一種清潔設備和轉印系統的制作方法
【專利摘要】本發明提供一種清潔設備和轉印系統。該清潔設備用于對轉印版進行清潔，包括清潔機構，還包括支撐結構，支撐結構設置于清潔機構內，支撐結構設置有凸弧面，轉印版附著于凸弧面上，轉印版具有與凸弧面形狀相同的弧面形狀。該清潔設備通過設置具有凸弧面的支撐結構，并將轉印版附著于凸弧面上，使轉印版具有與凸弧面形狀相同的弧面形狀，這能夠使轉印版在被清潔時呈彎曲狀態，從而增大了轉印版與清潔劑的接觸面積，進而能夠有效的去除殘留于轉印版上的轉印材料，提高轉印版的清潔度，同時還節約了成本并提高了顯示面板的顯示品質。
【專利說明】一種清潔設備和轉印系統
【技術領域】
[0001]本發明涉及平板顯示領域的涂布技術，具體地，涉及一種清潔設備和轉印系統。
【背景技術】
[0002]在液晶顯示面板(LCD)的生產過程中，為了使液晶分子能夠正確的取向，需要在陣列基板(Array)和彩膜基板(CF)的表面涂覆一層聚酰亞胺(PI)膜，然后在PI膜上進行摩擦處理，以實現液晶分子的取向。
[0003]在陣列基板和彩膜基板上涂覆PI膜一般采用高效的轉印版(APR版)轉印技術。轉印版轉印的設備基本結構如圖1所示，主要包括:設備框架1、轉印版2、輥輪3、輥軸4和工作臺5。其中，輥軸4固定在設備框架I的側壁上，輥軸4的轉動帶動與其連接的輥輪3轉動，圖1中矩形的轉印版2包裹在輥輪3的側表面上，工作臺5上用于放置玻璃基板9 (如陣列基板或彩膜基板)，當玻璃基板9放置在工作臺5上后，包裹在輥輪3上的轉印版2與玻璃基板9接觸；借助工作臺5的傳動功能，玻璃基板9在工作臺5的流水線上傳動，輥輪3也同時轉動，從而將轉印版2上用于形成PI膜的PI液涂覆在玻璃基板9上，形成PI膜。
[0004]通常，如圖2所示，根據工藝設計需要，轉印版表面設計為網狀排布的凸峰21，相鄰的凸峰21之間間隔形成凹谷22。凸峰21和凹谷22的作用主要是吸附PI液，然后在轉印版的轉印過程中將PI液涂覆在玻璃基板上。轉印版在轉印完畢后，在凸峰21上和凹谷22內通常會殘留一定量的PI液，這使轉印版不能直接用于再次轉印，需要將其從輥輪上拆卸下來并送往清洗設備進行清洗。將轉印版送往清洗設備的過程中需要大量的時間，殘留在凸峰21上和凹谷22內的PI液通常都已固化為PI顆粒物，PI顆粒物比較難以去除。
[0005]現有的對轉印版2的清洗通常是將轉印版2垂直(如圖3所示)或水平放置于清洗槽6內，然后通過清洗溶劑對其進行清洗。由于從轉印到清洗的過程中，轉印版2由包裹在輥輪上的彎曲狀態(如圖4所示)轉換為垂直或水平放置的直面狀態(如圖2所示)，相鄰的凸峰21會對夾在中間的凹谷22產生壓力，該壓力會將凹谷22內殘留的已固化的PI顆粒物夾緊，并減少了 PI顆粒物與清洗溶劑的接觸面積，因此，凹谷22內的PI顆粒物會嚴重殘留，而殘留在凸峰21頂面的PI顆粒物由于在清洗槽6內暴露面積足夠而很容易被清洗掉。
[0006]當轉印版2再次使用時，會再次經歷由垂直或水平放置的直面狀態(如圖2所示)轉換為包裹在輥輪上的彎曲狀態(如圖4所示)，此時，夾在凹谷22內的殘留PI顆粒物會因受到兩側凸峰21的拉力而松動，且增加了與即將涂覆的PI液的浸潤面積，由于PI液與PI顆粒物的極性相似，根據極性相似相吸性原理，夾在凹谷22內的殘留的PI顆粒物會在轉印的過程中大量轉移出來，造成涂覆在玻璃基板上的PI膜在固化前出現固體和液體的兩相不容；在PI膜的后續固化過程中，由于已經產生了兩相不容的體系，所以最終會在固化后的PI膜層上出現一個分相的異物區域或者點，導致LCD在點亮之后會出現異常點，嚴重影響顯示質量。
【發明內容】
[0007]本發明針對現有技術中存在的上述技術問題，提供一種清潔設備和轉印系統。該清潔設備通過設置具有凸弧面的支撐結構，并將轉印版附著于凸弧面上，使轉印版具有與凸弧面形狀相同的弧面形狀，能夠使轉印版在被清潔時呈彎曲狀態，從而增大了轉印版與清潔劑的接觸面積，進而能夠有效的去除殘留于轉印版上的轉印材料，提高轉印版的清潔度，同時還節約了成本并提高了顯示面板的顯示品質。
