專利名稱：：掩模相關基板的洗凈方法、洗凈方法及洗凈液供給裝置的制作方法
技術領域：
：本發明涉及一種從掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來的掩模相關基板的洗凈方法，特別涉及一種用以除去附著在掩模相關基板的表面上的硫酸離子、或是抑制微粒的發生的技術。
背景技術：
：以IC、LSI、VLSI等的半導體集成電路的制造為首，被使用于廣范圍的用途中的掩模，基本上，是根據以下方式來獲得在透光性基板(掩模用基板)上，先成膜由金屬或含有金屬化合物的薄膜所構成的遮光膜，而作成空白掩模，然后使用電子束微影法來將該空白掩模的該遮光膜，加工成規定的遮光膜圖案。近年來，隨著半導體集成電路的高集積化等的市場要求，圖案的微細化也急速地進展，相對于此，為了提高曝光步驟中的光阻分辨率，是根據謀求曝光波長的短波長化及增大透鏡的開口數來加以對應。在上述半導體集成電路的制造等之中所使用的微影法，是使用一種掩模，是作為原圖而將電路圖案轉印在光阻上，且相對于曝光光源，在透明的基板上，根據金屬化合物而形成有遮光部。但是，若掩模逐漸使用于極微細的圖案的曝光時，即便是極微細的異物及霧狀(模糊不清)也會成為缺陷，所以掩模及用以制造掩模的材料，要求極高的潔凈性。掩模，不論是具有將曝光光源幾乎完全地遮斷的遮光部的二進制掩模；或是一邊使光減衰一邊相對于光透過部使光的相位反轉，并根據曝光光源的繞射(diffraction)來防止明暗對比降低的半色調相位移掩模(halftonephaseshiftmask)等，都已經實用化。這些掩模，是在石英或CaF2等的透明基板上，具有鉻化合物或金屬硅化合物的遮光部。又，掩模，是先在上述般的透明基板上，成膜上數遮光膜材料的薄膜，然后根據電子束微影法等，在其上形成光阻圖案，并根據蝕刻來將圖案轉印在遮光材料上這樣的順序，而制作出來，但是如上所述，由于要求極高潔凈度，所以在各步驟中，要進行極嚴格的洗凈。然而，作為曝光光源，若使用ArF準分子激光這樣的高能量線，則由于殘留在基板上的硫酸離子與銨離子而會生成硫酸銨的微小結晶，且發現此微小結晶會變成微粒，并作為缺陷來計算其數量，因而成為問題(例如參照日本特開2005-202135號公報)。利用加溫后的純水來沖淋掩模材料的方法，本案申請人已經在日本特開2004-19994號公報中提出申請，此種使用溫水的方法，相較于使用常溫的水來進行洗凈的情況，除去硫酸離子的效果高，此已經揭示于日本特開2004-53817號公報中。然而，即便是如此地使用加溫后的純水來進行洗凈的情況，在基板干燥后，也會發生微粒。又，用以制造空白掩模的石英、Ca&等的基板、或是空白掩模的洗凈，當使用界面活性劑來進行洗凈之后，使用惰性水或臭氧水來進行多段的洗凈，并根據需要，在各階段中，使用超純水來進行沖淋(例如參照日本特開2001-96241號公報或特開2002-151453號公報等)。另一方面，即便是如上述般地進行多段的洗凈后的情況，所得到的基板，并非一定是潔凈的，而是常會發生微細異物。例如，當干燥方法不適當的情況，也有在使水滴干燥時，發生污染(異物)的情況(參照日本特開2004-19993號公報)。
發明內容本發明是基于此種問題點而發明出來，其目的是提供一種洗凈方法及用以將洗凈液供給至洗凈裝置中的洗凈液供給裝置；該洗凈方法，在洗凈從掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來的掩模相關基板的情況，能利用簡便的方法來提高對于硫酸離子的洗凈效率，進而能極度地減少微小異物(微粒)的發生量。為了解決此問題，本發明提供一種掩模相關基板的洗凈方法，其特征在于當根據純水來洗凈從被硫酸離子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來的掩模相關基板時，對在該洗凈中所使用的純水，預先進行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟。若是此種本發明的掩模相關基板的洗凈方法，當利用純水來洗凈被硫酸離子污染后的掩模相關基板時，由于對在洗凈中所使用的純水，預先進行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟，所以能供給脫氣后的純水來作為洗凈液，可有效率地除去例如以大氣中的二氧化硫等為原因而附著在掩模相關基板上的硫酸離子。并且，能簡便地進行。以往，為了除去硫酸離子，也有使用將純水加溫的方法，但是若是使用本發明，即便沒有特意地加溫純水，也能充分地除去硫酸離子。因此，特別是能顯著地抑制起因于硫酸離子而發生的微粒，而可提供一種高質量的掩模相關基板。此時，對在上述洗凈中所使用的純水，能預先進行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟與加溫的加溫步驟。若是此種本發明的掩模相關基板的洗凈方法，當利用純水來洗凈被硫酸離子污染后的掩模相關基板時，由于對在洗凈中所使用的純水，預先進行將純水加溫的加溫步驟，亦即供給加溫后的純水來作為洗凈液，所以能有效率地除去例如以大氣中的二氧化硫等為原因而附著在掩模相關基板上的硫酸離子。而且，由于也進行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟，所以能更有效率地除去硫酸離子。在已洗凈的基板干燥后，發生在基板表面上的微粒，能進一步地抑制其發生。以往的使用加溫后的純水來進行的洗凈，在基板干燥后，會發生微粒，但是在本發明中，所使用的純水，不僅是經過加溫步驟，且也經過脫氣步驟，所以能除去硫酸離子，且在已利用加溫水洗凈并干燥后的基板上發生微粒的情況，可加以抑制。并且，能簡便地進行。此時，進行上述加溫步驟，能將在上述洗凈中所使用的純水，加熱至55°C以上。若使用55t:以上的加溫后的純水來進行洗凈，公知的方法中，在基板干燥后，容易發生微粒，但是若是本發明的洗凈方法，則即便是加溫至如此的溫度的情況，在已洗凈并干燥后的基板上發生微粒的情況，也能加以抑制。而能更有效地獲得本發明的效果。特別是，要根據上述純水來進行洗凈的掩模相關基板，能設為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來實行處理后的基板。如此，要根據純水來進行洗凈的掩模相關基板，首先利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來實行處理后的基板，所以能有效地除去掩模相關基板表面上的有機物，且成本低。而且，本發明的洗凈方法，對于此種已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來實行處理后的掩模相關基板，也是有效的，即便由于硫酸等的殘渣，硫酸離子附著在基板表面上，也可有效率地除去該硫酸離子。此時，當要根據上述純水來進行洗凈時，理想是對上述掩模相關基板噴淋純水，來實行洗凈。進行脫氣步驟后的純水，在脫氣后，理想的是盡可能地縮短與空氣或其它氣體接觸的時間，以此種狀態來進行洗凈。因此，若是根據此種噴淋來進行洗凈，則也可降低與空氣等接觸的時間，而能有效地利用根據溶解氣體的脫氣而可得到的效果，也就是效率佳地除去硫酸離子的效果，因而能更提高洗凈效率。又，上述脫氣步驟，理想是使用氣液分離膜。如此，若使用氣液分離膜來進行脫氣步驟，則不易受到微粒或離子的污染，且能有效率地將大量的純水脫氣。并且，理想是進行脫氣步驟，將在上述洗凈中所使用的純水的溶解氧濃度，作成lppm以下。以溶解氣體的脫氣狀態作為標準，能將溶解氧作為指標。通常，當沒有對純水作特別的處理時，溶解氧濃度是8ppm左右，但是根據進行脫氣步驟來作成lppm以下，可更有效果地除去硫酸離子。又，對在上述洗凈中所使用的純水，能更進行利用過濾器來除去異物的異物除去步驟。若進而進行此種使用過濾器的異物除去步驟，能除去含在純水中的微細異物，對于洗凈后的基板，也能抑制起因于這些異物而發生的缺陷。根據此種本發明的掩模相關基板的洗凈方法，對于被硫酸離子污染后的掩模相關基板，根據上述純水來進行洗凈，便能除去附著在上述掩模相關基板的表面上的硫酸離子。