細(xì)胞分析儀及其清洗系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，包括流體動力源、后池清洗部和功能單元清洗部。后池清洗部設(shè)置有后池入口和后池出口；流體動力源通過后池清洗管路與所述后池入口連通，后池清洗管路設(shè)置有第一控制閥；后池出口連接有排出管路，排出管路設(shè)置有第二控制閥；功能單元清洗部連接于所述后池清洗管路和/或排出管路。由于后池內(nèi)細(xì)胞含量極低，稀釋比大的特點(diǎn)，故而可利用計(jì)數(shù)池后池作為清洗節(jié)點(diǎn)，將細(xì)胞分析儀的功能單元清洗部通過管路與后池清洗部連接，在一個清洗環(huán)節(jié)中，清洗劑可同時對包括后池的多個功能單元進(jìn)行清洗，不會造成攜帶污染，提高了清洗效率和清洗劑利用率。同時由于后池的寶石孔清洗需較大壓力，利用儀器內(nèi)本身具有壓力差的功能單元連通后池，實(shí)現(xiàn)對該功能單元和寶石孔的同時清洗。
【專利說明】細(xì)胞分析儀及其清洗系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及醫(yī)療檢驗(yàn)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種細(xì)胞分析儀及其清洗系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]細(xì)胞分析儀設(shè)置有計(jì)數(shù)池，計(jì)數(shù)池一般包括前池和后池，前池與后池間通過寶石孔(又稱微孔)連通。在細(xì)胞分析工作過程中，后池會與被測樣本接觸，需要在每次測量后用如稀釋液等清洗劑對后池進(jìn)行清洗。
[0003]同時，細(xì)胞分析儀一般還包括有如光學(xué)檢測裝置、采樣針等多個功能單元。光學(xué)檢測裝置是進(jìn)行白細(xì)胞分類的重要部件，采樣針用于采集樣本，細(xì)胞分析過程中均需與樣本接觸，因此分析測量后亦須用稀釋液進(jìn)行清洗。
[0004]故而，清洗系統(tǒng)是細(xì)胞分析儀必不可少的部件，主要由運(yùn)輸稀釋液的管路組成，其與流體運(yùn)動動力源連通，清洗系統(tǒng)通過動力源驅(qū)動稀釋液流動將稀釋液輸送至待清洗部件進(jìn)行清洗。然而，傳統(tǒng)的細(xì)胞分析儀其各功能單元由于清洗要求各異，故而清洗系統(tǒng)相互獨(dú)立，稀釋液運(yùn)輸網(wǎng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，導(dǎo)致儀器結(jié)構(gòu)復(fù)雜，儀器成本高，清洗效率和利用率低。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]基于此，有必要針對清洗劑運(yùn)輸網(wǎng)清洗利用率低的問題，提供一種細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)。
[0006]一種細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，包括:
[0007]后池清洗部,所述后池清洗部設(shè)置有后池入口和后池出口 ；
[0008]流體動力源，所述流體動力源通過后池清洗管路與所述后池入口連通，所述后池清洗管路設(shè)置有第一控制閥；
[0009]排出管路，連接于所述后池出口以供清洗劑排出后池，所述排出管路設(shè)置有第二控制閥；及
[0010]功能單元清洗部，所述功能單元清洗部連接于所述后池清洗管路和/或排出管路。
[0011]在其中一個實(shí)施例中，所述功能單元清洗部串聯(lián)于所述后池出口與第二控制閥之間。
[0012]在其中一個實(shí)施例中，所述排出管路設(shè)置有第三控制閥，所述第三控制閥設(shè)置于所述后池出口與所述功能單元清洗部之間。
[0013]在其中一個實(shí)施例中，功能單元清洗部包括采樣針清洗部,所述采樣針清洗部包括擦拭采樣針的拭子，所述拭子串聯(lián)于所述第三控制閥與第二控制閥之間。
[0014]在其中一個實(shí)施例中，所述后池清洗管路設(shè)置有分流管路，所述分流管路設(shè)置于所述第一控制閥與所述后池入口之間；
[0015]所功能單元清洗部包括光學(xué)檢測裝置清洗部，所述光學(xué)檢測裝置清洗部連接于所述分流管路。
[0016]在其中一個實(shí)施例中，所述分流管路設(shè)置有第四控制閥。
[0017]在其中一個實(shí)施例中，所述清洗系統(tǒng)還包括負(fù)壓源，所述負(fù)壓源連接于所述排出管路。
