專利名稱：半導體晶塊自動清掃裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及半導體制造技術領域，具體地說是涉及一種半導體晶塊自動清掃
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背景技術：
在半導體產品的生產過程中，要求產品比較衛生，生產中經常要對現對晶塊清掃， 在產品比較多的情況下，清掃是一件比較麻煩的事情，在現有技術中，還沒有專門的對半導 體晶塊進行清掃的設備，使用人力比較困難、費時費力。
發明內容本實用新型的目的就是針對上述缺點，提供一種結構簡單、省時省力、清掃效果好 的半導體晶塊自動清掃裝置。本使用新型所采取的技術方案是半導體晶塊自動清掃裝置，包括裝置本體，其特 征是所述的裝置本體下部具有滾輪帶動的滑道，裝置本體上部具有電機帶動的滾刷，裝置 本體兩側具有護板。本實用新型的有益效果是這樣的半導體晶塊自動清掃裝置具有結構簡單、省時 省力、清掃效果好的優點。
圖1是本實用新型半導體晶塊自動清掃裝置的結構示意圖。其中1、滑道 2、滾刷 3、護板
具體實施方案
以下結合附圖對本實用新型作進一步的說明。如圖1所示，半導體晶塊自動清掃裝置，包括裝置本體，其特征是所述的裝置本 體下部具有滾輪帶動的滑道1，裝置本體上部具有電機帶動的滾刷2，裝置本體兩側具有護 板3。半導體晶塊在滑道里面可以自動完成清掃工序，使用方便。
權利要求1.半導體晶塊自動清掃裝置，包括裝置本體，其特征是所述的裝置本體下部具有滾 輪帶動的滑道，裝置本體上部具有電機帶動的滾刷，裝置本體兩側具有護板。
專利摘要本實用新型涉及半導體制造技術領域，具體地說是涉及一種半導體晶塊自動清掃裝置，半導體晶塊自動清掃裝置，包括裝置本體，其特征是所述的裝置本體下部具有滾輪帶動的滑道，裝置本體上部具有電機帶動的滾刷，裝置本體兩側具有護板。這樣的半導體晶塊自動清掃裝置具有結構簡單、省時省力、清掃效果好的優點。
文檔編號B08B1/04GK201921847SQ201020574499
公開日2011年8月10日 申請日期2010年10月25日 優先權日2010年10月25日
發明者宋暖, 張志輝, 歐陽進民 申請人:河南久大電子電器有限公司