而且，能效率佳且簡便地除去。又，本發明提供一種洗凈方法，是將洗凈液供給至洗凈裝置中，來洗凈被洗凈基板的洗凈方法，其特征在于當利用用以除去異物的過濾器來過濾上述洗凈液，并將該過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中來洗凈被洗凈基板時，至少在將上述過濾后的洗凈液往上述洗凈裝置供給之前，先使上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統外部排出，之后，才將上述過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中。若是此種洗凈方法，在將過濾后的洗凈液往上述洗凈裝置供給之前，先使過濾后的洗凈液通過排出管而往系統外部排出，之后，才將過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中，所以在停止將洗凈液往洗凈裝置供給的期間，即便在過濾后而滯留的洗凈液中發生微細氣泡，也能預先將含有該微細氣泡的洗凈液往系統外部排出。以此，當將洗凈液往洗凈裝置供給時，相較于公知技術，能更抑制洗凈液中的微細氣泡的量，而能顯著地抑制由于基板的洗凈所帶來的起因于微細氣泡而發生的微小的異物缺陷，并能提高生產性、合格率。特別希望當使上述過濾后的洗凈液通過供給管供給至上述洗凈裝置中來洗凈被洗凈基板時，至少先將上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統外部排出，之后，直到將上述過濾后的洗凈液通過供給管而開始供給至上述洗凈裝置中為止，從上述排出管持續排出洗凈液。若是此種洗凈方法，先將過濾后的洗凈液通過排出管而往系統外部排出，之后，直到將過濾后的洗凈液通過供給管而開始供給至洗凈裝置中為止，從排出管持續排出洗凈液，所以即便在過濾后而滯留的洗凈液中發生微細氣泡，也能將含有該微細氣泡的洗凈液往系統外部排出。以此，能防止將含有該微細氣泡的洗凈液往洗凈裝置輸送。因此，能更進一步地抑制由于基板的洗凈所帶來的起因于微細氣泡而發生的微小的異物缺陷，并能提高生產性、合格率。此時，在開始供給上述過濾后的洗凈液后，能一邊通過上述供給管來供給過濾后的洗凈液，一邊同時地通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。若如此進行，能更確實地防止洗凈液滯留、抑制氣泡的發生，而可將未含有氣泡的洗凈液提供至洗凈裝置中。又，當停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，能通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。若如此進行，利用過濾器過濾后的洗凈液，即便是在停止供給至洗凈裝置中的時候，也會被排出至系統外部，所以事實上能消除過濾后的洗凈液發生滯留的可能性，而在下次供給時，能抑制發生微細的氣泡。進而，直到上述全部的被洗凈基板洗凈完成為止，能通過上述排出管來持續排出上述過濾后的洗凈液。若如此進行，使過濾后的洗凈液不會滯留，而且將洗凈液往系統外部排出的控制極為容易，所以能使作業簡便化。又，當要往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，上述排出管的入口的高度位置，理想是設成比上述供給管的入口的高度位置更高。若如此地設定，在過濾后的洗凈液中所發生的微細氣泡，能將其更有效率地往排出管導引，并能更進一步地防止將含有氣泡的洗凈液被供給至洗凈裝置中。并且，能將上述被洗凈基板，設為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。如此，對于這些需要精密的洗凈的基板，若應用本發明的洗凈方法，則能因應市場的要求，相較于公知的基板，提供一種異物發生量較少的基板。上述這些本發明的洗凈方法，能將上述純水設為超純水。由于微細氣泡所造成的洗凈不良，特別是利用超純水來實行沖淋時，容易引起，在根據超純水的洗凈中，根據應用本發明，能強力地抑制在洗凈時所發生的微細異物。又，本發明提供一種洗凈液供給裝置，是將洗凈液供給至用以洗凈被洗凈基板的洗凈裝置中的洗凈液供給裝置，其特征在于至少具備用以從上述洗凈液除去異物的過濾器、用以將上述洗凈液供給至上述洗凈裝置中的供給管、用以將上述洗凈液往系統外部排出的排出管、及分別被配設在上述供給管與排出管上來控制上述洗凈液的液量的閥；上述供給管與上述排出管，被連接在上述過濾器的更下游側，并根據上述供給管與排出管的各個閥的開閉，將利用上述過濾器而被過濾后的洗凈液，往上述洗凈裝置供給及/或往系統外部排出。若是此種洗凈液供給裝置，不僅是可將利用過濾器過濾后的洗凈液，往洗凈裝置供給，也可以往系統外部排出。因此，例如即便在過濾后而滯留的洗凈液中發生微細氣泡，也能將含有該微細氣泡的洗凈液往系統外部排出，并能防止將含有該微細氣泡的洗凈液往洗凈裝置輸送。以此，在基板上所發生的微小的異物缺陷，能顯著地加以抑制，并能提高生產性、合格率。此時，在上述供給管與上述排出管的連接部，排出管的入口的高度位置，理想是設成比供給管的入口的高度位置更高。若是此種裝置，在過濾后的洗凈液中所發生的微細氣泡，容易往排出管引導，因而能更有效果地防止將含有氣泡的洗凈液往洗凈裝置供給。又，理想的是配備了具有上述過濾器的過濾器殼、及包圍該過濾器殼的殼；洗凈液，從上述殼，通過上述過濾器而流入上述過濾器殼內；在上述殼上，至少連接氣泡排除管，用以將洗凈液中的氣泡往系統外部排除。若是此種裝置，在包圍過濾器殼的殼內的洗凈液中的氣泡，能將其往系統外部排除。因此，利用過濾器過濾而要往洗凈裝置供給的洗凈液的氣泡量，能更降低。又，能抑制由于氣泡而造成的過濾能力降低或發塵。而且，上述被洗凈基板，能設為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。被洗凈基板若是此種基板，則這些基板是極度希望有精密的洗凈，因應市場的要求，相較于公知技術，本發明可提供一種異物發生量少的洗凈后的基板。又，上述洗凈液若是超純水，則在根據超純水來實行洗凈時，特別容易發生的微細異物，能強力地抑制其發生。若是本發明的掩模相關基板的洗凈方法，可根據簡便的方法，有效率地除去原本是難以除去的硫酸離子；這些硫酸離子是以大氣中的二氧化硫等為原因、或是在進行根據硫酸等而實行的處理后，附著在掩模相關基板的表面上。進而，使用加溫后的純水來進行洗凈的情況，在基板干燥后所產生的微粒，也能抑制其發生。又，若是本發明的洗凈方法，起因于過濾后的洗凈液中的氣泡而發生的微小異物，能極強力地抑制其發生，所以在洗凈后，可得到一種由于微粒而造成的污染少的基板，并能提高生產性、合格率。又，若是本發明的洗凈液供給裝置，不僅是能將過濾后的洗凈液，往洗凈裝置供給，也能往系統外部排出，并能防止將含有該微細氣泡的洗凈液往洗凈裝置輸送。因此，在基板的洗凈中所發生的微小的異物，能顯著地抑制其發生，而能進行精密的洗凈。圖1是概要性地表示能實施本發明的掩模相關基板的洗凈方法的洗凈系統的一個例子的概要圖。圖2是概要性地表示能實施本發明的掩模相關基板的洗凈方法的其它洗凈系統的一個例子的概要圖。圖3是概要性地表示洗凈裝置、本發明的洗凈液供給裝置的一個例子的概要圖。圖4是概要性地表示本發明的洗凈液供給裝置的另外實施形態的一個例子的概要圖。圖5是概要性地表示本發明的洗凈液供給裝置的另外實施形態的一個例子的概要圖。具體實施例方式以下，說明有關本發明的實施形態，但本發明并未被限定于此實施形態。首先，特別是對于硫酸離子的污染，敘述有關本發明中的掩模相關基板的洗凈方法。若對掩模照射ArF準分子激光，則在已被硫酸離子污染的情況下，會形成硫酸銨的微小結晶而成為缺陷。此硫酸離子的來源，雖然沒有特定，理想是將掩模表面的硫酸離子量抑制成較少量，又，制造中間體，理想的是被洗凈成沒有被硫酸離子污染的狀態，使其不會成為硫酸離子源。