[0008]本發明提供一種清潔設備，用于對轉印版進行清潔，包括清潔機構，還包括支撐結構，所述支撐結構設置于所述清潔機構內，所述支撐結構設置有凸弧面，所述轉印版附著于所述凸弧面上，所述轉印版具有與所述凸弧面形狀相同的弧面形狀。
[0009]優選地，所述轉印版具有轉印面以及與所述轉印面相背的附著面，所述轉印面用于對轉印材料進行轉印，所述轉印面上均勻分布有網點狀凸峰，相鄰的所述凸峰之間間隔形成凹谷；所述附著面能附著在所述凸弧面上。
[0010]優選地，所述轉印版在轉印時能形成弧面，所述凸弧面的弧面半徑小于等于所述轉印版在轉印時所形成的弧面半徑。
[0011 ] 優選地，所述支撐結構還包括連接件，所述連接件活動設置于所述清潔機構內，所述連接件能帶動所述凸弧面在所述清潔機構內運動。
[0012]優選地，所述支撐結構為圓柱體輥子，所述凸弧面為所述圓柱體輥子的輥面、所述連接件為所述圓柱體輥子的輥軸；所述支撐結構為圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒，所述凸弧面為所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的外筒面、所述連接件為所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的筒軸。
[0013]優選地，所述圓柱體輥子的輥面、所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的外筒面形成的所述凸弧面的弧長大于等于所述轉印版的長度/寬度；沿所述圓柱體輥子的輥軸、所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的筒軸的延伸方向，所述凸弧面的寬度大于等于所述轉印版的寬度/長度。
[0014]優選地，所述清潔機構包括浸泡槽，所述浸泡槽內設置有浸泡溶劑，所述浸泡溶劑用于對殘留在所述轉印版上的轉印材料進行溶解。
[0015]優選地，所述清潔機構還包括擦拭槽和擦拭部件，所述擦拭部件對應設置于所述擦拭槽的槽頂，所述擦拭部件包括毛刷，所述毛刷能與所述轉印版的所述轉印面接觸，并對殘留在所述轉印面上的轉印材料進行擦拭。
[0016]優選地，所述毛刷的硬度低于所述轉印版的版材的硬度。
[0017]優選地，所述清潔機構還包括噴淋槽和噴淋部件，所述噴淋部件對應設置于所述噴淋槽的槽頂，所述噴淋部件包括多個均勻分布的噴淋孔，所述噴淋孔能夠向所述轉印版的所述轉印面上噴淋清洗溶劑，以對殘留在所述轉印面上的轉印材料進行清洗。
[0018]優選地，所述清潔機構還包括干燥槽，所述干燥槽內設置有烘干部件，所述烘干部件能向所述轉印版吹風，以去除所述轉印版上殘留的水份。
[0019]本發明還提供一種轉印系統，包括上述清潔設備。
[0020]本發明的有益效果:本發明提供清潔設備，通過設置具有凸弧面的支撐結構，并將轉印版附著于凸弧面上，使轉印版具有與凸弧面形狀相同的弧面形狀，這能夠使轉印版的轉印面在被清潔時呈彎曲狀態，從而增大了轉印版的凹谷與清潔劑的接觸面積，也即增大了殘留于凹谷內的轉印材料(如已固化的PI顆粒物)與清潔劑的接觸面積，進而能夠有效的去除殘留于轉印版凹谷內的PI顆粒物，提高轉印版的清潔度，降低由于轉印版上殘留PI顆粒物而引起的取向膜異常，同時還節約了成本并提高了顯示面板的顯示品質。
[0021]本發明所提供的轉印系統，通過上述清潔設備，不僅能使該轉印系統運作起來更加高效，而且能使該轉印系統轉印出的產品品質更好。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0022]圖1為現有技術中轉印版在轉印時的設備結構示意圖；
