一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，它包含了制造工藝人員將液晶顯示屏基板放置到專用鋁盤、將裝有液晶顯示屏基板的專用鋁盤放入到裝有超純水的超聲波清洗機臺內、設定超聲波清洗機臺參數并啟動電源清洗、將清洗完畢的液晶顯示屏基板取出放入氮氣柜中進行保存待用幾個步驟，該該工藝能夠讓液晶顯示屏基板表面得到一致性的清潔度，對表面臟污與氧化層進行有效處理；該工藝可以最大降低產品的不良率，從而最大限度地控制產品因返修而產生額外成本；最大程度的降低人工成本。
【專利說明】一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種制造工藝流程，尤其涉及一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝。【背景技術】
[0002]目前大多數制造廠清洗液晶顯示屏基板的工藝流程，液晶顯示屏基板從真空袋中取出，制造廠都是用酒精或橡皮擦直接對液晶顯示屏基板表面臟污及氧化層進行處理，雖然以上方法很有效，但是無形當中液晶顯示屏基板表面涂層會被破壞且基板表面清潔度不一致，當用橡皮擦清潔時，也會污染操作環境。
【發明內容】
[0003]本發明的目的是在于提供一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，該工藝所要解決的技術問題是克服現有技術的不足。
[0004]為了實現上述技術目的，本發明采取的技術方案是:一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，它包含了制造工藝人員將液晶顯示屏基板放置到專用鋁盤、將裝有液晶顯示屏基板的專用鋁盤放入到裝有超純水的超聲波清洗機臺內、設定超聲波清洗機臺參數并啟動電源清洗、將清洗完畢的液晶顯示屏基板取出放入氮氣柜中進行保存待用幾個步驟。
[0005]在本發明中所述，制造工藝人員把液晶顯示屏基板以手動的方式按照規定的方位放置到專用鋁盤內。
[0006]在本發明中所述，制造工藝人員以手持或推車牽引等方式將裝有液晶顯示屏基板的專用鋁盤傳送至超聲波清洗機臺處。
[0007]在本發明中所述，制造工藝人員為不同的液晶顯示屏基板設置等超聲波清洗機臺參數。
[0008]在本發明中所述，清洗液晶顯示屏基板的液體為超純水。
[0009]在本發明中所述，超聲波清洗機臺可以為半自動或全自動機臺。
[0010]本發明的優點和積極效果是:1.該工藝能夠讓液晶顯示屏基板表面得到一致性的清潔度，對表面臟污與氧化層進行有效處理；2.該工藝可以最大降低產品的不良率，從而最大限度地控制產品因返修而產生額外成本；3.最大程度的降低人工成本。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]此處所說明的附圖用來提供對本發明的進下理解，構成本申請的一部分，并不構成對本發明的限定。
[0012]圖1為一種清洗超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝流程圖。
[0013]其中:1、2、3、4、5、6為清洗工藝流程步驟。
具體實施方案[0014]下面結合附圖對本發明進一步的說明，附件圖中的組成工藝步驟并不一定符合比例，而是以強調的方式描述出本發明的流程。
[0015]參見圖1，為本發明制造工藝的步驟流程圖，首先在步驟1、2中，制造工藝人員把液晶顯示屏基板裝入到專用鋁盤，把專用鋁盤固定在鋁盤架上，層與層之間相隔一定的距離，再把鋁盤架用手持或推車的牽引方式傳送等離子清洗機臺旁，在步驟3中，制造工藝人員為清洗液晶顯示屏基板選擇超聲波清洗機臺后，制造工藝人員會設定其清洗工藝參數，以手動方式將裝有液晶顯示屏基板的鋁盤架送入到已選定的超聲波清洗機臺內，清洗工藝參數包含該欲進行液晶顯示屏基板的數量、工藝參數或站點等，在步驟4中，在設定完清洗參數后，啟動超聲波清洗機臺，并定期檢測清洗效果，在步驟5中，制造工藝人員手動將清洗完成后的液晶顯示屏基板從鋁架取出，并送到氮氣柜保存待用，以防止液晶顯示屏基板表面再次污染及氧化。
[0016]本發明中，以上所述的具體實施例，對本發明的目的、技術方案和效果進行了詳細的說明，所應理解是，以上所述僅為本發明的具體實施例而已，并不用于限定本發明的保護范圍，凡在本發明的精神和原則之內，所做的任何修改、替換和改進等，均應包含在本發明的保護范圍內。
【權利要求】
1.一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，它包含了制造工藝人員將液晶顯示屏基板放置到專用鋁盤、將裝有液晶顯示屏基板的專用鋁盤放入到裝有超純水的超聲波清洗機臺內、設定超聲波清洗機臺參數并啟動電源清洗、將清洗完畢的液晶顯示屏基板取出放入氮氣柜中進行保存待用幾個步驟。
2.根據權利要求1所述的一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，所述制造工藝人員把液晶顯示屏基板以手動的方式按照規定的方位放置到專用鋁盤內。
3.根據權利要求1所述的一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，所述制造工藝人員以手持或推車牽引等方式將裝有液晶顯示屏基板的專用鋁盤傳送至超聲波清洗機臺處。
4.根據權利要求1所述的一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，所述制造工藝人員為不同的液晶顯示屏基板設置等超聲波清洗機臺參數。
5.根據權利要求1所述的一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，所述清洗液晶顯不屏基板的液體為超純水。
6.根據權利要求1所述的一種超聲波清洗液晶顯示屏基板工藝，其特征是，所述超聲波清洗機臺可以為半自動或全自動機臺。
【文檔編號】B08B3/12GK103752557SQ201410049803
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2014年2月13日 優先權日:2014年2月13日
【發明者】楊黎明 申請人:蘇州眾顯電子科技有限公司