專利名稱：晶圓盒清潔裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及集成電路制造領域，特別涉及一種用于晶圓加工工藝中的 晶圓盒清潔裝置。
背景技術：
半導體晶圓在制造過程中需要極其嚴格的潔凈度條件， 一旦晶圓廠建成后， 花費還遠不止于此，還將增加維持這些無塵環境的運營成本。這些晶圓廠建造 得靈活而牢固，擁有大型風扇和循環風扇用以保持"T種無塵環境和滿足空調負 載計算的需要；并在不同位置安裝了空氣粒子監測系統，以監測任何可能的大 量粒子的出現。潔凈度條件要求采用一種非常嚴格的著裝規定。所有晶圓廠的 最低要求是工作人員必須身著單層長袍、橡膠手套、短靴和發套等，但仍然難 以滿足晶圓制造所要求的潔凈度條件，并且成本高昂。
1984年，Asyst Technologies, Inc推出一種技術，用以提供半導體制造所需 的潔凈條件并降低傳統晶圓廠的建設和運營費用。這種名為"標準機械界面 (standard mechanical interface, SMIF)"的4支術以"隔離才支術"才既念為中心。隔離 技術旨在通過將晶圓封閉在一個超潔凈的環境中，同時放寬對這個封閉環境以 外的潔凈度要求來防止產品被污染。起初，SMIF由三部分組成，用來封閉在制 造過程中存儲和運輸盒裝半導體晶圓的集裝箱，即SMIF-Pod (標準機械界面晶 圓盒)；用來打開SMIF-Pods的輸入輸出裝置，即裝載端口；和通過工藝系統 實現裝載端口整合的超潔凈封閉式小型環境。操作員通過人工將SMIF-Pod送 至裝載端口；裝載端口自動打開SMIF-Pod，除去盒子，并將其置于小型環境中。 然后，內建于小型環境中的一個晶圓處理裝置就會移動每個晶圓，使其與制程 工藝系統接觸。 一旦制程步驟完成，晶圓就被放回盒子和SMIF-Pod，操作員人 工再將其送往下一個步驟。
然而晶圓盒的基座大部分是用塑料制成。在晶圓盒搬運或使用的過程中，塑料因與接觸面接觸而被磨損，而產生微小的塑料顆粒。 一旦因拿取晶圓打開 晶圓盒時，這些塑料顆粒將會隨著氣流漂浮到晶圓上，造成晶圓表面嚴重的顆 粒化，這不僅會造成處理過程中的晶圓的損壞，還會造成處理后的晶圓的損壞。 許多晶圓因為晶圓盒的塑料顆粒而報廢，導致了原材料的浪費和生產成本的提 高，塑料顆粒有時還會導致工藝設備的損壞。
實用新型內容
本實用新型提供一種晶圓盒清潔裝置，以解決現有技術中，在晶圓盒操作 過程中，因其與接觸面接觸發生磨損所產生的塑料顆粒造成晶圓表面顆粒化， 進而導致晶圓報廢，以及工藝設備不能正常運作等問題。
本實用新型提供一種晶圓盒清潔裝置，包括支撐臺，包括作業面，用于 承栽晶圓盒；驅動裝置，設置于所述支撐臺內；滑板，設置于所述作業面上， 并與所述驅動裝置連接；以及無塵布，固定在所述滑板上；其中，所述驅動裝 置驅動所述滑板運動，帶動所述無塵布運動，以清潔所述晶圓盒。
可選的，所述滑板包括滑板主體以及外框架，所述無塵布被夾緊在所述滑 板主體與所述外框架之間。
可選的，所述驅動裝置包括電機，設置于所述支撐臺內；以及絲杠，設 置于所述支撐臺內，與所述電機連接并由所述電機帶動旋轉；所述滑板主體安 裝在所述絲杠上，通過所述電機的帶動而沿所述絲杠運動，并帶動所述無塵布 沿所述絲杠移動。
可選的，所述驅動裝置還包括導軌，其與所述滑板滑動連接，并與所述絲 杠平行設置。
可選的，還包括絲杠限位傳感器，設置于所述支撐臺內。 可選的，所述支撐臺底部開設有多個排風孔。
可選的，還包括排風裝置，其設置于所述支撐臺的下方，并與所迷排風孔 連通。
可選的，還包括限位凸起，設置于所述作業面的邊緣。
可選的，還包括晶圓盒位置傳感器，設置于所述作業面上。
綜上所述，本實用新型所提供的晶圓盒清潔裝置包括支撐臺、驅動裝置、滑板以及無塵布，所述驅動裝置驅動所述滑板運動，帶動所述無塵布運動，以 清潔所述晶圓盒，可以減少晶圓盒在操作過程中因摩擦而產生的微小塑料顆粒， 從而減小了顆粒對晶圓損壞的可能性，提高了晶圓的成品率，并保證了工藝設 備的正常運作，且所述無塵布可方便快捷的更換，^使于所述晶圓盒清潔裝置的 維護。
