專利名稱：用于清洗晶片的搖擺清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及機械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種在晶片加工完成后，對晶片進行清 洗的搖擺清洗裝置。
背景技術(shù)：
晶片的清洗是晶片經(jīng)過浸蝕后的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其在清洗晶片過程中，對晶片清洗的 質(zhì)量好壞將直接影響成品晶片的質(zhì)量?，F(xiàn)有的許多晶片加工工廠里，對晶片的清洗方法是 采用人工操作清洗的方式，即在晶片經(jīng)過浸蝕工序后，將晶片放置在具有熱水的清洗槽內(nèi)， 采用人工操作使晶片在熱水中搖晃，達到清洗晶片的目的，在此過程中由于受水溫、水質(zhì)、 操作人員的力度以及清洗時間的影響，采用人工操作清洗的方式不能保證晶片質(zhì)量，常常 造成晶片表面產(chǎn)生浸蝕印、臟污等，影響晶片的外觀質(zhì)量，并且采用人工操作清洗的方式進 行清洗，浪費勞動資源，且清洗的效率低。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的提供一種用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，其能 夠?qū)M行自動清洗、清洗效果好且工作效率高，解決了現(xiàn)有技術(shù)中需要人工對晶片進 行清洗、效果差、效率低的問題。實現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案如下用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，包括供水流通過的清洗槽，清洗槽的一端上方設(shè) 有送水機構(gòu)、另一端底部設(shè)有與清洗槽相連通的出水管，所述清洗槽上方至少設(shè)有一個搖 擺裝置，搖擺裝置包括設(shè)有多個清洗籃的旋轉(zhuǎn)平臺，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)平臺旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置以及將 驅(qū)動裝置的動力傳遞給旋轉(zhuǎn)平臺的傳動機構(gòu)。所述傳動機構(gòu)包括固定設(shè)置在驅(qū)動裝置輸出端的主動輪、位于主動輪兩側(cè)且與主 動輪相互嚙合的兩從動輪，以及位于兩從動輪與旋轉(zhuǎn)平臺之間的連接裝置，驅(qū)動裝置輸出 端轉(zhuǎn)動并帶動其上的主動輪的轉(zhuǎn)動，而主動輪的轉(zhuǎn)動帶動其兩側(cè)的從動輪轉(zhuǎn)動，從而將驅(qū) 動裝置的驅(qū)動力傳遞出來。所述連接裝置包括兩連接銷、橫向連接桿以及一縱向連接桿，兩連接銷的上端分 別固定設(shè)置在兩從動輪的下端面，兩連接銷的下端連接在橫向連接桿的兩端，所述縱向連 接桿的上端固定設(shè)置在橫向連接桿中部、其下端固定設(shè)置在旋轉(zhuǎn)平臺上。兩從動輪在主動 輪的帶動下進行轉(zhuǎn)動，并帶動其下方的連接銷一起運動，從而固定在兩連接銷下端的橫向 連接桿帶動著縱向連接桿以及旋轉(zhuǎn)平臺一起轉(zhuǎn)動。所述清洗槽為多級臺階式的清洗槽，這樣水流從高向低流動，而需要被清洗的晶 片則逆流依次進行清洗，保證晶片充分清洗至工藝要求的清潔度、確保晶片的清洗質(zhì)量，同 時提高清洗的工作效率。所述清洗籃可拆卸的設(shè)置在旋轉(zhuǎn)平臺上，這樣可以將清洗籃從前一個旋轉(zhuǎn)平臺上 拆卸下來放到下一個旋轉(zhuǎn)平臺。
為了便于控制搖擺速度，所述驅(qū)動裝置選用調(diào)速電機。所述送水機構(gòu)為一根位于清洗槽上方的輸水管以及設(shè)置在輸水管上的控制閥。采用了上述的方案，接通輸水管上的控制閥，使清洗水流入清洗槽內(nèi)，清洗水從高 向低流動，將需要清洗的晶片放入清洗籃中，啟動調(diào)速電機并通過傳動機構(gòu)將其動力傳遞 給旋轉(zhuǎn)平臺，使旋轉(zhuǎn)平臺旋轉(zhuǎn)從而達到對清洗籃中晶片進行清洗的目的，其中晶片的清洗 是逆流向上的多次清洗，保證其清洗質(zhì)量。本發(fā)明利用機械連桿裝置來模擬人手清洗的搖 擺動作，將置于流動熱純水中的晶片，經(jīng)過逆流向上的多次清洗，保證晶片充分清洗至工藝 要求的清洗質(zhì)量，同時相對于人工清洗的方式提高了工作效率。
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，1為清洗槽，11為輸水管，12為控制閥，2為出水管，3為清洗籃，4為旋轉(zhuǎn)平 臺，5為驅(qū)動電機，6為主動輪，7為從動輪，71為從動輪，8為連接銷，81為連接銷，9為橫向 連接桿，10為縱向連接桿，21為溫度探頭。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明進一步說明。如圖1所示，用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，包括供水流通過的三級臺階式的清 洗槽1，清洗槽1的一端上方設(shè)有送水機構(gòu)、另一端底部設(shè)有與清洗槽相連通的出水管2，送 水機構(gòu)為一根位于清洗槽1上方的輸水管11以及設(shè)置在輸水管11上的控制閥12，清洗槽 的1上方設(shè)有三個搖擺裝置，每個搖擺裝置分別位于設(shè)置在清洗槽內(nèi)的每級臺階清洗面上 方，其中每個搖擺裝置包括設(shè)有四個以上清洗籃3的旋轉(zhuǎn)平臺4，清洗籃可從旋轉(zhuǎn)平臺上拆 卸下來，旋轉(zhuǎn)平臺可以是圓形或方形平臺或橢圓形等，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)平臺4旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電機5以 及將驅(qū)動電機5的動力傳遞給旋轉(zhuǎn)平臺4的傳動機構(gòu)，其中驅(qū)動電機優(yōu)選為調(diào)速電機，便于 控制搖擺裝置的搖擺速度。