專利名稱：一種非接觸式清洗裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及液晶面板制造技術領域，尤其涉及一種非接觸式清洗裝置。
背景技術：
隨著科技的發展，液晶顯示器在人們的日常生活和工作中起到了越來越重要的作用。在薄膜液晶顯示或等離子顯示等平板顯示制造領域，均需要對鍍膜之后的基板進行涂布感光材料，之后進行曝光，得到相應圖案。目前常用的涂布方式為兩種，一種為先將感光材料預先涂布于基板之上，之后再在離心設備上進行高速旋轉，最終將感光材料甩均勻 ’另一種為采用直接涂布方式，一次將感光材料均勻地涂布于基板上，滿足工藝要求。然而這兩種涂布方式每次涂布完一次之后均需要對噴嘴進行清潔，從而保證下次涂布的均勻性和平 整度要求。現有的對涂布裝置的噴嘴進行清潔時，采用的裝置如圖I所示，包括橡皮11、其中橡皮11用來清潔涂布裝置的噴嘴，還包括固定模塊17，橡皮11由左固定模塊12、右固定模塊13、上固定模塊14以及下固定模塊15進行固定，并且左固定模塊12、右固定模塊13通過下端的固定螺釘16連接于固定模塊17上，固定模塊17與移動模塊18固定連接，在外部動力源的帶動下帶動移動模塊18移動，從而實現對涂布裝置的噴嘴進行清潔的目的。如圖2所示，為現有技術中橡皮的結構示意圖，包括一 V型結構的凹槽21，用于與涂布裝置的噴嘴相匹配，從而直接可以對噴嘴進行整體清潔。現有的清洗裝置具有以下缺點首先，在使用現有的清洗裝置進行清洗時，由于使用的是橡皮等橡膠產品，時間一長就會產生一些碎屑，殘留在噴嘴啄部，在涂布時會將碎屑連同光刻膠涂布在玻璃基板上，影響涂布效果，從而會使顯示屏在制造工藝中產生不良；其次，由于橡皮在每次清潔完之后需用化學品清潔，常時間橡膠制品在用化學品浸泡后會出現變形或膨脹產生，直接導致產生對殘留感光材料清潔不干凈的情況發生，導致涂布出現不均勻或局部涂不上感光材料的情況發生，多次使用后被摩擦受損，其壽命有限，增加了制作成本；最后，現有技術中的清洗裝置，其清洗效果較差，由于是采用擦洗，在受力不同時，就不能均勻的將噴嘴上的殘留物擦洗干凈，會在噴嘴上留有痕跡，使涂布時因殘留感光材料而導致涂布不均勻的現象發生，從而影響了涂布的工藝效果。
實用新型內容針對上述現有技術存在的問題，本實用新型的實施例提供了一種非接觸式清洗裝置，避免了涂布時因殘留感光材料導致涂布不均勻的問題，保證了最終的涂布工藝效果，并且還提聞了使用壽命。為實現上述目的，本實用新型提供了一種非接觸式清洗裝置，用于清洗涂布設備的噴嘴喙部，包括[0010]底座，所述底座上固定有噴針模塊，所述底座內設有凹槽，接收清洗所述涂布設備的噴嘴喙部的殘液；至少兩個噴針模塊，以設定間距固定在所述底座上，所述設定間距大于待清洗噴嘴兩側的最寬距離；以及所述噴針模塊內設有存儲腔，所述存儲腔存儲有用于清洗所述噴嘴的化學溶劑與氣體，且在所述噴針模塊面向所述噴嘴一側的表面上設有多個連接所述存儲腔的出氣孔與多個化學溶劑輸出孔，所述出氣孔與多個化學 溶劑輸出孔上設有導管體。優選的，所述兩個噴針模塊通過設置于所述固定孔內的固定螺釘連接于所述底座上。更優的，所述固定孔為矩形，用于調節所述噴針模塊與所述噴嘴之間的距離。優選的，所述底座上還設有移動固定端，用于調節底座相對于所述噴嘴的位置。優選的，所述噴針模塊內設有至少兩個存儲腔，分別存儲有用于清洗所述噴嘴的化學溶劑與氣體，對應每個所述存儲腔均設有至少一個出口。