期使用后存在一定的靜電殘留，可通過吸附體卷22接觸下部電極02的表面，以去除下部電極02的靜電殘留。由于下部電極02長期受玻璃磨損和等離子體轟擊，表面活性易發生變化，可通過吸附體卷22對下部電極02表面進行靜電處理，從而改善和改變下部電極02的表面活性。此外，由于下部電極02的氦氣孔直徑非常細小，如果部分氦氣孔被氣路帶來的細小顆粒阻塞，將導致基板的冷卻效果差異，從而產品刻蝕率變化，因此，可將吸附體卷22接觸下部電極02后，在第一驅動機構4的帶動下，吸附體卷22快速的往復展開和收縮，對下部電極02形成振動沖擊波，將氦氣孔的阻塞物振松而被靜電10吸走，以保證產品刻蝕率一致。
[0025]為了實現吸附體卷輥2上的吸附體卷22逐圈的展開和收縮，第一驅動機構4可采用電機帶動齒輪和伸縮臂的結構、氣缸帶動伸縮臂的結構等多種結構，也可選擇如圖2所示的結構，第一驅動機構4由齒輪41、齒條42、第一連接臂43、第二連接臂44以及第一氣缸45組成,第一氣缸45的活塞桿與齒條42固定連接，同時，齒輪41與齒條42相卩齒合,齒輪41通過齒輪旋轉軸固定于固定架3上，第一連接臂43的一端與齒輪41固定連接，另一端與第二連接臂44的一端鉸接，第二連接臂44的另一端與轉軸21固定連接，由此，第一氣缸45的活塞桿可帶動著齒條42向靠近對接門7方向或者遠離對接門7方向移動，齒條42移動帶動著齒輪41轉動，隨著齒輪41的轉動，第一連接臂43可帶動著第二連接臂44向靠近對接門7方向或者遠離對接門7方向移動，當第二連接臂44向靠近對接門7方向移動時，則吸附體卷22可展開，相反，當第二連接臂44向遠離對接門7方向移動，則吸附體卷22可卷到轉軸21上。
[0026]第一氣缸45可設置于殼體I內部，也可設置于殼體I外部，為了節省制作殼體I的材料，優選第一氣缸45設置于殼體I外部，且第一氣缸45的活塞桿穿過殼體I的側壁后與齒條42固定連接，由此，節省了殼體I制作成本，同時，減小了殼體I的體積，節省了空間。
[0027]第一連接臂43和第二連接臂44之間可設置有復位彈簧8，也可不設置復位彈簧8，若設置復位彈8簧，則第二連接臂44向前移動時，復位彈簧8展開，第二連接臂44向后移動時，復位彈簧8收縮，由于復位彈簧8的收縮增加了第二連接臂44向后移動的力，從而使得第二連接臂44更易于向后移動，進而吸附體卷22更易于收縮，因此，優選第一連接臂43和第二連接臂44之間設置有復位彈簧8，由此，使得吸附體卷22更易于收縮。
[0028]為了實現固定架3與吸附體卷輥2整體沿第一直線往復移動，第二驅動機構5可包括氣缸、液壓缸等可直線推動或者拉回的結構，由于氣缸操作簡單、易于安裝，因此，優選第二驅動機構5包括第二氣缸5,同時,第二氣缸5的活塞桿與固定架3固定連接,又由于吸附體卷22的起始端固定于固定架3上，由此，第二氣缸5的活塞桿可推動或者拉回固定架3與吸附體卷輥2整體沿第一直線往復移動。
[0029]第二氣缸5和第一氣缸45相同，既可設置于殼體I內部，也可設置于殼體I外部，為了節省制作殼體I的材料，優選第二氣缸5設置于殼體I外部，同時，第二氣缸5的活塞桿穿過殼體I的側壁后與齒條42固定連接，由此，節省了制作殼體I的材料，同時，殼體I體積較小，節省了空間。
[0030]吸附體卷22可采用橡膠、塑料等絕緣材料制成，由于橡膠的絕緣性較好，橡膠表面更易于帶有靜電10，且不易損耗，因此，優選吸附體卷22由橡膠制成，由此，可使得吸附體卷22上易于帶有靜電10,且靜電10量保持不變。
[0031]為了使吸附體卷22既可吸附玻璃碎片，又可在吸附后將玻璃碎片掉落到殼體I內，優選靜電發生器6既可發出正電荷，也可發出負電荷，由此，吸附體卷22表面可帶有正電荷靜電10或者負電荷靜電10，例如，吸附體卷22覆蓋在玻璃碎片上時，靜電發生器6使吸附體卷22表面帶有正電荷靜電10，完成對玻璃碎片的吸附并回到殼體I后，靜電發生器6發出負電荷，中和了吸附體卷22表面上的正電荷靜電10，則玻璃碎片失去吸附性而掉落到殼體I內；也可使吸附體卷22表面先帶有負電荷靜電10進行吸附碎片，再通過正電荷以中和負電荷，使附體卷表面失去吸附力，從而玻璃碎片掉落下來。