另一方面，本發明人深入研究有關此硫酸離子時，發現即便是正在進行著控制氣氛中所包含的酸性氣體的潔凈室內，在保管石英基板的情況，雖然沒有觀察到硫酸離子量的增加，但是，特別是在保管已成膜有鉻系材料膜或金屬硅化物系的膜而成的掩模相關基板的情況，即便是已暫時潔凈化后的基板，經過一段時間，便會從表面觀測到硫酸離子。因此，為了得到一種由硫酸離子所引起的污染少的掩模，包含空白掩模的制造中間體，理想是在制造步驟的各階段中，進行用以除去硫酸離子的洗凈操作。此硫酸離子，已知一旦附著上便難以除去。例如在日本特開2004-53817號公報中，揭示出利用加溫后的純水來實行洗凈是有效的，但是根據本發明人的調查結果，若加溫洗凈水，則會產生因與硫酸離子相異的原因而引起微粒污染的情況。另一方面，為了簡便地除去已附著在掩模相關基板的表面上的有機物等的異物，利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來進行處理，是有效的。因此，本發明人認為大氣中的二氧化硫等、或是利用含有硫酸或硫酸鹽之類的材料來進行基板表面的處理而在進行有機物等的異物的除去后的殘渣，是附著在基板表面上的硫酸離子的來源的例子，因而特別注意到在上述利用硫酸等而實行的處理后，利用純水來實行的洗凈。本發明人發現以下的事實而完成本發明，亦即，在加溫純水的供給步驟中，利用嘗試錯誤的方法，廣范圍地嘗試試驗時，在將純水供給至洗凈裝置的步驟中，若加進脫氣步驟，來使純水中的溶解氣體脫氣，則能效率佳地除去硫酸離子；又，即便是使用加溫后的純水來進行洗凈的情況，也能抑制上述微粒的發生。以往，已知有在日本特開11-302689號公報中所揭示的方法，如這種方法所述，為了強化洗凈力，以往一直經常采用將氣體添加在純水中，但是本調查結果則出乎意料。以下，一邊參照附圖一邊詳細地說明有關本發明的掩模相關基板的洗凈方法，但本發明并未被限定于此說明。首先，說明有關采用純水的洗凈系統。在實施本發明的掩模相關基板的洗凈方法時，能使用此洗凈系統。在圖1中，表示該洗凈系統的一個例子的概要。另外，一并表示一種表面處理裝置，其利用含有硫酸或硫酸鹽的材料，來施行掩模相關基板的表面處理、洗凈。另外，所謂的掩模相關基板，是從掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來。更具體而言，可以舉出用以制造掩模的石英、氟化鈣等的相對于曝光光源是透明的掩模用基板及由此基板加工而成的基板。又，可舉出在透明基板上，已成膜有金屬化合物系材料膜而成的空白掩模或是其制造中間體。該金屬化合物系材料，例如是過渡金屬化合物，特別是鉻、鈦、鎢、鉭、鈮等的金屬氧化物、金屬氮氧化物、金屬碳氧化物、金屬碳氮化物、金屬碳化物、金屬碳氮氧化物等。又，同樣地，可舉出在透明基板上，已成膜有過渡金屬硅化合物材料膜而成的空白掩模或是其制造中間體。該過渡金屬硅化合物材料，例如是含有過渡金屬與硅的化合物，特別是含有鉬、鋯、鉭、鈦的硅氧化物、硅氮氧化物、硅碳氧化物、硅氮化物、硅碳氮化物、硅碳氮氧化物等。進而，同樣地，可舉出在透明基板上，已成膜有硅化合物膜而成的空白掩模或是其制造中間體。該硅化合物，例如是硅氧化物、硅氮氧化物、硅碳氧化物、硅氮化物、硅碳氮化物、硅碳氮氧化物等。又，本發明的洗凈方法，理想是應用在對于掩模或是其制造中間體的洗凈；該掩模，典型地，是在上述空白掩模上，先使用電子束光阻來形成圖案，然后將光阻圖案作為蝕刻掩模，根據干式蝕刻或濕式蝕刻，將圖案轉印而成。成為對象的掩模，不論是二進制掩模、半色調相位移掩模(halftonephaseshiftmask)或是雷文生型相位移掩模(levensonphaseshiftmask)，只要是具有由上述膜材料所產生的圖案，便可加以應用。如圖1所示，此洗凈系統1主要具有用以制造純水的純水制造裝置2，該純水是用于洗凈掩模相關基板；脫氣裝置3，用以使制造出來的純水中的溶解氣體脫氣；過濾器4，用以除去純水中的微細異物；及噴嘴(使用場所)，用以將純水向掩模相關基板噴出。另外，在圖1中，是構成純水，可通過脫氣裝置3之后，經過過濾器4，而供給至使用場所。但是，也可相反地配置此脫氣裝置3與過濾器4。此處，純水制造裝置2，并沒有特別地限定，例如，能采用在掩模相關基板的洗凈中所使用的一般的純水制造裝置2。典型地，能作成具備離子交換裝置、逆滲透裝置、紫外線(UV)照射裝置、脫泡裝置。根據此純水制造裝置2，能制造出所謂的超純水。又，脫氣裝置3也沒有特別地限定，基本上，只要是能脫氣并可維持純水的潔凈度的脫氣裝置，便可加以采用，但是，理想的是如圖1所示般地能容易地裝配在純水的供給管路中，并能以連續的方式來進行脫氣的脫氣裝置。例如，只要是根據純水通過直接減壓氣氛中來進行脫氣的真空脫氣裝置，便能將溶解氧脫氣成降低至0.5ppm左右的程度。又，在使槽內減壓的狀態下，若是一邊施加超音波一邊使純水通過，則更能有效率地進行脫氣。而且，作為可最有效率地進行脫氣的裝置，可舉出具備有氣液分離膜的脫氣裝置。根據此氣液分離膜而構成的脫氣裝置，例如，如圖1所示，可舉出一種脫氣裝置，其具備氣液分離膜亦即中空絲膜6、包圍該中空絲膜的槽7、及用以使該槽內減壓的真空泵8。根據此裝置，可根據真空泵8來使槽7的內部氣氛減壓，并可使純水在中空絲膜6中流動，而可將溶解氣體從純水中脫氣。采用中空絲膜的模塊，在市場上有販賣；作為氣液分離膜的材質，可采用聚烯烴、氟化聚烯烴、硅樹脂等。能配合條件，每次選擇適當的材質。根據使用此種氣液分離膜，例如若是溶解氧濃度，則可降低至0.lppm以下。并且，過濾器4，只要能除去純水中的微細異物便可以，沒有特別限定。例如，能使用在市場上販賣的過濾器。能適當地選擇不易產生發塵等的過濾器。如此，洗凈系統l，經過以上的各種裝置，便可以從洗用場所，將純水供給至被洗凈基板亦即掩模相關基板，且不限于上述裝置，也能根據需要而更追加適當的裝置。例如，為了使在通過此洗凈系統1中發生于純水中的微細氣泡，排出至系統外部，也可配置氣液分離器或間歇閥等。另外，要根據此種洗凈系統1來進行洗凈的掩模相關基板，例如是由于大氣中的二氧化硫而使其表面被硫酸離子污染的基板；或是在圖1所示的表面處理裝置5中，預先根據硫酸等來處理其表面后的基板。表面處理裝置5，沒有特別限制，只要是能對掩模相關基板進行通常的表面處理(使用含有硫酸或硫酸鹽的材料來進行)的裝置，便可以。又，能使用圖2所示的洗凈系統l'。此洗凈系統l'，主要具有用以制造純水的純水制造裝置2，該純水是用于洗凈掩模相關基板；脫氣裝置3，用以使制造出來的純水中的溶解氣體脫氣；加溫手段(加熱線(lineheater)9、加溫機10);過濾器4，用以除去純水中的微細異物；及噴嘴(使用場所)，用以將純水向掩模相關基板噴出。另外，在圖2中，作為加溫手段，配置了加熱線9、以及與此相異的加溫機10，除此以外，也能更配置其它的加溫機，或是僅配置加溫線9。只要是能將用于洗凈的純水加溫至規定的設定溫度便可以，并沒有特別限定用以加溫的手段的數量等。而且，在圖2中，是構成純水，可通過脫氣裝置3之后，利用加溫機10和加熱線9加溫，然后經過過濾器4，而供給至使用場所。但是，此脫氣裝置3、加熱線9、加溫機10及過濾器4的配置，能適當地加以替換。作為加溫純水的加熱手段，如圖2所示，除了配置加熱線9以外，也可配置有加溫機10。加溫的方法沒有特別限定，可設為不易產生異物等，并能適當地加溫至設定溫度的方法。例如，可舉出根據電阻加熱的方法、或是根據熱交換器加熱的方法等。又，根據利用計算機等來控制這些加溫手段，便能簡單且更確實地將純水加溫至設定溫度。另外，其它的構成，例如能設成與圖1的洗凈系統1相同。接著，說明有關本發明的掩模相關基板的洗凈方法。此處，首先說明有關一種使用了圖l所示的洗凈系統l的洗凈方法，但本發明并未限定于此種方法。至少被洗凈基板亦即掩模相關基板，被硫酸離子污染，而只要使用一種已進行脫氣步驟而將溶解氣體脫氣后的純水，來進行洗凈便可以。作為一個例子，先利用含有硫酸、硫酸基的材料來處理掩模相關基板的表面，然后使用脫氣純水，便能洗凈由于該殘渣等而被硫酸離子污染的基板；若有需要，能更追加其它的處理。例如，也能先施行由硫酸等所實行的處理，然后如以往般地進行純水洗凈等之后，再進行根據脫氣后的純水所實行的洗凈。