[0023]圖2為轉印版表面(轉印面)的結構示意圖；
[0024]圖3為現有技術中轉印版在清潔時的設備結構示意圖；
[0025]圖4為現有技術中轉印版在轉印時包裹在輥輪上的狀態示意圖；
[0026]圖5為本發明實施例1中清潔設備的結構示意圖；
[0027]圖6為實施例1中清潔機構的組成結構示意圖。
[0028]其中的附圖標記說明:
[0029]1.設備框架；2.轉印版；21.凸峰；22.凹谷；3.輥輪；4輥軸；5.工作臺；6.清洗槽；7.清潔機構；71.浸泡槽；72.擦拭槽；73.擦拭部件；74.噴淋槽；75.噴淋部件；76.干燥槽；8.支撐結構；81.凸弧面；82.連接件；9.玻璃基板。
【具體實施方式】
[0030]為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明所提供的一種清潔設備和轉印系統作進一步詳細描述。
[0031]實施例1:
[0032]本實施例提供一種清潔設備，用于對轉印版進行清潔，如圖5所示，包括清潔機構7，還包括支撐結構8，支撐結構8設置于清潔機構7內，支撐結構8設置有凸弧面81，轉印版2附著于凸弧面81上，轉印版2具有與凸弧面81形狀相同的弧面形狀。
[0033]其中，如圖2所示，轉印版2具有轉印面以及與轉印面相背的附著面，轉印面用于對轉印材料(如聚酰亞胺，形成取向膜的液體材料，即PI液)進行轉印，轉印面上均勻分布有網點狀凸峰21，相鄰的凸峰21之間間隔形成凹谷22。凸峰21的分布密度大約為400線/英寸，凹谷22的深度大約為15 μ m,且凹谷22側面的傾斜角度約為45°，凸峰21和凹谷22的設置能夠使轉印材料在轉印版2上涂布的更加均勻。附著面能附著在凸弧面81上。如此設置，能夠使轉印版2的轉印面在被清潔時呈彎曲狀態，從而增大了轉印版2的凹谷22與清潔劑的接觸面積，也即增大了殘留于凹谷22內的轉印材料(如已固化的PI顆粒物)與清潔劑的接觸面積，進而能夠有效的去除殘留于轉印版2凹谷22內的PI顆粒物，提高轉印版2的清潔度，降低了由于轉印版2上殘留PI顆粒物而引起的取向膜異常，同時還節約了成本并提高了顯示面板的顯示品質。
[0034]本實施例中，轉印版2在轉印時能形成弧面，凸弧面81的弧面半徑小于轉印版2在轉印時所形成的弧面半徑。這使得清潔時轉印版2凹谷22的敞開面積大于轉印版2在轉印時凹谷22的敞開面積，由此使得清潔時固化并殘留于轉印版2凹谷22內的PI顆粒物與清潔劑的接觸面積增大，從而能夠有效的去除殘留于轉印版2凹谷22內的PI顆粒物，提高轉印版2的清潔度。[0035]另外，在轉印版2由轉印時的弧面形狀轉換為清潔時的半徑更小的弧面形狀時，夾在凹谷22內的殘留PI顆粒物會因受到兩側凸峰21的拉力而松動，松動的PI顆粒物會在清潔的過程中大量轉移出來，這又進一步增加了 PI顆粒物與清潔劑的接觸面積，有利于殘留的PI顆粒物被徹底的清潔干凈。
[0036]本實施例中，如圖5所示，支撐結構8還包括連接件82，連接件82活動設置于清潔機構7內，連接件82能帶動凸弧面81在清潔機構7內運動。連接件82的設置能使附著在凸弧面81上的轉印版2在凸弧面81的帶動下運動，從而使轉印版2的各個位置都能被清潔干凈。
[0037]本實施例中，支撐結構8為圓柱體輥子，凸弧面81為圓柱體輥子的輥面、連接件82為圓柱體輥子的輥軸，輥軸的兩端部與清潔機構7的內壁活動連接，輥軸能轉動并帶動凸弧面81在清潔機構7內轉動。
[0038]需要說明的是，支撐結構8也可以為圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒，凸弧面81為圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒的外筒面、連接件82為圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒的筒軸。