優選的，所述底座內設有的凹槽的形狀為漏斗狀或V型結構，所述漏斗的上邊緣或V型槽的上邊緣的寬度大于噴嘴的寬度。更選的，所述凹槽的底部設有通孔，用于排出所述殘液。優選的，所述存儲腔的出氣孔與多個化學溶劑輸出孔分別按照設定方向排列，所述設定方向為沿垂直水平面的方向，且所述出氣孔的每列與所述化學溶劑輸出孔的每列交替排列。優選的，所述導管體具體為噴針管體。更優的，所述噴針管體的針頭部沿水平方向向下成一設定角度，所述角度為20。 45°。本實用新型提供的具體實施例與現有技術相比，具有以下優點本實用新型實施例提供了一種非接觸式清洗裝置，包括設置在底座上的噴針模塊，以及在噴針模塊上設置有氣體噴針和化學溶劑噴針并利用噴針噴出化學溶劑對狹縫噴嘴喙部進行清潔，隨后噴針模塊上設置的出氣體的噴針對清洗過的狹縫噴嘴進行氣體吹干和氣體清潔，保證狹縫噴嘴喙的清潔度和干燥，使殘液通過底座上的凹槽排出，使得在狹縫噴嘴V型端面不殘留感光材料，避免涂布時因殘留感光材料導致涂布不均勻現象發生，保證最終的涂布工藝效果。進一步的，本實用新型還延長了使用壽命，提高了生產效率，減少了制造顯示屏過程中不良效果的產生。
圖I為現有技術中清洗裝置的結構示意圖；圖2為現有技術中清洗裝置上橡皮的結構示意圖；圖3為本實用新型實施例的結構示意圖；圖4為本實用新型實施例中底座結構的俯視圖；圖5為本實用新型實施例中噴針模塊結構的右視圖；[0031]圖6為本實用新型實施例中噴針模塊結構的左視圖；圖7為本實用新型實施例中噴針模塊的剖視圖。
具體實施方式
本實用新型的實施例提供了一種非接觸式清洗裝置，避免了涂布時因殘留感光材料導致涂布不均勻的問題，保證了最終的涂布工藝效果，并且還提高了使用壽命。下面結合具體實施例以及附圖對本實用新型進行詳細說明如圖3所示，為本實用新型實施例的結構示意圖，用于清洗涂布設備的噴嘴喙部，包括底座31，至少兩個噴針模塊32，以及在底座31上設有的移動部件33，由于狹縫噴嘴
有一定的長度，如果將噴針模塊32對應設置與所示噴嘴的長度一致，則很浪費材料，并且涂布時也會受到影響，因此在底座31上設置移動部件33，可以調節底座31與狹縫噴嘴的位置，也就是說可以通過調節移動部件33，移動底座31來清洗狹縫噴嘴的不同位置。具體的，在底座內設有凹槽34，該凹槽的結構不限，可以為矩形槽，可以為廣口梯形槽或者為漏斗形槽，以及V型槽，其中槽的寬度一定大于所述涂布設備的噴嘴的寬度，這樣才可以方便接收清洗所述涂布設備的噴嘴喙部的殘液；本具體實施例中在底座31上設有兩個噴針模塊32，這兩個噴針模塊32以設定間距固定在底座31上，所述設定間距大于待清洗噴嘴兩側的最寬距離；一般情況可根據實際需要在噴針模塊32內設置多個腔室，用以分別存儲氣體和化學溶劑，在本實施例用一種較佳的情況，在噴針模塊32內設有兩個存儲腔，分別存儲氣體的第一存儲腔321以及存儲用于清洗所述噴嘴的化學溶劑的第二存儲腔(未標出)，且在噴針模塊32面向所述噴嘴一側的表面上設有多個連接所述存儲腔的出氣孔35與多個化學溶劑輸出孔(未標出)，出氣孔35與多個化學溶劑輸出孔上設有導管體，具體的該導管體為噴針管體37，分為氣體噴針管體以及化學溶劑噴針管體(未標出)。在噴針模塊32上還對應每個存儲腔設有入口 36，將氣體以及化學溶劑通過入口加入到存儲腔內，并且還可以通過調節外接的流速控制裝置，調節氣體出口的流速大小以及化學溶劑的流出速度。