高性能光伏硅片專用清洗液的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種高性能光伏硅片專用清洗液，由高分子羧酸、有機胺、表面活性劑、絡合劑、腐蝕抑制劑、其它助劑、水組成。本發明清洗性能優異、使用安全、環保。
【專利說明】高性能光伏硅片專用清洗液
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種光伏硅片清洗液。
【背景技術】
[0002]在太陽能光伏企業，為確保電池片的電性能、可靠性和成品率，首先要對前道線切割加工后的硅片進行粗清洗，把以物理形式吸附在硅片表面的有機物玷污(油脂、松香、環氧樹脂、聚乙二醇等)、塵埃顆粒以及以化學形式存在于硅片自身氧化膜中的金屬離子雜質去除掉，同時又不損壞硅片、或造成金屬離子雜質的重新沉淀和再次污染。清洗的方法，首先是去除硅片表面的有機物玷污和塵埃顆粒，然后再溶解氧化膜、去除金屬離子雜質。對清洗液的要求，一是清洗性能(清洗效率)、滲透性能(滲透時間)要好；二是對硅片無腐蝕和損傷；三是對人體無危害，對環境無污染，安全衛生質量可靠；四是適用清洗工藝要廣泛，不用加熱，常溫下即可使用。由于工藝、技術落后多種原因，目前市售的硅片專用清洗劑普遍不盡人意。一是清洗效率低(< 90%)，滲透時間長(> 8S)，清洗性能和滲透性能差；二是PH值偏高(> 11)，導致硅片腐蝕損傷較突出；三是配方含有次氯酸鈉、有機溶劑等有刺激性氣味或有毒物質，安全衛生質量差；四是清洗工藝單一，且需要加熱至40°C以上方能使用(消耗能源)。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于提供一種清洗性能優異、使用安全的高性能光伏硅片專用清洗液。
[0004]本發明的技術方案是:
一種高性能光伏硅片專用清洗 液，其特征是:由下列重量組成組成:
高分子羧酸2~4%
有機胺3~5%
表面活性劑15~40%
絡合劑5~15%
腐蝕抑制劑0.2~1%
其它助劑3~12%
水余量。
[0005]所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
[0006]所述有機胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、嗎啉、二環己胺、N-甲基嗎啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
[0007]所述表面活性劑是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯醚(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚(9~20)、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯(5~12)或磺酸鹽。
[0008]所述絡合劑是乙二胺四乙酸二鈉、乙二胺四乙酸四鈉或三聚磷酸鈉。[0009]所述腐蝕抑制劑是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、IH-1或2，4-三氮唑。[0010]所述其它助劑是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇單丁醚或丙二醇正丁醚。
[0011]本發明是應用于太陽能光伏企業對線切割加工后的硅片的粗清洗，確保后道制備的電池片的電性能、可靠性和成品率；具有優良的清洗性能(可去除掉附著在硅片表面的有機物玷污、塵埃顆粒以及硅片氧化膜中的金屬離子雜質，清洗率> 99.5%)、滲透性能(能又好又快地滲透到硅片內部，滲透時間≤2S)。適中的PH值(5%稀釋液，PH值為9.6±0.5)，對硅片無腐蝕和損傷。不使用對環境和人體造成危害的亞硝酸鈉等有毒物質，產品生物半致死量LD50≥5000mg/kg，半致死濃度LC50≥5000mg/m3,呼吸道粘膜刺激≤I級，具有可靠的安全衛生質量。可適用于超聲波、噴流、浸潰等多種方式的清洗工藝，且不用加熱(無能源消耗)，常溫下即可使用。
[0012]下面結合實施例對本發明作進一步說明。
【具體實施方式】
[0013]實施例1:
將下列重量組分在一定條件下混合攪拌，得產品:
三乙醇胺3%
油酸2%
脂肪醇聚氧乙烯醚(9)12%
磺酸鈉5%
聚氧乙烯聚氧丙烯醚(12)7%
丁二酸衍生物0.5%
乙二胺四乙酸二鈉10%
丁二醇7%
去離子水余量。
[0014]實施例2:
一種高性能光伏硅片專用清洗液，由下列重量組成組成:
高分子羧酸2~4% (例2%、3%、4%)
有機胺3~5% (例2%、3%、5%)
表面活性劑15~40% (例15%、25%、40%)
絡合劑5 ~15% (例 5%、10%、15%)
腐蝕抑制劑0.2~I % (例0.2%、0.8%、1%)
其它助劑3~12% (例3%、8%、12%)
水余量。
[0015]所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
[0016]所述有機胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、嗎啉、二環己胺、N-甲基嗎啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
[0017]所述表面活性劑是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯醚(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚(9~20)、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯(5~12)或磺酸鹽。
[0018]所述絡合劑是乙二胺四乙酸二鈉、乙二胺四乙酸四鈉或三聚磷酸鈉。
[0019]所述腐蝕抑制劑是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、IH-1或2，4-三氮唑。
[0020]所述其它助劑是乙`醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇單丁醚或丙二醇正丁醚。
【權利要求】
1.一種高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:由下列重量組成組成: 高分子羧酸2~4% 有機胺3~5% 表面活性劑15~40% 絡合劑5~15% 腐蝕抑制劑0.2~1% 其它助劑3~12%水余量。
2.根據權利要求1所 述的高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:所述高分子羧酸是辛酸、正壬酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、月桂二酸或油酸。
3.根據權利要求1或2所述的高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:所述有機胺是一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、嗎啉、二環己胺、N-甲基嗎啉、2-氨基-2-甲基-1-丙醇或二乙胺基乙醇。
4.根據權利要求1或2所述的高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:所述表面活性劑是脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯醚(5~12)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯醚(9~20)、烷基醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯酯(5~12)或磺酸鹽。
5.根據權利要求1或2所述的高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:所述絡合劑是乙二胺四乙酸二鈉、乙二胺四乙酸四鈉或三聚磷酸鈉。
6.根據權利要求1或2所述的高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:所述腐蝕抑制劑是丁二酸衍生物、苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、IH-1或2，4-三氮唑。
7.根據權利要求1或2所述的高性能光伏硅片專用清洗液，其特征是:所述其它助劑是乙醇、丙醇、丁二醇、丙二醇、乙二醇單丁醚或丙二醇正丁醚。
【文檔編號】C11D3/30GK103525573SQ201310480447
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年10月15日 優先權日:2013年10月15日
【發明者】林麗靜, 常建忠, 阿部聰, 俞威, 王偉珍 申請人:上海尤希路化學工業有限公司