圖l為本實用新型一實施例所提供的晶圓盒清潔裝置的結構示意圖； 圖2為本實用新型一實施例所提供的晶圓盒清潔裝置的頂視圖； 圖3為本實用新型一實施例所提供的晶圓盒清潔裝置的滑板以及無塵布的 剖#見圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型提出的晶圓盒清潔裝置作進一步 詳細說明。根據下面說明和權利要求書，本實用新型的優點和特征將更清楚。 需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、 明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。
請參考圖1至圖3，其中圖1為本實用新型一實施例所提供的晶圓盒清潔裝 置的結構示意圖，圖2為圖1所示晶圓盒清潔裝置的頂;現圖，所述晶圓盒清潔 裝置100包括支撐臺110，其包括一作業面lll，用于承載晶圓盒；驅動裝置 120，設置于支撐臺110內；滑板130，設置于作業面111上，并與驅動裝置120 連接；以及無塵布140,固定在滑板130上；其中，驅動裝置120驅動滑板130 運動，帶動無塵布140運動，以清潔所述晶圓盒。
如圖3所示，滑板130包括滑板主體131以及外框架132，無塵布140被機 械地夾緊在滑板主體131與外框架132之間。無塵布140在使用過程中，如需 更換清洗，只需拆卸外框架132，即可完成無塵布的更換或清洗工作，便于晶圓 盒清潔裝置的維護，可提高生產效率。
其中，驅動裝置120包括電機121,設置于支撐臺110內；以及絲杠122, 設置于支撐臺110內，與電機121連接并由電機121帶動旋轉；滑板主體131安裝在絲杠122上，通過電機121的轉動而沿絲杠122線性運動，并帶動無塵 布140沿絲杠122線性移動。
另外，驅動裝置120還包括一導軌123,其為一滑杠，與滑板主體131滑動 連接，并與絲杠122平行設置，所述導軌123可起到導向作用，增加滑板主體 131運動時的穩定性。
進一步的，所述晶圓盒清潔裝置100還包括限位凸起150，其設置于作業面 lll的邊緣。當晶圓盒^:在清潔裝置的支撐臺110上時，防止所述晶圓盒從作業 面lll上滑落，保證了晶圓盒在清潔過程中的安全。
優選的，所述晶圓盒清潔裝置IOO還包括晶圓盒位置傳感器160，設置于作 業面111上。當有晶圓盒放置于作業面111上時，晶圓盒位置傳感器160便會感 知晶圓盒的存在，并在一PLC(未圖示)的控制下驅動電機121,開始清潔作業， 而在無晶圓盒的情況下，電機121處于待機狀態，可起到節約能源的作用，并 可減少因設備運轉所產生的顆粒污染。所述晶圓盒清潔裝置100還包括絲杠限 位傳感器170,設置于所述支撐臺110內，可起到限制絲杠122的轉動位置的作 用。
當晶圓盒放在清潔裝置的支撐臺110上時，電機121驅動滑板130沿絲杠 122線性運動，并帶動無塵布140沿絲杠122線性移動，無塵布140便會擦拭晶 圓盒的底座，此時便可以將晶圓盒的底座因磨損而產生的塑料顆粒清除掉，進 而起到清潔晶圓盒的底座的作用，保護了晶圓和工藝i殳備不受塑料顆粒的損害， 提高了晶圓的成品率，并保證了工藝設備的正常運作。
當使用無塵布140擦拭晶圓盒時，微小的塑料顆粒會掉落到支撐臺110內， 如果不及時進行清理，這些微小顆粒可能會隨著空氣流動，再次污染晶圓盒和 裝置，進而還會造成晶圓和裝置的損壞。因此，在本實用新型的一實施例中， 晶圓盒清潔裝置的支撐臺110的底部開設有排風孔(未圖示)，晶圓盒清潔裝置 的支撐臺110還包括一排風裝置180,其設置于支撐臺110的下方，并與所述排 風孔連通。在排風裝置180的作用下形成一股穩定向下的氣流，因此清潔晶圓 盒底座產生的微小顆粒在氣流的作用下定向通過所述排風孔進入到排風管道 中，可更好的達到清潔的效果，防止這些微小顆粒再次污染晶圓盒清潔裝置。