以下，說明有關在如上述般地根據硫酸等來實行處理之后，使用脫氣純水來進行洗凈的情況。然而，除此以外，作為本發明，也可舉出利用脫氣純水來洗凈例如由于大氣中的二氧化硫，其表面被硫酸離子污染后的掩模相關基板的方法。首先，準備被洗凈基板亦即掩模相關基板。此掩模相關基板，可舉出上述的基板，根據表面處理裝置5，利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來施行表面處理。如此，根據利用硫酸等來施行的表面處理，例如，可有效率地進行光阻膜的剝離或是除去附著在表面上的有機物。然后，施行上述的表面處理后，將掩模相關基板，往洗凈系統1搬送，并利用后述的方法，根據所準備的純水，作為洗凈液，來進行最終洗凈。以下，敘述有關使用洗凈系統1的洗凈。首先，根據純水制造裝置2，經過離子交換等來準備所謂的超純水。之后，將制造出來的純水，送至脫氣裝置3，將純水中的溶解氣體脫氣(脫氣步驟)。此溶解氣體的脫氣方法并沒有限定，特別理想是使用氣液分離膜來進行。使純水在氣液分離膜亦即中空絲膜6之中流動，并沿著膜而使純水通過該膜，此時，利用真空泵8來將槽7內部的氣氛減壓，以此可從通過中空絲膜6之中的純水中，將溶解氣體脫氣。如此，若使用氣液分離膜來將溶解氣體脫氣，例如，只要使用循環水式的真空泵8來進行減壓，能使在常態下含有8ppm的溶解氧濃度，降低至lppm以下，更進一步，若使用油泵等的高性能真空泵，則能更進一步地減壓，而可使溶解氧濃度，降低至0.lppm以下。并且，不易受到微粒等的污染，能有效率地施行大量純水的脫氣處理。而且，特別是以溶解氧濃度來控制脫氣狀態的情況，根據作成O.lppm以下，能顯著地除去硫酸離子。又，除了上述使用氣液分離膜的脫氣方法以外，根據使純水通過已將氣氛減壓后的槽內、或是進一步地一邊施加超音波一邊使純水通過減壓后的槽內，也可以進行脫氣。又，也可以組合這些脫氣方法。接著，使脫氣后的純水，通過過濾器4，除去含在純水中的微細異物(異物除去步驟)。以此，可抑制起因于此微細異物而發生的微粒。能進行使用了過濾器4的與以往相同的異物除去方法。另外，理想是如圖l所示，在脫氣步驟之后，進行用以除去異物的過濾步驟，但此順序并沒有限定，也可以相反。如上所述，至少預先將已使溶解氣體脫氣后的純水供給至噴嘴，然后從該噴嘴噴出，以此，先前已經利用硫酸等來施行處理后的掩模相關基板，可對其進行洗凈。此時，若直接將純水噴在掩模相關基板上來進行沖淋，從噴嘴噴出的脫氣后的純水，能以接觸空氣或其它氣體的時間短的狀態，噴在基板上，來進行洗凈。也就是說，脫氣后，能以溶解氣體的量維持在少的狀態下，來洗凈基板。因此，能更提高根據脫氣所得到的硫酸離子的除去效果。根據噴淋此純水來進行掩模相關基板的洗凈的情況，理想是噴淋30秒20分鐘的程度，更理想是2分鐘20分鐘。另外，當然不限定于直接從噴嘴噴淋的洗凈方法，例如也可將純水噴在槽內，利用浸在積存的純水中，來進行掩模相關基板的洗凈。根據以上的本發明的洗凈方法，可有效率地除去由于利用硫酸等而進行的表面處理，而附著在掩模相關基板的表面上的硫酸離子。而且，由于只要事先對作為洗凈液的純水進行脫氣步驟便可以，所以極為簡單。以此，能抑制以存在于表面上的硫酸離子為原因而發生的硫酸銨等的微粒，而可提供一種高質量的掩模相關基板。接著，說明有關使用圖2所示的洗凈系統1'的洗凈方法，但是除了加進加溫步驟以外，能與使用圖1的洗凈系統1時同樣地進行。至少被洗凈基板亦即掩模相關基板，被硫酸離子污染，而只要使用一種已進行脫氣及加溫后的純水，來進行洗凈便可以。作為一個例子，可舉出先利用含有硫酸、硫酸基的材料來處理掩模相關基板的表面，然后使用脫氣純水，來洗凈由于該殘渣等而被硫酸離子污染的基板。若有需要，能更追加其它的處理。例如，也能先施行由硫酸等所實行的處理，然后如以往般地進行純水洗凈等之后，再進行根據脫氣及加溫后的純水所實行的洗凈。以下，說明有關在如上述般地根據硫酸等來實行處理之后，使用進行脫氣步驟及加溫步驟后的純水來進行洗凈的情況。然而，除此以外，作為本發明，也可舉出利用上述純水來洗凈例如由于大氣中的二氧化硫，其表面被硫酸離子污染后的掩模相關基板的方法等。如上述，除了加進加溫步驟以外，由于是與使用圖1的洗凈系統1時相同，所以僅說明有關加溫步驟。將脫氣后的純水送至加溫手段，并加溫至設定溫度(加溫步驟)。加溫純水之際，其方法沒有特別限定，例如若利用加熱線9來實行加溫，便能連續地得到溫水。又，若預先利用加溫機10加溫至設定溫度附近，然后在更靠近使用場所的位置，利用加熱線9來實行再加溫，則實際上從使用場所供給至掩模相關基板上的純水的溫度，可更容易地調整至設定溫度。加溫的次數等，能考慮成本等方面，來加以適當地決定。在此洗凈中所使用的純水的加溫溫度，并沒有特別限定，為了有效率地除去硫酸離子，理想是55°C以上，而為了更有效率地進行，理想是加溫至80°C以上。特別是加溫至9(TC以上來進行洗凈為佳。以往僅是利用加溫水來進行洗凈時，在55t:以上，基板洗凈后的微粒發生數量便會有顯著地增加的傾向，而在8(TC以上會特別成為問題，進而在9(TC以上，則會成為嚴重的問題。然而，在本發明中，即便如此地使用比較高溫的純水來作為洗凈液，由于該純水已預先利用脫氣裝置3來進行溶解氣體的脫氣，所以與使用僅單純地加熱后的純水的公知方法相異，能抑制微粒的發生。另外，如圖2所示，理想是基本上以脫氣步驟、加溫步驟、異物除去步驟的順序來進行；但是，在先進行加溫步驟之后才進行脫氣步驟、異物除去步驟的情況，作為在脫氣步驟、異物除去步驟中所使用的裝置，較佳是使用可以保證在高溫中不會有異物溶出的材質。如上述般，根據至少將預先進行脫氣及加溫后的純水供給至噴嘴，然后從該噴嘴噴出，便可以對先前已施行了利用硫酸等所實行的處理后的掩模相關基板，進行洗凈。此時，若直接將純水噴在掩模相關基板上來進行沖淋，從噴嘴噴出的脫氣后的純水，能以接觸空氣或其它氣體的時間短的狀態，噴在基板上，來進行洗凈。也就是說，脫氣后，能以溶解氣體的量維持在少的狀態下，來洗凈基板。因此，能更提高根據脫氣所得到的硫酸離子的除去效果。又，當利用加溫后的純水來噴淋時，由于在基板上特別容易發生微粒，所以在噴淋的情況，本發明的使用脫氣且加溫后的純水來進行洗凈的方法，是特別有效的，能有效地防止發生微粒。根據噴淋此純水來進行掩模相關基板的洗凈的情況，理想是噴淋30秒20分鐘的程度，更理想是2分鐘20分鐘。另外，當然不限定于直接從噴嘴噴淋的洗凈方法，例如也可將純水噴在槽內，利用浸在積存的純水中，來進行掩模相關基板的洗凈。根據以上的本發明的洗凈方法，可有效率地除去附著在掩模相關基板的表面上的硫酸離子。而且，由于只要事先對作為洗凈液的純水進行脫氣步驟及加溫步驟便可以，所以極為簡單。以此，能抑制以存在于表面上的硫酸離子為原因而發生的硫酸銨等的微粒。同時，與硫酸離子相異的原因，也就是由于加溫水，當洗凈后的基板在干燥后所產生的微粒，也能抑制其發生。因此，可提供一種高質量的掩模相關基板。接著，對于特別是在過濾后且滯留中的洗凈液中的微細氣泡，敘述有關本發明中的洗凈方法及洗凈液供給裝置。現在，特別是對于半導體等的具有極微細圖案形狀的制品，其關于微影加工的掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體、掩模等的洗凈，也希望可以排除由于極微細的微粒所造成的異物污染，因而包含作為公知技術而舉出的洗凈液的改良或干燥方法的改良，有提出各種的提案。然而，雖然任一種方法都有一定的效果，但是微細異物的問題，依然會突然地發生。又，本發明人，發現關于洗凈后的基板，當進行檢查由于0.08ym程度的極微細的異物所造成的缺陷時，即便細心地洗凈之后，仍然常會突然地發生微細異物的問題。此種由微細異物所造成的缺陷，當發生在透明基板上或成膜中的中間膜的情況，有可能成為積層膜剝離、或是在蝕刻加工時發生異常舉動的原因；又，發生在空白掩模上的情況，有可能發生蝕刻加工時的異常舉動、光阻膜的剝離、或是使光阻圖案產生異常形狀。因此，為了以高可靠度來制造出具有微細圖案的掩模，必須要解決此種微細異物的問題。因此，本發明人，為了解決此問題，關于洗凈后的基板上的微細異物，進行深入地研究。