其中，傳動機構(gòu)包括固定設(shè)置在驅(qū)動電機5輸出端的主動輪6、位于主動輪6兩側(cè) 且與主動輪6相互嚙合的兩從動輪7、71，以及位于兩從動輪7、71與旋轉(zhuǎn)平臺4之間的連接 裝置。而驅(qū)動電機以及兩個從動輪設(shè)置在一個支架上，驅(qū)動電機、兩從動輪可以在支架上上 下升降。其中，連接裝置包括兩連接銷8、81、橫向連接桿9以及一縱向連接桿10，兩連接銷 8、81的上端分別固定設(shè)置在兩從動輪7、71的下端面，兩連接銷8、81的下端連接在橫向連 接桿9的兩端，縱向連接桿10的上端固定設(shè)置在橫向連接桿9中部、其下端固定設(shè)置在旋 轉(zhuǎn)平臺4上。其中，清洗槽內(nèi)的每個臺階清洗面上均設(shè)有對槽內(nèi)的熱純水溫度進行檢測的溫度 探頭21，當溫度探頭21檢測到的溫度達不到設(shè)定的溫度時，溫度探頭就會及時的發(fā)送信號 給控制器，由控制器控制控制閥的打開，向清洗槽內(nèi)添加熱純水來保證清洗晶片所需的溫度。本發(fā)明的工作過程通過接通控制閥向清洗槽內(nèi)添加清洗晶片所需的熱純水，將 需要清洗的晶片先放置在最低臺階清洗槽上方的搖擺裝置中的清洗籃內(nèi)，再啟動其所屬的搖擺裝置使旋轉(zhuǎn)平臺旋轉(zhuǎn)，這樣清洗籃中的晶片就會被清洗，再將清洗籃及其中晶片一起 取下放置到上一級臺階清洗面上方的旋轉(zhuǎn)平臺上，再啟動搖擺裝置使其旋轉(zhuǎn)平臺，對清洗 籃中的晶片再次進行清洗，然后再將清洗籃及其中晶片一起取下并放置到再上一級臺階清 洗面上方的旋轉(zhuǎn)平臺上，再啟動搖擺裝置使其旋轉(zhuǎn)平臺，對清洗籃中的晶片再一次進行清 洗，這樣取下清洗籃以及晶片，完成晶片的清洗，從而對晶片進行三次逆流向上的清洗，保 證其清洗質(zhì)量，滿足晶片的清洗要求。 以上實施方式不是對本發(fā)明的限制，本發(fā)明保護的范圍包括但不限于以上實施方 式，任何在本發(fā)明的基礎(chǔ)上進行的改進都屬于本發(fā)明保護的范圍。
權(quán)利要求
1.用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，包括供水流通過的清洗槽，清洗槽的一端上方設(shè)有 送水機構(gòu)、另一端底部設(shè)有與清洗槽相連通的出水管，其特征在于所述清洗槽上方至少設(shè) 有一個搖擺裝置，搖擺裝置包括設(shè)有多個清洗籃的旋轉(zhuǎn)平臺，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)平臺旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝 置以及將驅(qū)動裝置的動力傳遞給旋轉(zhuǎn)平臺的傳動機構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，其特征在于所述傳動機構(gòu) 包括固定設(shè)置在驅(qū)動裝置輸出端的主動輪、位于主動輪兩側(cè)且與主動輪相互嚙合的兩從動 輪，以及位于兩從動輪與旋轉(zhuǎn)平臺之間的連接裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，其特征在于所述連接裝置 包括兩連接銷、橫向連接桿以及一縱向連接桿，兩連接銷的上端分別固定設(shè)置在兩從動輪 的下端面，兩連接銷的下端連接在橫向連接桿的兩端，所述縱向連接桿的上端固定設(shè)置在 橫向連接桿中部、其下端固定設(shè)置在旋轉(zhuǎn)平臺上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一所述的用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，其特征在于所 述清洗槽為多級臺階式的清洗槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一所述的用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，其特征在于所 述清洗籃可拆卸的設(shè)置在旋轉(zhuǎn)平臺上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一所述的用于清洗晶片的搖擺清洗裝置，其特征在于所 述驅(qū)動裝置為調(diào)速電機。
全文摘要
本發(fā)明涉及機械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種在晶片加工完成后，對晶片進行清洗的搖擺清洗裝置，包括供水流通過的清洗槽，清洗槽的一端上方設(shè)有送水機構(gòu)、另一端底部設(shè)有與清洗槽相連通的出水管，所述清洗槽上方至少設(shè)有一個搖擺裝置，搖擺裝置包括設(shè)有多個清洗籃的旋轉(zhuǎn)平臺，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)平臺旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置以及將驅(qū)動裝置的動力傳遞給旋轉(zhuǎn)平臺的傳動機構(gòu)。本發(fā)明利用機械連桿裝置來模擬人手清洗的搖擺動作，將置于流動熱純水中的晶片，經(jīng)過逆流向上的多次清洗，保證晶片充分清洗至工藝要求的清洗質(zhì)量，同時相對于人工清洗的方式提高了工作效率。
文檔編號B08B3/10GK102059230SQ201010614359
公開日2011年5月18日 申請日期2010年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月30日
發(fā)明者任先林, 陳俊 申請人:常州松晶電子有限公司