專利名稱：框架二極管清洗裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種清洗裝置，特別是一種二極管的清洗裝置。
背景技術：
在框架二極管的生產過程中，有一道工序叫清洗，即將經過焊接的二極管芯粒和框架浸入清洗劑中進行超聲清洗，清洗質量的好壞直接影響到框架二極管制成成品后的良率。傳統的清洗方式是將眾多焊接好的框架二極管堆疊在一起，放在不銹鋼網籃中浸入清洗劑中進行超神清洗，這樣清洗方式存在諸多弊端一，因眾多材料堆疊在一起，在超聲清洗時，芯粒會因為超聲振動而與其它框架發生碰撞，從而導致芯粒損傷，影響電性；二，因眾多材料堆疊在一起，超聲清洗效果差，不易將雜質和污垢超聲下來，同時，也會導致清洗下來的雜質和污垢會沉淀到其它材料上，影響清洗效果。
發明內容本實用新型需要解決的技術問題是框架二極管清洗時堆疊清洗效果差，效率慢。為解決上述的技術問題，本實用新型的框架二極管清洗裝置包括底板，所述底板上設置有支架，所述支架上開有與框架二極管相適應的斜槽。采用上述結構后，清洗時將框架二極管按順序插入到支架相應的斜槽中，根據清洗劑液面的高度進行不同層數的堆疊，提高清洗的效率。同時，超聲波能直接作用在待清洗的芯粒表面，更容易去除雜質和污垢，清洗效果好。
以下結合附圖
和具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細的說明。圖I為本實用新型的結構示意圖。圖2為圖I的側視圖。圖中I為底板,2為支架,3為斜槽,4為通孔
具體實施方式
如圖I和圖2所示的框架二極管清洗裝置,包括底板I，所述底板I上設置有兩根支架2,兩根支架2橫向開有若干與框架二極管相適應的斜槽3 ;—根支架上的斜槽與另一支架上的斜槽處于同一垂直線上。這樣在清洗時，可以將框架二極管插入處于同一垂直線上的斜槽內加以固定。依此類推，每一條垂直線上的斜槽內都可以插入一個框架二極管，根據清洗劑液面的高度確定插入框架二極管的數量，進行不同層數的堆疊。所述底板I上開有固定底板的通孔4，在支架2的斜槽3內依次插入好框架二極管后，將底板I通過通孔4整個的固定在超聲波清洗機的清洗盤上。這樣將待超聲清洗的框架二極管一條一條分開斜插在框架二極管清洗裝置的斜槽內，根據清洗劑液面的高度進行不同層數的堆疊，提高了清洗的效率。這樣的做法有以下的優點第一，解決了傳統超聲清洗時芯粒與框架的碰撞，從而導致芯粒損傷，影響電性的問題；第二，超聲波能直接作用在待清洗的芯粒表面，更容易去除雜質和污垢；第三，清洗下來的雜質和污垢不會沉淀到其它材料上。當然，本實用新型的支架2的數量 也可以是三個或三個以上，只要支架上的斜槽處于同一垂直線上可以將框架二極管很好的固定即可，這樣的變換均落在本實用新型保護的范圍之內。
權利要求1.一種框架二極管清洗裝置，包括底板，其特征在于所述底板上設置有支架，所述支 架上開有與框架二極管相適應的斜槽。
2.按照權利要求1所述的框架二極管清洗裝置，其特征在于所述支架為兩根，兩根支 架橫向開有若干與框架二極管相適應的斜槽；一根支架上的斜槽與另一支架上的斜槽處于 同一垂直線上。
3.按照權利要求2所述的框架二極管清洗裝置，其特征在于所述底板上開有固定底 板的通孔。
專利摘要本實用新型涉及一種清洗裝置，特別是一種二極管的清洗裝置，包括底板，所述底板上設置有支架，所述支架上開有與框架二極管相適應的斜槽。采用上述結構后，清洗時將框架二極管按順序插入到支架相應的斜槽中，根據清洗劑液面的高度進行不同層數的堆疊，提高清洗的效率。同時，超聲波能直接作用在待清洗的芯粒表面，更容易去除雜質和污垢，清洗效果好。
文檔編號B08B3/12GK202377233SQ20112052480
公開日2012年8月15日 申請日期2011年12月15日 優先權日2011年12月15日
發明者蔣敏 申請人:常州星海電子有限公司