[0039]其中，圓柱體輥子的輥面、圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒的外筒面形成的凸弧面81的弧長大于等于轉印版2的長度/寬度；沿圓柱體輥子的輥軸、圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒的筒軸的延伸方向，凸弧面81的寬度大于等于轉印版2的寬度/長度。凸弧面81的弧長指沿垂直于輥軸或筒軸的剖切面剖切凸弧面，在剖切面上顯示為一條弧線，該弧線的長度即為凸弧面81的弧長。如此設置，使轉印版2能完全展開并整體全部附著于凸弧面81上，不會出現轉印版2在凸弧面81上局部或部分重疊的現象，從而有利于轉印版2的徹底清潔。
[0040]本實施例中，如圖6所示,清潔機構包括浸泡槽71,浸泡槽71內設置有浸泡溶劑(圖6中未示出)，浸泡溶劑用于對殘留在轉印版2上的轉印材料進行溶解。浸泡溶劑如可以溶解PI顆粒物的極性溶劑，如NMP等。浸泡時間可以隨意設定，能使PI顆粒物由固體轉變為液體即可，如可以設一個小時的浸泡時間。
[0041]清潔機構還包括擦拭槽72和擦拭部件73，擦拭部件73對應設置于擦拭槽72的槽頂，擦拭部件73包括毛刷，毛刷能與轉印版2的轉印面接觸，并對殘留在轉印面上的轉印材料進行擦拭。其中，毛刷的硬度低于轉印版2的版材的硬度，如此使得毛刷在擦拭過程中不會對轉印版2造成劃痕等損壞。
[0042]清潔機構還包括噴淋槽74和噴淋部件75，噴淋部件75對應設置于噴淋槽74的槽頂，噴淋部件75包括多個均勻分布的噴淋孔，噴淋孔能夠向轉印版2的轉印面上噴淋清洗溶劑，以對殘留在轉印面上的轉印材料進行清洗。清洗溶劑為如NMP或去離子水等，噴淋時間可隨意設定，如設為半小時。清洗溶劑可以通過循環和過濾裝置進行循環處理利用。通過噴淋，最終達到溶解和去除殘留于轉印版2上的PI顆粒物的目的。
[0043]需要說明的是，本實施例中，轉印版2經過浸泡之后，先通過NMP進行噴淋，然后在擦拭槽72內進行擦拭，接著再通過去離子水進行噴淋。如此能使轉印版2能夠被徹底清潔干凈。
[0044]本實施例中，清潔機構還包括干燥槽76，干燥槽76內設置有烘干部件，烘干部件能向轉印版2吹風，以去除轉印版2上殘留的水份。最后將轉印版2從支撐結構上拆下來，置于恒溫恒濕的環境中靜止至少半個小時，以便轉印版2再次投入轉印。
[0045]實施例2:
[0046]本實施例提供一種清潔設備，與實施例1不同的是，凸弧面的弧面半徑等于轉印版在轉印時所形成的弧面半徑。
[0047]清潔設備的其他結構與實施例1中相同，此處不再贅述。
[0048]相對于實施例1中凸弧面的弧面半徑大于轉印版在轉印時所形成的弧面半徑，當凸弧面的弧面半徑等于轉印版在轉印時所形成的弧面半徑時，轉印版凹谷的敞開面積等于轉印版在轉印時凹谷的敞開面積，也能夠有效的去除殘留于轉印版凹谷內的PI顆粒物，提高轉印版的清潔度，但相比于實施例1中的情況，清潔效果略差。
[0049]實施例1-2的有益效果:實施例1-2所提供的清潔設備，通過設置具有凸弧面的支撐結構，并將轉印版附著于凸弧面上，使轉印版具有與凸弧面形狀相同的弧面形狀，這能夠使轉印版的轉印面在被清潔時呈彎曲狀態，從而增大了轉印版的凹谷與清潔劑的接觸面積，也即增大了殘留于凹谷內的轉印材料(如已固化的PI顆粒物)與清潔劑的接觸面積，進而能夠有效的去除殘留于轉印版凹谷內的PI顆粒物，提高轉印版的清潔度，降低由于轉印版上殘留PI顆粒物而引起的取向膜異常，同時還節約了成本并提高了顯示面板的顯示品質。
[0050]實施例3:
[0051]本實施例提供一種轉印系統，包括實施例1-2任一中的清潔設備。