[0032]對接門7可手動開啟和關閉，也可在對接門7上連接驅動電機9，驅動電機9帶動著對接門7開啟和閉合，為了操作方便，優選在對接門7上連接驅動電機9，通過驅動電機9帶動著對接門7開啟和閉合，方便操作。
[0033]在本說明書的描述中，具體特征、結構、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。
[0034]以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
【權利要求】
1.一種反應室清掃裝置，其特征在于，包括: 殼體，所述殼體內設有真空空間，所述殼體的側壁上設有對接門； 吸附體卷輥，所述吸附體卷輥設置于所述真空空間內，所述吸附體卷輥包括轉軸和套設于所述轉軸上的吸附體卷，所述吸附體卷可帶靜電； 固定架，所述固定架設置于所述真空空間內，所述吸附體卷的起始端固定于所述固定架上； 第一驅動機構，所述第一驅動機構與所述轉軸連接，且可帶動所述吸附體卷輥相對于所述固定架移動； 第二驅動機構，所述第二驅動機構與所述固定架連接，且可帶動所述固定架與所述吸附體卷輥整體沿第一直線往復移動,所述對接門位于所述第一直線上； 靜電發生器，所述靜電發生器與所述吸附體卷連接。
2.根據權利要求1所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述第一驅動機構包括齒輪、齒條、第一連接臂、第二連接臂以及第一氣缸，所述第一氣缸的活塞桿與所述齒條固定連接，所述齒輪與所述齒條相嚙合，所述齒輪通過齒輪旋轉軸固定于所述固定架上，所述第一連接臂的一端與所述齒輪固定連接，另一端與所述第二連接臂的一端鉸接，所述第二連接臂的另一端與所述轉軸固定連接。
3.根據權利要求2所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述第一氣缸設置于所述殼體外部，所述第一氣缸的活塞桿穿過所述殼體的側壁后與所述齒條固定連接。
4.根據權利要求2或3所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述第一連接臂和第二連接臂之間設有復位彈簧。
5.根據權利要求1所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述第二驅動機構包括第二氣缸，所述第二氣缸的活塞桿與所述固定架固定連接。
6.根據權利要求5所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述第二氣缸設置于所述殼體外部，所述第二氣缸的活塞桿穿過所述殼體的側壁后與所述固定架固定連接。
7.根據權利要求1所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述吸附體卷由橡膠制成。
8.根據權利要求1所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述靜電發生器可發出正電荷和負電荷。
9.根據權利要求1所述的反應室清掃裝置，其特征在于，所述對接門連接有驅動電機，所述驅動電機可帶動對接門開啟和閉合。
【文檔編號】B08B6/00GK104148333SQ201410313221
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年7月2日 優先權日:2014年7月2日
【發明者】張定濤, 陳程, 鄭云友, 宋泳珍, 李偉 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司