通過外動力源帶動移動部件33下移動底座31，實現沿狹縫方向上從狹縫噴嘴一端移動到另一端，通過噴針模塊32上設置的噴針管體37進行噴出化學溶劑，其噴出壓力大小可以根據實際需要，調節外接的控制化學溶劑或氣體流速的流速控制裝置，之后利用噴針模塊上設置的氣體噴針管體對清洗過的狹縫噴嘴進行氣體吹干和氣體清潔，保證狹縫噴嘴喙的清潔度和干燥，使得在狹縫噴嘴V型端面不殘留感光材料，避免涂布時因殘留感光材料導致涂布不均勻現象發生，保證最終的涂布工藝效果。本實用新型采用以上技術方案，延長了使用壽命，并且使清洗效果更好，減少了制造顯示屏過程中不良效果的產生。如圖4所7]^，為本實用新型實施例中底座結構的仰視圖，在底座31上設有固定孔41，通過固定孔41使用固定螺釘42將底座31與噴針模塊32相連接，在本實施例中，具體的將固定孔41設置為矩形，而不是對應固定螺釘的一個孔，是為了可以調節噴針模塊32與V型噴嘴面向噴針方向端面的距離，從而進一步調節噴針與V型端面的距離，噴針與V型斷面距離為Imm 3mm時最佳。在底座上表面還設有凹槽34,可以設置為通槽,從圖中看出該槽的上端口較寬，有利于收集清洗噴嘴殘留的化學溶劑的殘液，在本實施例中將槽的結構設置為倒梯形結構，使得上端面的寬度大于噴嘴的寬度。[0039]如圖5所示，為本實用新型實施例(參照圖3)中右側噴針模塊結構的右視圖，設置在噴針模塊32上的噴針與出氣孔35相連通，其中該噴針與噴針模塊32可以采用活動連接的方式，當然也可以采用固定連接的方式，一般為焊接在噴針模塊32上，本圖中描述的噴針模塊上為沒有設置噴針時的結構圖，其上包括在噴針模塊上設有連通存儲腔的出氣孔35與多個化學溶劑輸出孔51，出氣孔35與化學溶劑輸出孔51分別按照設定方向排列，在本實施例中，所示設定方向為沿垂直水平面的方向，將多個出氣孔35排成一列，然后依次間隔一定間距將多個化學溶劑輸出孔51排成一列，使每列出氣孔35與每列所述化學溶劑輸出孔51呈交替排列。如圖6所示，為本實用新型實施例(參照圖3)中右側噴針模塊結構的左視圖，在噴針模塊的一側面上設有入口，對應每個存儲腔進行設置。具體的，在本實施例中，對應存儲化學溶劑的第一存儲腔321以及存儲氣體的第二存儲腔322分別設有一個入口 36以及入口 61，分別用于輸入化學溶劑與氣體，并且可以通過與入口連接外部控制器，調節化學溶劑與氣體的流速大小。如圖7所示，為本實用新型實施例(如圖3)中左側噴針模塊的剖視圖，包括在噴 針模塊的一側面上設有入口 36，以及內部設有存儲化學溶劑的第一存儲腔321，連通第一存儲腔321的化學溶劑噴嘴管體372。具體的，在本實施例中，噴嘴管體372的針頭部沿水平方向向下成一設定角度，所述角度范圍在20° 45°之間，其中當設定角度為30°時最佳。同時噴嘴管體372的針頭噴口距離狹縫噴嘴的距離為Imm 3mm為佳，在噴針模塊上設置的氣體噴針管體和化學溶劑噴針管體的數量及大小、位置可以根據實際需要進行確定。盡管已描述了本實用新型的優選實施例，但本領域內的技術人員一旦得知了基本創造性概念，則可對這些實施例做出另外的變更和修改。所以，所附權利要求意欲解釋為包括優選實施例以及落入本實用新型范圍的所有變更和修改。顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內。