具體而言，先假設各種異物的發生原因，然后根據施行用以排除該原因的操作，并基1于污染發生狀況是如何地變化，來檢討問題的發生原因與解決方法。通常，洗凈液，為了防止混入微細異物，在洗凈裝置的上游側，設置洗凈液供給裝置，在正要使用之前，使用過濾器來進行過濾。又，在此過濾器周邊的洗凈液的送液控制，當有從閥等的開閉控制機構發生微粒的情況，是作成一種系統，是將開閉機構配置在過濾器的上游側，即便有從控制機構發生微粒的情況，也可利用過濾器來除去該微粒。然而，本發明人，重復檢討有關此種裝置，認為使用此種公知裝置的情況，在中斷往洗凈裝置送液的期間，從滯留在洗凈液供給裝置內的洗凈液，特別是從滯留在位于過濾器殼的比過濾器更下游側的空間中的較大量的洗凈液，容易發生氣泡，這些氣泡沒有在中途被排出而會被送至使用場所。然后，此氣泡在洗凈中附著在被洗凈基板上，此附著有發生微細異物的可能性。因此，如上述般，在洗凈作業中，特別是在洗凈液停止供給的期間，洗凈液供給裝置的在具有過濾器的過濾器殼內所發生的微細氣泡，實際上會混入要供給至使用場所的洗凈液中，本發明人先將此假設為異物發生的原因，并發現當嘗試將此氣泡或含有此氣泡的洗凈液，從要供給至使用場所的洗凈液排除后，能強力地抑制由于上述突發的微細異物所產生的污染。亦即，本發明人，發現氣泡是發生異物的原因，并發現特別是使從過濾后并滯留中的洗凈液發生的微細氣泡，防止其混進要供給至洗凈裝置內的洗凈液中，以此便可解決上述問題，而完成本發明。以下，一邊參照圖面一邊詳細地說明有關本發明的洗凈液供給裝置及洗凈方法，但本發明并未限定于此。首先，敘述有關本發明的洗凈液供給裝置。(第l實施形態)在圖3中，表示本發明的洗凈液供給裝置的一個例子。另外，也一并表示被配置在洗凈液供給裝置101的更下游側的洗凈裝置110、及利用從該洗凈裝置的噴嘴lll(使用場所)噴出的洗凈液來加以洗凈的被洗凈基板112。另外，作為被洗凈基板112，例如可設為要求進行精密的洗凈的掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體、掩模等，但是本發明的洗凈液供給裝置，當然也可應用于這些物品的洗凈以外的洗凈。又，在制造超純水的裝置中，一般是安裝有用以將在紫外線(UV)殺菌等的處理中有可能發生的氣體排出系統外的設備，當洗凈液例如是超純水的情況，也能利用此種脫氣純水。在本發明中，作為可特別有效地應用的洗凈液，一般是采用一種洗凈液，其在應用于被洗凈基板上之后，并沒有伴隨著洗刷處理這樣的洗凈操作；具體而言，可舉出超純水、利用導入純水而調整導電度后的超純水、惰性水(H40)、臭氧水、稀氟酸水等。如圖3所示，洗凈液供給裝置101，具有殼102，在此殼102上，例如設置洗凈液入口103，用以使經過加溫步驟后而送來的洗凈液，進入殼102內。又，在殼102內，配備具有過濾器104的過濾器殼105;已進入殼102內的洗凈液，利用過濾器104而被過濾，并往過濾器殼105內流動。進而，在較過濾器104更下游側，配設供給管106，用以將過濾后的洗凈液往洗凈裝置110供給；及排出管107，用以將過濾后的洗凈液排出系統外。在圖3的情況中，連接過濾器殼105的一根配管分支而與上述供給管106及排出管107連接。此情況，分支的形狀也可配合裝置來決定其形狀，為了將洗凈液中的氣泡導引至排出管107而可更容易地排出至系統外部，是將分支部分中的位于垂直方向的上側的管，設為排出管107。亦即，排出管107的入口108b的位置，理想是連接成比供給管106的入口108a的高度位置更高。典型地，分支是作成T型，并以從過濾器殼105側來的配管與排出管107成為一直線的方式，將供給管106作成往下側突出的形態。另外，上述供給管106宇排出管107的配置，根據殼102內的流路設計、排出管107的排出量設計等，即便高度方向的上下關系逆轉，也可將滯留中的洗凈液從排出管107的入口108b幾乎完全地排出。又，在上述供給管106，配設閥109a，利用此閥的開閉，可控制供給至洗凈裝置110的洗凈液的液量。又，在上述排出管107，配設閥109b，利用此閥的開閉，可控制往系統外排出的洗凈液的液量。對于這些閥109a、109b并沒有特別地限定，例如，能使用氣體驅動或電磁驅動等的驅動型開閉閥、或是針閥等各種開閉閥。只要是能控制洗凈液的液量便可以，理想是可利用程序等來作自動控制的開閉閥。進而，若閥109a、109b采用可相互連動地作控制的型式，則更簡便。只要是能以所希望的時序、液量，使洗凈液通過供給管106、排出管107而流動便可以。又，配設的數量也沒有特別限定。又，從供給管106與排出管107的分支部(或者，例如后述圖4、圖5的形態的情況，往過濾器殼的供給管的連接部)至使用場所為止的距離，當太長的情況，在停止供給洗凈液時，在配管中，有產生氣泡的可能性，而會減弱本發明的效果。因此，從過濾器104至使用場所為止的配管距離，較短者為佳，理想是在5m以內，更理想是在2m以內。又，如圖3所示，能因應需要，將氣泡排除管113連接在殼102上。氣泡排除管113的連接位置并沒有限定，只要是在殼102的上部，便能更有效率地排出氣泡，所以是理想的。在圖3中，氣泡排除管113，是連接在與洗凈液入口103相同側的殼102的側面。在氣泡排除管113上，例如配置有氣液分離器114或是間歇閥等，根據這些構件，存在于殼102內的洗凈液中的氣泡，能通過氣泡排除管113而排出至系統外。以此，由于能將殼102內的含在洗凈液中的氣泡排除，所以最終能更有效地防止含有氣泡的洗凈液被供給至洗凈裝置110。又，能抑制起因于氣泡而發生在過濾器104中的過濾能力的降低、或是來自過濾器的發塵，并可謀求洗凈的效率化、更抑制在洗凈后的基板上發生微粒的可能性。作為氣液分離器114，有許多種公知的氣液分離器；已知有使用僅氣體分子可以通過的氣液分離膜，并將外側設為負壓來除去氣體的氣體分離器；或是利用氣體與液體的比重差異來進行分離的型式。但是，只要是可以有效率地除去氣泡，能使用任一種。另一方面，也可以是不具備將洗凈液與氣泡完全地分離并僅將氣泡排出至系統外的型式，而是具備使洗凈液與氣泡成為一體，將含有氣泡的洗凈液一起排除的型式。例如，上述利用比重差異的氣液分離器的型式的情況，能作成并不是僅排除氣泡，而是氣泡會與一定量的洗凈液一起被排除。因而，不需要用以使洗凈液與氣泡完全地分離的裝置的尺寸，而能使氣液分離器小型化。公知的洗凈液供給裝置，在過濾器的更下游側，由于沒有連接本發明的洗凈液供給裝置101中的排出管107，所以過濾后的洗凈液是按照原樣地被供給至洗凈裝置，并往被洗凈基板噴射。然而，若是上述本發明的洗凈液供給裝置IOI，在過濾器的更下游側，除了將洗凈液供給至洗凈裝置110的供給管106以外，由于也連接著用以將洗凈液排出至系統外的排出管107，所以例如由于洗凈作業的停止，滯留在過濾器殼105內而有微細氣泡發生的過濾后的洗凈液，可使其通過排出管107而排出至系統外部。亦即，能防止發生過濾后的含有氣泡的洗凈液被供給至洗凈裝置110而往被洗凈基板112噴射的情況。并且，合并閥109a、109b的控制，微細氣泡發生量少的過濾后的洗凈液，不會滯留在過濾器殼105內，而可通過供給管106往洗凈裝置IIO供給，并在洗凈被洗凈基板時噴出。因此，若是本發明的洗凈液供給裝置，能抑制在洗凈后的基板上會觀察到微小異物缺陷的發生，而能以高生產性、高合格率的方式來洗凈基板。(第二實施形態)在圖4中，表示本發明的另外的實施形態的洗凈液供給裝置201。在圖4的情況中，在過濾器殼205的上面，直接連接供給管206及排出管207。此時，如圖4(A)所示，例如可將洗凈液供給裝置201的殼202、過濾器殼205等水平地設置，并以供給管206的入口208a的高度位置與排出管207的入口208b的高度位置成為相同的方式，來連接供給管206與排出管207。相對于此，如圖4(B)所示，例如將洗凈液供給裝置201的殼202、過濾器殼205等水平地設置，結果，可作成能以排出管207的入口208b的高度位置比供給管206的入口208a的高度位置更高的方式，來連接供給管206與排出管207。