專利名稱：可消毒的熏蒸足浴盆的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及足浴保健領域，特別涉及一種可消毒的熏蒸足浴盆。
背景技術：
腳部是人體經絡匯聚的地方之一，具有運行氣血、聯絡臟腑、溝通內外、貫穿上下的功能，每個人雙腳上有60余個穴位，均與全身器官有相應關系。用中藥熏蒸足部時，通過藥物的熱輻射作用，使血管擴張，血液循環改善。藥物經熏蒸作用于足部后，其揮發性成分經皮膚吸收，局部可保持較高的濃度，能長時間發揮作用，對改善血管的通透性和血液循環，加快代謝產物排泄，促進炎性致痛因子吸收，提高機體防御及免疫能力、松弛腳腿部肌肉、關節和皮下組織，促進功能恢復具有積極的作用。介于此，市場上琳瑯滿目的中藥熏蒸足浴用品很多，但是使用過后，足部分泌的汗液、皮脂和脫落的皮屑等粘附在足浴器表面和槽內，雖然通過沖洗、清潔會清理掉大部分，但殘留的細菌諸如革蘭氏陽性菌、革蘭氏陰性菌以及古細菌等會以驚人的速度繁殖。加之，細菌主要是在環境中附著，細菌的生存和繁殖需要水分、氧氣、二氧化碳、礦物質和營養物質以及合適的溫度。普通的熏蒸足浴器則具備了上述細菌所需要的條件，導致細菌滋生。這些細菌中，小部分對人體無害，但絕大部分是致病或條件致病菌。如此高密度的微生物在熏蒸足浴器內，而且含有大量的害菌，對人體， 對腳部的危害是可想而知的。雖然經常性的使用日曬的方式可以減輕微生物危害，但無法根除并非常牽扯精力，而且嚴重影響熏蒸足浴器的使用壽命。因此急需提供一種帶殺菌消毒功能的熏蒸足浴盆。
發明內容本實用新型的主要目的是提供一種帶殺菌消毒功能的可消毒的熏蒸足浴盆，為阻止足浴器中的細菌危害，更全面有效的促進腳部健康。本實用新型提出一種可消毒的熏蒸足浴盆，包括足浴盆體和機體，所述足浴盆體安裝在所述機體之上，所述機體包括水箱、蒸汽發生裝置和單片機，所述盆體包括盆腔、控制面板及按摩珠，還包括用于殺菌消毒的臭氧發生裝置。優選地，所述臭氧發生裝置為高壓放電式、紫外線照射式或電解式的臭氧發生器。優選地，所述控制面板上設置有控制所述臭氧發生裝置開關的消毒開關。優選地，所述臭氧發生裝置安裝在所述機體內。本實用新型可消毒的熏蒸足浴盆帶有的臭氧發生裝置能夠發出臭氧，臭氧能氧化分解細菌內部葡萄糖所需的酶，使細菌死亡，而且臭氧直接與細菌、病毒作用，能夠破壞它們的細胞器和DNA、RNA，使細菌的新陳代謝受到破壞，導致細菌死亡，用臭氧對可消毒的熏蒸足浴盆進殺菌消毒，有效地阻止了足浴盆中的細菌危害；而且臭氧是氣體，能迅速彌漫到整個足浴盆中，滅菌無死角，更全面有效殺滅細菌和病毒，促進腳部健康。
[0010]圖1為本實用新型的可消毒的熏蒸足浴盆的一實施例結構示意圖；圖2為本實用新型的可消毒的熏蒸足浴盆的臭氧發生裝置的一連接示意圖。本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施方式
應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。參照圖1和圖2，提出本實用新型可消毒的熏蒸足浴盆的一實施例，所述熏蒸足浴盆包括足浴盆體1和機體2，所述足浴盆體1安裝在所述機體2之上，所述機體2包括蒸汽發生裝置4、用來給所述蒸汽發生裝置4供水的水箱3和單片機；所述盆體1包括盆腔6，用于控制足浴盆各種功能的控制面板7和用于腳底按摩的按摩珠8，所述控制面板7設置于盆體1外表面。由于在使用足浴盆時，足部分泌的汗液、皮脂和脫落的皮屑等粘附在足浴盆表面、 所述盆腔6以及所述按摩珠8上，雖然通過沖洗、清潔會清理掉大部分，但殘留的細菌諸如革蘭氏陽性菌、革蘭氏陰性菌以及古細菌等會以驚人的速度繁殖。這些細菌中，小部分對人體無害，但絕大部分是致病或條件致病菌。如此高密度的微生物在熏蒸足浴器內，而且含有大量的害菌，對人體，對腳部的危害是可想而知的。而臭氧能氧化分解細菌內部葡萄糖所需的酶，使細菌死亡，而且臭氧直接與細菌、病毒作用，能夠破壞它們的細胞器和DNA、RNA,使細菌的新陳代謝受到破壞，導致細菌死亡。因此在所述足浴盆中安裝了一種能夠發生臭氧的臭氧發生裝置5，所述臭氧發生裝置5為高壓放電式、紫外線照射式或電解式的臭氧發生器。所述臭氧發生裝置5安裝在所述機體2內，且分別與所述控制面板7及電源連接，在所述控制面板上設置有控制所述臭氧發生裝置開關的消毒開關。按下所述控制面板7上的消毒開關，啟動臭氧發生裝置5，使其噴出臭氧，用臭氧對熏蒸足浴盆進殺菌消毒，有效地阻止足浴盆中的細菌危害；而且臭氧是氣體，能迅速彌漫到整個足浴盆中，滅菌無死角，更全面有效殺滅細菌病和毒，促進腳部健康。以上所述僅為本實用新型的優選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍， 凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
權利要求1.一種可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，包括足浴盆體和機體，所述足浴盆體安裝在所述機體之上，所述機體包括水箱、蒸汽發生裝置和單片機，所述盆體包括盆腔、控制面板及按摩珠，還包括用于殺菌消毒的臭氧發生裝置。
2.根據權利要求1所述的可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，所述臭氧發生裝置為高壓放電式、紫外線照射式或電解式的臭氧發生器。
3.根據權利要求1或2所述的可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，所述控制面板上設置有控制所述臭氧發生裝置開關的消毒開關。
4.根據權利要求3所述的可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，所述臭氧發生裝置安裝在所述機體內。
專利摘要本實用新型公開一種可消毒的熏蒸足浴盆，包括足浴盆體和機體，所述足浴盆體安裝在所述機體之上，所述機體包括水箱、蒸汽發生裝置和單片機，所述盆體包括盆腔、控制面板及按摩珠，還包括用于殺菌消毒的臭氧發生裝置。該臭氧發生裝置能夠發出臭氧，臭氧能氧化分解細菌內部葡萄糖所需的酶，使細菌死亡，而且臭氧直接與細菌、病毒作用，能夠破壞它們的細胞、DNA和RNA，有效地阻止了足浴盆中的細菌危害，全面有效殺滅細菌和病毒，促進腳部健康。
文檔編號A47K3/022GK202235029SQ20112032807
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月2日 優先權日2011年9月2日
發明者何啟烽 申請人:中山市康柏力電子科技有限公司