專利名稱：模具吸真空清潔裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種半導體行業的模具清潔裝置，尤其是一種模具吸真空清潔裝置。
背景技術：
目前，隨著我國半導體行業的日益壯大及影響力的持續增加，需對生產出產品的品質及良率有著更高的要求。由于之前吸真空裝置過于單一，導致模具上的異物質無法被吸力去除，導致產品異物質不良持續發生。
發明內容
本發明的目的是克服現有技術中存在的不足，提供一種可以提高密封性、增加對模具上異物質的清除能力、改善產品品質的。按照本發明提供的技術方案，所述模具吸真空清潔裝置，包括在直線導軌上滑動安裝的滑塊，在滑塊上固定有吸塵管，吸塵管上并聯安裝有上模板吸塵罩與下模板吸塵罩， 在上模板吸塵罩的前后壁體之間安裝有上滾刷，在上滾刷左右兩側的上模板吸塵罩壁體上均固定有上密封擋片，在下模板吸塵罩的前后壁體之間安裝有下滾刷，在下滾刷左右兩側的下模板吸塵罩壁體上均固定有下密封擋片。本發明提高了模具中異物質被去除的幾率； 本發明操作簡單，方便技術人員的修理；
本發明持久耐用，減少反復購買備件的費用； 本發明中的圓形滾刷的更換方便快捷，減少設備停機時間。
圖1是本發明的整體結構示意圖。
具體實施例方式下面結合具體附圖和實施例對本發明作進一步說明。如圖所示該模具吸真空清潔裝置，包括在直線導軌1上滑動安裝的滑塊2，在滑塊2上固定有吸塵管9，吸塵管9上并聯安裝有上模板吸塵罩3與下模板吸塵罩4，在上模板吸塵罩3的前后壁體之間安裝有上滾刷5，在上滾刷5左右兩側的上模板吸塵罩3壁體上均固定有上密封擋片7，在下模板吸塵罩4的前后壁體之間安裝有下滾刷6，在下滾刷6左右兩側的下模板吸塵罩4壁體上均固定有下密封擋片8。本發明的裝置直線導軌移動到上模10和下模11之間，上模10和下模11閉合到指定位置，在真空吸塵管9退出上模10和下模11的過程中，橡膠的上密封擋片7與上模10 之間、下密封擋片8與下模11會進成較為密閉的空間，圓形的上滾刷5與下滾刷6會清潔上模10的下表面、下模11的上表面，異物質會被強力的吸力吸走。
權利要求
1. 一種模具吸真空清潔裝置，其特征是包括在直線導軌(1)上滑動安裝的滑塊(2)， 在滑塊(2 )上固定有吸塵管(9 )，吸塵管(9 )上并聯安裝有上模板吸塵罩(3 )與下模板吸塵罩(4)，在上模板吸塵罩(3)的前后壁體之間安裝有上滾刷(5)，在上滾刷(5)左右兩側的上模板吸塵罩(3)壁體上均固定有上密封擋片(7)，在下模板吸塵罩(4)的前后壁體之間安裝有下滾刷(6)，在下滾刷(6)左右兩側的下模板吸塵罩(4)壁體上均固定有下密封擋片(8)。
全文摘要
本發明涉及一種半導體行業的模具吸真空清潔裝置，包括在直線導軌上滑動安裝的滑塊，在滑塊上固定有吸塵管，吸塵管上并聯安裝有上模板吸塵罩與下模板吸塵罩，在上模板吸塵罩的前后壁體之間安裝有上滾刷，在上滾刷左右兩側的上模板吸塵罩壁體上均固定有上密封擋片，在下模板吸塵罩的前后壁體之間安裝有下滾刷，在下滾刷左右兩側的下模板吸塵罩壁體上均固定有下密封擋片。本發明提高了模具中異物質被去除的幾率；本發明操作簡單，方便技術人員的修理；本發明持久耐用，減少反復購買備件的費用；本發明中的圓形滾刷的更換方便快捷，減少設備停機時間。
文檔編號B08B7/04GK102284451SQ20111019759
公開日2011年12月21日 申請日期2011年7月14日 優先權日2011年7月14日
發明者呂明 申請人:海太半導體(無錫)有限公司