供給管206與排出管207的連接部，只要是此種位置關系，如上所述，由于能容易地使過濾后的洗凈液中的氣泡通過排出管207而排出至系統外部，所以是更理想的。又，在圖3中，已說明了將氣泡排除管113設置在殼102上的情況，但是如圖4所示，也能作成不具備氣泡排除管。特別是圖4的形態的情況，在殼202內的洗凈液中的氣泡，容易移動至殼202的上端，相較于圖3的形態，被認為氣泡不易從過濾器204移動至過濾器殼205內。但是，即便是圖4的形態，當然也可在殼202的上部，個別地連接氣泡排除管。(第三實施形態)在圖5中，進而表示本發明的另外的實施形態的洗凈液供給裝置301。在圖5的情況中，在過濾器殼305的側面，直接連接供給管306及排出管307。此情況，仍然是以排出管307的入口308b的高度位置比供給管306的入口308a的高度位置高的方式，來分別連接，較為理想。又，氣泡排除管313，連接在殼302的位于洗凈液入口303相反側的側面上。以上，已經舉例說明了有關本發明的洗凈液供給裝置的實施形態，但是本發明并未限定于這些實施形態。只要是至少在過濾器的更下游側，配備分別設有閥的供給管與排出管，并根據這些閥的開閉控制，可將利用過濾器過濾后的洗凈液，供給至洗凈裝置及或排出至系統外部之形態的洗凈液供給裝置便可以。又，關于裝置的其它構成要素等，并沒有特別地限定，例如能設為與公知相同。接著，說明有關本發明的洗凈方法。此處，說明有關使用圖3的洗凈液供給裝置101的情況的洗凈方法，但是可使用的洗凈液供給裝置，并不限定于此種。在本發明的洗凈方法中，只要是先利用過濾器過濾洗凈液來除去異物，當使過濾后的洗凈液通過供給管而供給至洗凈裝置來洗凈被洗凈基板時，至少在將過濾后的洗凈液往洗凈裝置供給之前，先使過濾后的洗凈液通過排出管而排出至系統外部，之后，才將過濾后的洗凈液供給至洗凈裝置中便可以，所以只要準備適當的洗凈液供給裝置來實施便可以。亦即，本發明的洗凈方法是在將洗凈液供給至洗凈裝置110來洗凈被洗凈基板112之前，首先，將利用過濾器104過濾后的洗凈液，根據使閥109b成為開放狀態而從排出管107排出至系統外部。以此，便可使滯留在過濾器殼105內的洗凈液，與在該洗凈液中所發生的微細氣泡，一起排出。并且，如上述般，一旦洗凈液排出至系統外部，例如在使閥109b關閉后，為了實際上從噴嘴111噴出洗凈液來洗凈被洗凈基板112，使閥109a成為開放狀態而從供給管106供給洗凈液。更理想是，當要將洗凈液往洗凈裝置供給時，直到使閥109a開放而從供給管106供給過濾后的洗凈液為止，按照其原樣地使洗凈液持續地通過排出管107而往系統外部排出。因此，不會使洗凈液滯留在過濾器殼105等的內部，也能抑制微細氣泡的發生，并可將已抑制氣泡發生后的洗凈液往洗凈裝置110供給。以此，能利用微細氣泡已極度地被抑制后的洗凈液，來洗凈被洗凈基板112，并可防止發生由于微細氣泡而產生的微小缺陷、異物。另外，此情況，關于從排出管107排出的洗凈液，如上述般，只要進行至直到開始將過濾后的洗凈液通過供給管106而供給至洗凈裝置110為止便可以，之后并沒有特別地限定。因此，例如即便是在使閥109a開放而開始通過供給管106將洗凈液供給至洗凈裝置110之后，也可以同時持續地從排出管107排出洗凈液。而且，持續排出規定時間后，能使閥109b關閉而停止洗凈液的排出，且一片被洗凈基板洗凈完成后，停止洗凈液至洗凈裝置IIO，而在要洗凈下一片被洗凈基板時，再度先使閥109b開放而從排出管107排出洗凈液。或者，在使閥109a開放而開始通過供給管106將洗凈液供給至洗凈裝置110時，也能同時使閥109b關閉而停止從排出管107排出洗凈液。亦即，僅在剛要開始供給時，才進行洗凈液的排出，是僅將原本滯留在過濾器殼105內的洗凈液排出的方法。根據采用此種方法，能使洗凈液的消耗量最少。此情況，在洗凈步驟中，在剛要開始使用洗凈液之前，需要設定排出動作所需的時間，相對于排出時序，為了使供給時序不會遲延，理想是先作成洗凈時的供給的標準循環，依照該程序，來操作各閥等。只要可自動地控制閥109a、109b的開閉，便能確實地以所希望的時序來進行洗凈液的供給及排出。當然，即便是在其它的循環中，也能謀求閥109a、109b的自動化。當作成上述程序時，從使閥109b開放而開始進行排出滯留的洗凈液，至使閥109a開放而開始供給洗凈液為止，其僅進行排出的期間，理想是配合過濾器殼105的尺寸等來調整排出液量，而可在短時間內充分地排出，但是，理想的是調整成能以0.25秒程度來進行排出。如此的控制，例如能根據序列發生器來進行。亦即，只要裝配一種可進行聯合動作的裝置便可以。該裝置，若收到使用洗凈液的訊號，則首先使閥109b開放，而在充分地進行排出后的規定時間后，閥109a變成開放，并可使閥109b關閉。另外，當然也可不使用程序而是利用手動方式來控制這些閥109a、109b。進而，例如以洗凈復數片被洗凈基板為目的，從為了洗凈最先的被洗凈基板而開始往洗凈裝置100供給洗凈液后，直到最后的被洗凈基板的洗凈結束為止的期間(也就是從洗凈步驟開始至結束為止)，使閥109b開放而將過濾后并滯留中的洗凈液排出的動作，也可如上述般，僅從閥109a關閉至剛要開放之前為止，但是，為了降低氣泡發生的容易性，即便是在閥109a關閉的情況，也可一直使閥109b開放。根據此操作，在過濾器殼105內，由于不會滯留洗凈液，氣泡發生本身，變成不易引起。又，采用此方法的情況，當想要如上述般地開始往洗凈裝置100供給洗凈液時，關于產生時間遲延(用于排出所需的時間量)這樣的供給時序的問題，也不會發生。因此，特別是以手動來進行洗凈操作的情況，采用此方法，能利用簡單的裝置來實施，操作性也佳。又，以洗凈一片以上的被洗凈基板為目的，開始往洗凈裝置110供給洗凈液后，直到洗凈步驟結束為止的期間(也就是直到全部的被洗凈基板洗凈完成為止的期間)，也可以使閥109b—直處于開放狀態。采用此方法的情況，雖然會稍微浪費洗凈液，但是不需要連動于閥109a的開閉來使閥109b開閉，所以能以非常簡單的方式來進行裝置的控制。可是，即便是在閥109a開放的時候，當預先使閥109b開放的情況，通過排出管107而排出的洗凈液量，相對于從供給管106供給的洗凈液量，作為標準，理想是設定成1/203倍量，更理想是設為1/102倍量。此時的排出量的最佳值，由于是依據殼102的形狀或供給管106、排出管的配置等來決定，需要配合實際的裝置來作調整，但是，一般而言，利用上述標準的量，能獲得更好的結果。又，需要量以上的排出，不僅浪費洗凈液，也意味著過濾壓力的上升，雖然這些情況會因為過濾器104的選擇而有所不同，但是有時會使過濾器104的異物除去能力降低，所以理想是避免供給量的3倍以上的排出。又，當將洗凈液往洗凈裝置IIO供給或是往系統外部排出時，排出管的入口的高度位置，理想是設成比供給管的入口的高度位置更高，例如圖3所示，如上述般，根據使用T字型的分支，便能達成上述條件。另一方面，若是采用將供給管及排出管直接連接在過濾器殼上，則理想是如圖4(B)般地傾斜地設置，且排出管的入口，相對于重力方向，設置成比供給管的入口高。又，當難以如此地設置裝置的情況，理想是預先調整過濾器殼的朝向，使在將排出管側的閥從關閉變成開放時，排出管可位于較供給管的更上側。特別是在上述洗凈步驟中，采用一直使排出管側的閥開放的方法的情況，在開始使用時，上述排出管，若調整成位于較供給管的更上側，來進行排出，則在之后，即便供給管的入口變成位于較排出管的入口的更上側，也能充分地獲得本發明的效果。另外，作為洗凈液，并沒有特別地限定，例如能使用超純水。只要是使用超純水，本發明便特別有效。能因應需要來決定適當的洗凈液的種類。又，關于被洗凈基板112，也沒有特別地限定，例如對于掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體、掩模，能應用本發明的洗凈方法。以下，根據實施例，更詳細地說明本發明，但本發明并未限定于這些例子。(實施例1)作為測試基板，準備以下的基板。使用一種空白掩模，其在邊長152mm的方形石英基板上，于最表面已成膜有氮氧化鉻膜亦即遮光膜，對該空白掩模進行硫酸洗凈后，使用添加了氨水的惰性水(PHIO)來進行洗凈，進而準備一種已利用未經脫氣處理的純水沖淋后的基板。