[0018]在其中一個實(shí)施例中，所述后池清洗管路設(shè)置有第五控制閥，所述第五控制閥設(shè)置于所述分流管路與后池入口之間。
[0019]在其中一個實(shí)施例中，所述后池入口正對細(xì)胞分析儀的寶石孔。
[0020]一種細(xì)胞分析儀，其特征在于，包括如上所述的清洗系統(tǒng)。
[0021]上述細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，由于后池的寶石孔清洗需較大壓力，且內(nèi)細(xì)胞含量極低，稀釋比大的特點(diǎn)，故而可利用計(jì)數(shù)池后池作為清洗節(jié)點(diǎn)，將細(xì)胞分析儀的功能單元清洗部通過管路與后池清洗部連接，在一個清洗環(huán)節(jié)中，清洗劑可同時對包括后池的多個功能單元進(jìn)行清洗，不會造成攜帶污染，提高了清洗效率和清洗劑利用率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0022]圖1為本細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖2為本細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]如圖1所示，一種細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，包括后池清洗部、流體動力源310和至少一個功能單元清洗部。
[0025]所述后池清洗部設(shè)置有后池入口 2111和后池出口 2112。所述后池入口 2111供如稀釋液等的清洗劑進(jìn)入后池211進(jìn)行清洗；所述后池出口 2112供清洗后池211后的清洗劑流出后池211。
[0026]所述流體動力源310通過后池清洗管路111與所述后池入口 2111連通，所述后池清洗管路111設(shè)置有第一控制閥121。所述流體動力源310用于提供清洗劑的流動動力，可采用注射器等。由于細(xì)胞分析儀自身多設(shè)置有如注射器等流體動力部件，故而所述流體動力源310也可共用細(xì)胞分析儀的注射器等。所述第一控制閥121用于控制流體動力源310的供液啟閉。
[0027]所述后池出口 2112連接有排出管路112，以供清洗劑排出后池211，所述排出管路112設(shè)置有第二控制閥122。
[0028]所述功能單元清洗部連接于所述后池清洗管路111和/或排出管路112。即是說，可以設(shè)置有一個或一個以上的功能單元清洗部，連接于后池清洗管路111，或連接于排出管路112 ;或者也可以在所述后池清洗管路111與排出管路112均連接有所述功能單元清洗部，以與后池清洗部共用管路。
[0029]在其中一個實(shí)施例中，還可以包括有負(fù)壓源320，所述負(fù)壓源320連接于所述排出管路112，通過排出管路112連通至所述后池出口 2112。所述負(fù)壓源320用于在完成清洗后，提供清洗劑排出細(xì)胞分析儀的排液動力。
[0030]上述細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)進(jìn)行清洗工作時，所述第一控制閥121開啟，如稀釋液等的清洗劑由流體動力源310提供動力而進(jìn)入后池清洗管路111，經(jīng)后池清洗部和功能單元清洗部而對包括后池211在內(nèi)的多個功能單元進(jìn)行清洗，之后清洗劑自所述排出管路112排出。例如所述流體動力源310采用注射器時，通過所述第一控制閥121接通稀釋液入口，將稀釋液吸入注射器針筒中，再將第一控制閥121切換接通后池清洗管路111，注射器中的稀釋液被推入后池211以對后池211進(jìn)行清洗。
[0031]完成清洗工作后，可關(guān)閉所述第一控制閥121，停止供給清洗劑。管路中的清洗劑可通過所述負(fù)壓源320的負(fù)壓作用下經(jīng)所述排出管路112全部排出細(xì)胞清洗儀，結(jié)束清洗。
[0032]所述第一控制閥121除控制啟閉外，還可以用于控制清洗劑的流量。
[0033]由于細(xì)胞分析儀計(jì)數(shù)池的前池212與后池211間的寶石孔213清洗需較大壓力，且清洗后池211后的清洗液中含有的細(xì)胞量極低，故而可利用計(jì)數(shù)池后池211作為清洗節(jié)點(diǎn)，將細(xì)胞分析儀的功能單元清洗部通過管路與后池清洗部連接。將本身具有壓力差的功能單元連通后池清洗管路111，共用所述流體動力源310提供壓力進(jìn)行清洗；和/或利用對后池211清洗后的清洗劑對其它功能單元進(jìn)行清洗，由于完成對后池211清洗后的清洗劑細(xì)胞含量極低，故而利用對后池211清洗后的清洗劑對其它功能單元進(jìn)行清洗，不會造成攜帶污染問題。如此，在一個清洗環(huán)節(jié)中，清洗劑對包括后池211的多個功能單元同時進(jìn)行清洗，既滿足清洗要求，又簡化了清洗系統(tǒng)，進(jìn)而簡化儀器結(jié)構(gòu)，降低儀器成本。