[0052]通過實施例1-2任一中的清潔設備,不僅能使該轉印系統運作起來更加高效,而且能使該轉印系統轉印出的產品品質更好。
[0053]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種清潔設備，用于對轉印版進行清潔，包括清潔機構，其特征在于，還包括支撐結構，所述支撐結構設置于所述清潔機構內，所述支撐結構設置有凸弧面，所述轉印版附著于所述凸弧面上，所述轉印版具有與所述凸弧面形狀相同的弧面形狀。
2.根據權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述轉印版具有轉印面以及與所述轉印面相背的附著面，所述轉印面用于對轉印材料進行轉印，所述轉印面上均勻分布有網點狀凸峰，相鄰的所述凸峰之間間隔形成凹谷；所述附著面能附著在所述凸弧面上。
3.根據權利要求2所述的清潔設備，其特征在于，所述轉印版在轉印時能形成弧面，所述凸弧面的弧面半徑小于等于所述轉印版在轉印時所形成的弧面半徑。
4.根據權利要求3所述的清潔設備，其特征在于，所述支撐結構還包括連接件，所述連接件活動設置于所述清潔機構內，所述連接件能帶動所述凸弧面在所述清潔機構內運動。
5.根據權利要求4所述的清潔設備，其特征在于，所述支撐結構為圓柱體輥子，所述凸弧面為所述圓柱體輥子的輥面、所述連接件為所述圓柱體輥子的輥軸；所述支撐結構為圓柱形筒或不閉合的圓柱形筒，所述凸弧面為所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的外筒面、所述連接件為所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的筒軸。
6.根據權利要求5所述的清潔設備，其特征在于，所述圓柱體輥子的輥面、所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的外筒面形成的所述凸弧面的弧長大于等于所述轉印版的長度/寬度；沿所述圓柱體輥子的輥軸、所述圓柱形筒或所述不閉合的圓柱形筒的筒軸的延伸方向，所述凸弧面的寬度大于等于所述轉印版的寬度/長度。
7.根據權利要求6所述的清潔設備，其特征在于，所述清潔機構包括浸泡槽，所述浸泡槽內設置有浸泡溶劑，所述浸泡溶劑用于對殘留在所述轉印版上的轉印材料進行溶解。
8.根據權利要求7所述的清潔設備，其特征在于，所述清潔機構還包括擦拭槽和擦拭部件，所述擦拭部件對應設置于所述擦拭槽的槽頂，所述擦拭部件包括毛刷，所述毛刷能與所述轉印版的所述轉印面接觸，并對殘留在所述轉印面上的轉印材料進行擦拭。
9.根據權利要求8所述的清潔設備，其特征在于，所述毛刷的硬度低于所述轉印版的版材的硬度。
10.根據權利要求8所述的清潔設備，其特征在于，所述清潔機構還包括噴淋槽和噴淋部件，所述噴淋部件對應設置于所述噴淋槽的槽頂，所述噴淋部件包括多個均勻分布的噴淋孔，所述噴淋孔能夠向所述轉印版的所述轉印面上噴淋清洗溶劑，以對殘留在所述轉印面上的轉印材料進行清洗。
11.根據權利要求10所述的清潔設備，其特征在于，所述清潔機構還包括干燥槽，所述干燥槽內設置有烘干部件，所述烘干部件能向所述轉印版吹風，以去除所述轉印版上殘留的水份。
12.—種轉印系統，其特征在于，包括權利要求1-11任意一項所述的清潔設備。
【文檔編號】B08B1/02GK103962335SQ201410148312
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2014年4月14日 優先權日:2014年4月14日
【發明者】李建, 李鴻鵬, 宋省勳, 陳旭 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司