進而，將其收容在樹脂制空容器內，并保管于潔凈室內4個月。使用圖1所示的洗凈系統1來進行基板的洗凈。在純水制造裝置與配備有噴嘴的旋轉洗凈干燥器之間，使用連結有脫氣裝置及過濾器的純水供給管路。另外，作為脫氣裝置，使用DIC公司制造的SEPARELEF-040P(中空絲材質聚_4甲基戊烯)。當利用真空泵來進行氣氛的減壓時，從旋轉干燥機的噴嘴所得到的純水的氧含量，是0.Ol卯m(使用DKK-T0A公司制造的D0-32A來進行測定)，水溫是30°C。又，過濾器是使用Entegris公司制造的QuickChangePlus1500(孔徑0.020.05iim)。使用如此的洗凈系統l，來實施本發明的洗凈方法。使用2片上述保管4個月后的測試基板，分別裝設在旋轉洗凈干燥機中，并使純水(出口溫度30°C)以每分鐘1公升的流量，供給10分鐘至測試基板上來進行噴淋洗凈。另外，在脫氣裝置中，則使用真空泵來進行減壓。進而，繼續以1000rpm來進行30秒的旋轉干燥。干燥后的基板，分別立刻放入已注入純水100ml的石英室內，并完全地沉入水中，以9(TC來進行60分鐘的離子抽出。進而，將此處所得到的抽出液，根據離子層析法(利用日本DI0NEX公司制造的DX-500)，進行抽出液中所含的硫酸離子的定量。將所得到的定量值，與其它的離子的資料，一起表示于表1中。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>如表1所示，2片測試基板的結果(實施例l-l、實施例1-2)，若著眼于硫酸離子，在實施例1-1中是69.36(ng/片)、在實施例1-2中是67.29(ng/片)。(比較例1)使用2片測試基板，但是沒有在實施例1中所使用的純水供給管路中的脫氣裝置。因此，除了沒有進行脫氣步驟以外，使用完全相同的裝置，并利用與在實施例1進行的純水洗凈、干燥相同的條件，來進行處理。亦即，與公知方法相同，根據僅除去異物而沒有脫氣的純水，來進行基板的洗凈。又，被處理后的基板，接著利用與實施例1中所使用的相同條件，進行離子抽出，然后進行硫酸離子的定量。另外，此時的從旋轉干燥機的噴嘴所得到的純水的氧含量，是8ppm左右。將所得到的定量值，與其它的離子的資料，一起表示于表1中。如表1所示，2片測試基板的結果(比較例1-1、比較例1-2)，若著眼于硫酸離子，在比較例1-1中是163.13(ng/片)、在比較例1-2中是138.20(ng/片)。由實施例1、比較例1可知，如本發明的洗凈方法，使用已脫氣后的純水來進行洗凈后的測試基板，相對于使用沒有進行脫氣的純水的情況，確認硫酸離子的量大幅地降低；又，此效果，顯示出對于硫酸離子，有特別的效果。(實施例2)作為測試基板，準備以下的基板。使用一種空白掩模制造中間體，其在邊長152mm的方形石英基板上，于最表面已成膜含有鉬的硅氮氧化膜。對此制造中間體，根據一般的方法來進行洗凈步驟(硫酸洗凈、根據添加了氨水的惰性水(H40)所實行的洗凈)后，利用室溫的水沖淋，然后以1000rpm進行2分鐘的旋轉干燥，來準備測試基板。接著，使用缺陷檢測裝置(Lasertec公司制造的MAGICS)，測量所得到的基板的表面微粒，并特定出測試基板上的缺陷位置。以上述方式準備的測試基板，使用圖2所示的洗凈系統1'來進行洗凈。使用一種純水供給管路，其配備有純水制造裝置、脫氣裝置、加溫機、加熱線、過濾器等。作為脫氣裝置，使用DIC公司制造的SEPARELEF-040P(中空絲材質聚_4甲基戊烯)，當利用真空泵來進行氣氛的減壓時，所得到的純水的氧含量，是0.9ppm(使用DKK-T0A公司制造的D0-32A來進行測定)。又，供給的純水，根據加溫機，先暫時加溫至設定溫度的80°C附近，然后在使用場所附近，根據利用加熱線來實行的再加溫，可將所供給的純水的溫度，調整成80°C。又，過濾器是使用Entegris公司制造的QuickChangePlusl500(孔徑0.020.05iim)。使用如此的洗凈系統l'，來實施本發明的洗凈方法。將5片上述的已特定出缺陷位置后的測試基板，裝設在旋轉洗凈干燥機中，并使加溫至8(TC后的純水，以每分鐘1公升的流量，供給10分鐘至測試基板上來進行噴淋洗凈。另外，在脫氣裝置中，則使用真空泵來進行減壓。進而，繼續以1000rpm來進行30秒的旋轉干燥。根據本發明的方法進行洗凈、干燥后的基板，當與上述同樣地測量其表面缺陷數時，對于5片測試基板，新發生于在試驗前已特定出來的缺陷以外的位置上的0.060.liim的缺陷，分別為1、2、2、2、1個。(比較例2)使用5片已特定出缺陷位置后的測試基板，但是沒有在實施例2中所使用的純水供給管路中的脫氣裝置。因此，除了沒有進行脫氣步驟以外，使用完全相同的裝置，并利用與在實施例2進行的純水洗凈、干燥相同的條件，來進行處理。亦即，根據僅加溫并除去異物而沒有脫氣的純水，來進行基板的洗凈、干燥。另外，此時的從旋轉干燥機的噴嘴所得到的純水的氧含量是8ppm左右，純水的溫度是8(TC。然后，當與上述同樣地測量基板的表面缺陷數時，對于5片測試基板，新發生于在試驗前已特定出來的缺陷以外的位置上的0.060.1iim的缺陷，分別為56、62、29、41、50個。(比較例3)使用5片已特定出缺陷位置后的測試基板，但是沒有在實施例2中所使用的純水供給管路中的脫氣裝置，也沒有加溫手段。因此，除了沒有進行脫氣步驟及加溫步驟以外，使用完全相同的裝置，并利用與在實施例2進行的純水洗凈、干燥相同的條件，來進行處理。亦即，根據僅除去異物而沒有進行脫氣及加溫的純水，來進行基板的洗凈、干燥。另外，此時的從旋轉干燥機的噴嘴所得到的純水的氧含量，是8ppm左右。又，純水的溫度是23"。然后，當與上述同樣地測量基板的表面缺陷數時，對于5片測試基板，新發生于在試驗前已特定出來的缺陷以外的位置上的0.060.1iim的缺陷，分別為2、1、3、3、1個。關于基板的缺陷數，將實施本發明的洗凈方法的實施例2(有進行加溫步驟及脫氣步驟)、以及比較例2(只進行加溫步驟但沒有進行脫氣步驟)，兩者作比較，可以得知實施例2能顯著地抑制缺陷數。這是因為如實施例2，根據進行脫氣步驟，當加進加溫步驟而將洗凈液亦即純水加溫的情況，便能在基板干燥后，防止發生容易產生微粒的情況。又，將實施例2、及沒有進行脫氣步驟也沒有進行加溫步驟的比較例3，兩者作比較，可以得知缺陷數大致相同。實施本發明的實施例2，不會如僅進行加熱的比較例2般地增加了缺陷數，而能將缺陷數抑制成與比較例3大致相同的程度，該比較例3是沒有進行加溫而原本就會抑制微粒的發生。又，分別進行實施例2、比較例2、3的洗凈及干燥后的基板，分別放入已注入純水100ml的石英室內，并完全地沉入水中，以9(TC來進行60分鐘的離子抽出。進而，將此處所得到的抽出液，根據離子層析法(利用日本DI0NEX公司制造的DX-500)，進行抽出液中所含的硫酸離子的定量。在實施例2中的硫酸離子量，相較于比較例2是1/3程度，相較于比較例3，是1/4程度。亦即，可知實施本發明的洗凈方法的實施例2，相較于比較例2、3，在洗凈后，能顯著地除去殘留在基板表面上硫酸離子。如以上所述，若是本發明的洗凈方法，能有效率地除去附著在基板表面上的硫酸離子，并且對于在已洗凈的基板干燥后會產生的微粒，可顯著地抑制其發生。(實施例3)使用一種可旋轉洗凈干燥的裝置(洗凈裝置)，將洗凈液供給至該旋轉洗凈干燥裝置，來洗凈掩模基板；在用以供給洗凈液至此裝置中的洗凈液供給管路中，在裝置的30cm前，裝設圖4的本發明的洗凈液供給裝置201。此時，在供給管的下游側，設置氟樹脂加工制造而成的氣動閥(ADVANCE公司制造)，用以與洗凈裝置的洗凈步驟連動而輸送洗凈液；在排出管的下游側，則設置兩個停止閥。接著，當使供給管下游的氣動閥開放時，以從供給管供給的洗凈液量是每分鐘1公升而從排出管排出的洗凈液量是每分鐘1公升的方式，使排出管下游的一個停止閥維持開放狀態而利用剩下的停止閥來調整排出量。又，當沒有使用洗凈液時，使上述維持開放狀態的停止閥關閉，便可隔斷排出。