綜上所述，本實用新型公開了一種晶圓盒清潔裝置，包括支撐臺，包括
6作業面，用于承載晶圓盒；驅動裝置，設置于所述支撐臺內；滑板，設置于所 述作業面上，并與所述驅動裝置連接；以及無塵布，固定在所述滑板上；其中， 所述驅動裝置驅動所述滑板運動，帶動所述無塵布運動，以清潔所述晶圓盒。 本實用新型所提供的晶圓盒清潔裝置可以減少晶圓盒在操作過程中因摩擦而產 生的微小塑料顆粒，從而減小了顆粒對晶圓的損壞的可能，提高了晶圓的成品 率，并保證了工藝設備的正常運作，且所述無塵布易更換清洗，可提高生產效 率。
雖然本實用新型已以4交佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本實用新型， 任何熟習此技術者，在不脫離本實用新型的精神和范圍內，當可作些許的更動 與潤飾，因此本實用新型的保護范圍當視權利要求書所界定者為準。
權利要求1、一種晶圓盒清潔裝置，其特征在于，包括支撐臺，包括作業面，用于承載晶圓盒；驅動裝置，設置于所述支撐臺內；滑板，設置于所述作業面上，并與所述驅動裝置連接；以及無塵布，固定在所述滑板上；其中，所述驅動裝置驅動所述滑板運動，帶動所述無塵布運動，以清潔所述晶圓盒。
2、 根據權利要求l所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，所述滑板包括滑 板主體以及外框架，所述無塵布被夾緊在所述滑板主體與所述外框架之間。
3、 根據權利要求2所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，所述驅動裝置包括電機，設置于所述支撐臺內；以及絲杠，設置于所述支撐臺內，與所迷電機連接并由所述電機帶動旋轉； 所述滑板主體安裝在所述絲杠上，通過所述電機的帶動而沿所述絲杠運動， 并帶動所述無塵布沿所述絲杠移動。
4、 根據權利要求3所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，所述驅動裝置還 包括導軌，其與所述滑4反滑動連接，并與所述絲杠平行^殳置。
5、 根據權利要求1所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，還包括絲杠限位 傳感器，設置于所述支撐臺內。
6、 根據權利要求1所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，所述支撐臺底部 開設有多個排風孔。
7、 根據權利要求6所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，還包括排風裝置， 設置于所述支撐臺的下方，并與所述排風孔連通。
8、 根據權利要求1所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，還包括限位凸起, 設置于所述作業面的邊緣。
9、 根據權利要求8所述的晶圓盒清潔裝置，其特征在于，還包括晶圓盒位 置傳感器，設置于所述作業面上。
專利摘要本實用新型公開了一種晶圓盒清潔裝置，其包括支撐臺，包括作業面，用于承載晶圓盒；驅動裝置，設置于所述支撐臺內；滑板，設置于所述作業面上，并與所述驅動裝置連接；以及無塵布，固定在所述滑板上；其中，所述驅動裝置驅動所述滑板運動，帶動所述無塵布運動，以清潔所述晶圓盒。本實用新型所提供的晶圓盒清潔裝置可以減少晶圓盒在操作過程中因摩擦而產生的微小塑料顆粒，從而減小了顆粒對晶圓的損壞的可能，提高了晶圓的成品率，并保證了工藝設備的正常運作，且所述無塵布易更換清洗，可提高生產效率。
文檔編號B08B1/00GK201389530SQ20092006919
公開日2010年1月27日 申請日期2009年3月20日 優先權日2009年3月20日
發明者華 田, 章亞榮 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司