權利要求1.一種非接觸式清洗裝置，用于清洗涂布設備的噴嘴喙部，其特征在于，包括 底座，所述底座上固定有噴針模塊，所述底座內設有凹槽，用于接收清洗所述涂布設備的噴嘴喙部的殘液； 至少兩個噴針模塊，以設定間距固定在所述底座上，所述設定間距大于待清洗噴嘴兩側的最寬距離；以及 所述噴針模塊內設有至少兩個存儲腔，所述至少兩個存儲腔分別存儲有用于清洗所述噴嘴的化學溶劑與氣體，且 在所述噴針模塊面向所述噴嘴一側的表面上設有連接所述存儲腔的多個出氣孔與多個化學溶劑輸出孔，所述多個出氣孔與多個化學溶劑輸出孔上設有導管體。
2.如權利要求I所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述底座上設有固定孔； 所述至少兩個噴針模塊通過設置于所述固定孔內的固定螺釘連接于所述底座上。
3.如權利要求2所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述固定孔為矩形，用于調節所述噴針模塊與所述噴嘴之間的距離。
4.如權利要求I所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述底座上還設有移動部件，用于調節底座相對于所述噴嘴的位置。
5.如權利要求I所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述噴針模塊內設有至少兩個存儲腔，分別存儲有用于清洗所述噴嘴的化學溶劑與氣體，每個所述存儲腔均設有至少一個出口。
6.如權利要求I所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述底座內設有的凹槽的形狀為漏斗狀或V型結構，所述漏斗的上邊緣或V型槽的上邊緣的寬度大于噴嘴的寬度。
7.如權利要求6所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述凹槽的底部設有通孔，用于排出所述殘液。
8.如權利要求I所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述存儲腔的出氣孔與多個化學溶劑輸出孔分別按照設定方向排列，所述設定方向為沿垂直水平面的方向，且所述出氣孔的每列與所述化學溶劑輸出孔的每列交替排列。
9.如權利要求I所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述導管體為噴針管體。
10.如權利要求9所述的非接觸式清洗裝置，其特征在于，所述噴針管體的針頭部沿水平方向向下成一設定角度，所述設定角度為20° 45°。
專利摘要本實用新型提供一種非接觸式清洗裝置，用于清洗涂布設備的噴嘴喙部，包括底座，所述底座上固定有噴針模塊，所述底座內設有凹槽，用于接收清洗所述涂布設備的噴嘴喙部的殘液；至少兩個噴針模塊，以設定間距固定在所述底座上，所述設定間距大于待清洗噴嘴兩側的最寬距離；所述噴針模塊內設有存儲腔，所述存儲腔內存儲有清洗所述噴嘴的化學溶劑與氣體，且在所述噴針模塊面向所述噴嘴一側的表面上設有多個連接所述存儲腔的出氣孔與多個化學溶劑輸出孔，所述出氣孔與多個化學溶劑輸出孔上設有導管體。本實用新型通過噴針噴出化學溶劑對狹縫噴嘴喙部進行清潔，清潔后進行氣體清潔，保證狹縫噴嘴清干燥，清潔效果好，使用壽命長，不會產生不良效果。
文檔編號B08B7/04GK202527417SQ201220111599
公開日2012年11月14日 申請日期2012年3月22日 優先權日2012年3月22日
發明者焦宇 申請人:北京京東方光電科技有限公司