[0034]在一個實(shí)施例中，所述功能單元清洗部串聯(lián)于所述后池出口 2112與第二控制閥122之間。如此，則清洗后池211的清洗劑自所述后池出口 2112流出并進(jìn)入所述功能單元清洗部，對所連接的功能單元進(jìn)行清洗。完成清洗后的清洗劑廢液自所述第二控制閥122在負(fù)壓源320作用下排出。當(dāng)然，在其它實(shí)施例中，亦可以是，自所述后池出口 2112排出的清洗劑，通過管路分流而同時對多個功能單元進(jìn)行清洗。
[0035]在其中一個實(shí)施例中，所述排出管路112設(shè)置有第三控制閥123，所述第三控制閥123設(shè)置于所述后池出口 2112與所述功能單元清洗部之間。第三控制閥123用于控制流經(jīng)連接于所述排出管路112的功能單元清洗部的管路啟閉及流量。
[0036]請參閱圖1,在一個具體的實(shí)施例中，所述功能單元清洗部包括采樣針清洗部,所述采樣針清洗部包括擦拭采樣針222的拭子221，所述拭子221串聯(lián)于所述第三控制閥123與第二控制閥122之間。亦即是說，在本實(shí)施例中，是對后池211與采樣針222這兩個功能單元的依次清洗。清洗時清洗劑先進(jìn)入后池211進(jìn)行清洗，再流入拭子221，對采樣針222外壁及拭子內(nèi)部進(jìn)行清洗。完成清洗后，清洗液自所述排出管路112被負(fù)壓源320吸走排出。計(jì)數(shù)池前池212中的樣本本身是經(jīng)過稀釋的，樣本再經(jīng)寶石孔213進(jìn)入后池211后其稀釋比進(jìn)一步提高。而采樣針222用于對采集樣本，直接與樣本接觸，樣本含量很高。清洗劑清洗后池211后自所述后池出口 2112排出時，其樣本含量相對于采樣針222的樣本含量可以忽略，故而再清洗拭子221及采樣針222外壁，不會造成攜帶污染。本實(shí)施例中，后池211和拭子221的清洗過程由一個動作完成，實(shí)現(xiàn)了稀釋液二次利用，既提高了清洗效率，節(jié)省時間又精簡了機(jī)構(gòu)。
[0037]請參閱圖2，在另一個具體實(shí)施例中，所述后池清洗管路111還設(shè)置有分流管路113，所述分流管路113設(shè)置于所述第一控制閥121與所述后池入口 2111之間。所功能單元清洗部還包括光學(xué)檢測裝置清洗部，所述光學(xué)檢測裝置清洗部連接于所述分流管路113。在本實(shí)施例中，打開所述第一控制閥121，清洗劑進(jìn)入后池清洗管路111，并經(jīng)所述后池入口 2111進(jìn)入后池211進(jìn)行清洗；同時，清洗劑經(jīng)分流管路113進(jìn)入所述光學(xué)檢測裝置清洗部，對光學(xué)檢測裝置230進(jìn)行清洗。經(jīng)所述后池出口 2112將清洗后池211后的清洗劑再進(jìn)入所述采樣針清洗部，用于清洗采樣針222。進(jìn)一步提高了清洗效率和清洗劑利用率。
[0038]由于在光學(xué)檢測裝置230內(nèi)部存在一段細(xì)長的檢測單元(即流動室)，清洗劑流經(jīng)這個單元時會產(chǎn)生較大的流體壓力。故而，清洗劑進(jìn)入分流管路113時的增壓效果傳遞至所述后池入口 2111，可使清洗劑自后池入口 2111噴出而對寶石孔213進(jìn)行反向沖洗，在沒有增加加壓機(jī)構(gòu)的情況下，利用清洗液經(jīng)過光學(xué)檢測單元時產(chǎn)生的壓力，提高寶石孔的清洗效率。
[0039]在其中一個實(shí)施例中，所述分流管路113設(shè)置有第四控制閥124。如此，當(dāng)不需對光學(xué)檢測裝置230進(jìn)行清洗時，亦可關(guān)閉所述第四控制閥124，清洗劑僅進(jìn)入后池211進(jìn)行清洗。
[0040]同理，在其中一個實(shí)施例中，所述后池清洗管路111還可以設(shè)置有第五控制閥125，所述第五控制閥125設(shè)置于所述分流管路113與后池入口 2111之間。當(dāng)不需對后池211進(jìn)行清洗時，亦可關(guān)閉所述第五控制閥125，清洗劑僅經(jīng)所述分流管路113進(jìn)入所述光學(xué)檢測裝置清洗部進(jìn)行清洗。
[0041]在其中一個實(shí)施例中，所述后池入口 2111正對細(xì)胞分析儀的寶石孔213。清洗劑自所述后池入口 2111噴出后，可直接沖擊所述寶石孔213，提高了對寶石孔213沖洗的沖洗效果。
[0042]如圖2所示的實(shí)施例中，是將光學(xué)檢測裝置230、寶石孔213、后池211、拭子221以及采樣針222外壁的清洗在一個流路中完成，提高稀釋液的利用率和清洗效率，又大大簡化儀器結(jié)構(gòu)，非常有利于儀器的小型化。
[0043]應(yīng)當(dāng)理解的是，在其它實(shí)施例中，功能單元清洗部也可以為光學(xué)檢測裝置清洗部，而不包括采樣針清洗部。即是說清洗劑分別對光學(xué)檢測裝置230和后池211及寶石孔213進(jìn)行沖洗后，即排出細(xì)胞分析儀亦可。
[0044]上述實(shí)施例中，所述的功能單元清洗部以采樣針清洗部、光學(xué)檢測裝置清洗部為例進(jìn)行了說明，可以理解，采樣針222及光學(xué)檢測裝置230都可以被其他功能單元替代，相應(yīng)的，采樣針清洗部、光學(xué)檢測裝置清洗部等也可被其他的功能單元清洗部替代。同時還提供一種包括如上所述的清洗系統(tǒng)的細(xì)胞分析儀，利用后池清洗部作為清洗節(jié)點(diǎn)，共用清洗管路，在一個清洗環(huán)節(jié)中，清洗劑對包括后池211的多個功能單元進(jìn)行清洗，提高了清洗效率和清洗劑利用率，簡化了清洗系統(tǒng)，進(jìn)而簡化儀器結(jié)構(gòu)，降低儀器成本。
[0045]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于，包括: 后池清洗部，所述后池清洗部設(shè)置有后池入口和后池出口 ； 流體動力源，所述流體動力源通過后池清洗管路與所述后池入口連通，所述后池清洗管路設(shè)置有第一控制閥； 排出管路，連接于所述后池出口以供清洗劑排出后池，所述排出管路設(shè)置有第二控制閥；及 功能單元清洗部，所述功能單元清洗部連接于所述后池清洗管路和/或排出管路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于:所述功能單元清洗部串聯(lián)于所述后池出口與第二控制閥之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于:所述排出管路設(shè)置有第三控制閥，所述第三控制閥設(shè)置于所述后池出口與所述功能單元清洗部之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于:功能單元清洗部包括采樣針清洗部，所述采樣針清洗部包括拭子，所述拭子串聯(lián)于所述第三控制閥與第二控制閥之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4任意一項(xiàng)所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗系統(tǒng)還包括負(fù)壓源，所述負(fù)壓源連接于所述排出管路。
6.根據(jù)權(quán)利要求1?4任意一項(xiàng)所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于， 所述后池清洗管路設(shè)置有分流管路，所述分流管路設(shè)置于所述第一控制閥與所述后池入口之間； 所功能單元清洗部包括光學(xué)檢測裝置清洗部，所述光學(xué)檢測裝置清洗部連接于所述分流管路。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述分流管路設(shè)置有第四控制閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述后池清洗管路設(shè)置有第五控制閥，所述第五控制閥設(shè)置于所述分流管路與后池入口之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的細(xì)胞分析儀的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述后池入口正對細(xì)胞分析儀的寶石孔。
10.一種細(xì)胞分析儀，其特征在于，包括如權(quán)利要求1?9任意一項(xiàng)所述的清洗系統(tǒng)。
【文檔編號】B08B3/08GK104289466SQ201310298448
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2013年7月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月16日
【發(fā)明者】楊一杰 申請人:成都深邁瑞醫(yī)療電子技術(shù)研究院有限公司, 深圳邁瑞生物醫(yī)療電子股份有限公司