接著，作為被洗凈基板，準備20片石英基板，在其主表面，已利用濺鍍而成膜有26nm的由CrN(Cr:N=9:1(原子比))所構成的遮光膜、及20nm的由CrON(Cr:N:0=4:5:l(原子比))所構成的反射防止膜；并使用Lasertec公司制造的MAGICS來進行各個基板的缺陷分析，分別特定出0.08iim以上而未滿O.1iim、0.1ym以上而未滿O.2ym、及0.2ym以上的缺陷的位置。接著，如圖4(B)所示，以排出管的入口的高度位置比供給管的入口的高度位置更高的方式，來保持洗凈液供給裝置的朝向，并使原本隔斷從排出管往外排出的停止閥開放，開始排出洗凈液。然后，將已特定出上述缺陷位置后的基板，裝設在旋轉洗凈干燥機(裝置)中，開始上述洗凈液的排出5秒后，使通過上述洗凈液供給裝置后的超純水，以每分鐘1公升的流量，供給10分鐘來進行洗凈，洗凈后，以1000rpm來進行30秒的旋轉干躁。亦即，實施了本發明的洗凈方法。對于所準備的20片基板，分別進行上述洗凈操作后，再度進行缺陷檢查，測量發生在新位置上的缺陷。對于全部20片基板，新觀察到的合計缺陷數，0.08iim以上而未滿0.1ym的缺陷是7個(0.35個/片)、0.1iim以上而未滿0.2iim的缺陷是2個(0.1個/片)、0.2ym以上的缺陷是2個(0.l個/片)。這些基板的缺陷數，相較于后述的比較例4，是較少的。特別是關于0.08ym以上而未滿O.liim的缺陷，實施例3，相對于比較例4，是非常少。這是因為，根據本發明，能防止發生以含有微細氣泡的洗凈液來洗凈基板的情況。(比較例4)相較于在實施例3中所使用的裝置，是使用未具備排出管的裝置，除了沒有從排出管排出洗凈液以外，與實施例3完全相同地利用超純水來洗凈20片已特定出缺陷位置的上述成膜有鉻膜的基板。亦即，根據公知的洗凈方法來進行洗凈。然后，進行旋轉干燥，測量發生在新位置的缺陷。對于全部20片基板，新觀察到的合計缺陷數，0.08iim以上而未滿0.1ym的缺陷是28個(1.4個/片)、0.1iim以上而未滿0.2iim的缺陷是3個(0.15個/片)、0.2ym以上的缺陷是6個(0.3個/片)。相較于實施例3，在比較例4中，0.08iim以上而未滿O.liim的缺陷數，顯著地增加。(實施例4)使用一種可旋轉洗凈干燥的裝置，將洗凈液供給至該旋轉洗凈干燥裝置，來洗凈掩模基板；在用以供給洗凈液至此裝置中的洗凈液供給管路中，在裝置的30cm前，裝設如圖5所示的洗凈液供給裝置301;該洗凈液供給裝置301，在殼上具有洗凈液入口與氣泡排除管，并在過濾器的下游側，具有用以將洗凈液供給(輸送)至使用場所的供給管、及用以將滯留于過濾殼內的洗凈液排出的排出管。在供給管的下游側，設置氣動閥，用以與洗凈步驟連動而輸送洗凈液；在排出管與氣泡排除管的下游側，則分別設置有氣動閥，其能與用以將上述洗凈液輸送至使用場所的供給管的氣動閥連動；進而，在排出管與氣泡排出管的出口，分別設置可調整排出量的停止閥。進而，若開始供給洗凈液，同時關閉排出管與氣泡排除管的下游側的氣動閥，并將供給至使用場所的供給量，調整成每分鐘1公升。又，當供給管下游側的氣動閥變成關閉，同時地，排出管與氣泡排除管的下游側的氣動閥，則變成開放，并調整成每分鐘可從排出管與氣泡排除管分別排出0.5公升的洗凈液，而在沒有使用裝置的情況，則使全部的電磁閥關閉。亦即，根據本發明的洗凈方法來進行洗凈。接著，將50片基板(與實施例3同樣地特定出缺陷位置并成膜有上述鉻膜)，使用上述洗凈液供給裝置及設置有洗凈液的供給與排出的控制系統而成的旋轉洗凈干燥機，并利用超純水進行洗凈，于旋轉干燥后，測量發生在新位置上的缺陷。對于全部50片基板，新觀察到的合計缺陷數，0.08iim以上而未滿0.1ym的缺陷是16個(0.32個/片)、0.1iim以上而未滿0.2iim的缺陷是1個(0.02個/片)、0.2ym以上的缺陷是2個(0.04個/片)；與實施例3相同，其缺陷數相較于比較例非常少。另外，本發明并未限定于上述實施形態。上述實施形態為例示，只要是具有與被記載于本發明的申請專利范圍中的技術思想實質上相同的構成，能得到同樣的作用效果者，不論為何者，皆被包含在本發明的技術范圍內。權利要求一種掩模相關基板的洗凈方法，其特征在于當根據純水來洗凈從被硫酸離子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來的掩模相關基板時，對在該洗凈中所使用的純水，預先進行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟。2.如權利要求1所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中對在上述洗凈中所使用的純水，預先進行將溶解氣體脫氣的脫氣步驟與加溫的加溫步驟。3.如權利要求2所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中進行上述加溫步驟，將在上述洗凈中所使用的純水，加熱至55t:以上。4.如權利要求l所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中要根據上述純水來進行洗凈的掩模相關基板設為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來實行處理后的基板。5.如權利要求2所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中要根據上述純水來進行洗凈的掩模相關基板設為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來實行處理后的基板。6.如權利要求3所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中要根據上述純水來進行洗凈的掩模相關基板設為已利用含有硫酸或硫酸鹽的材料來實行處理后的基板。7.如權利要求1所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中當要根據上述純水來進行洗凈時，是對上述掩模相關基板噴淋純水，來實行洗凈。8.如權利要求6所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中當要根據上述純水來進行洗凈時，是對上述掩模相關基板噴淋純水，來實行洗凈。9.如權利要求1所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中使用氣液分離膜來進行上述脫氣步驟。10.如權利要求8所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中使用氣液分離膜來進行上述脫氣步驟。11.如權利要求1所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中進行脫氣步驟，將在上述洗凈中所使用的純水的溶解氧濃度作成lppm以下。12.如權利要求10所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中進行脫氣步驟，將在上述洗凈中所使用的純水的溶解氧濃度作成lppm以下。13.如權利要求112中任一項所述的掩模相關基板的洗凈方法，其中對在上述洗凈中所使用的純水還進行利用過濾器來除去異物的異物除去步驟。14.一種洗凈方法，是將洗凈液供給至洗凈裝置中，來洗凈被洗凈基板的洗凈方法，其特征在于當利用用以除去異物的過濾器來過濾上述洗凈液，并將該過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中來洗凈被洗凈基板時，至少在將上述過濾后的洗凈液往上述洗凈裝置供給之前，先使上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統外部排出，之后，才將上述過濾后的洗凈液，通過供給管而供給至上述洗凈裝置中。15.如權利要求14所述的洗凈方法，其中當使上述過濾后的洗凈液通過供給管供給至上述洗凈裝置中來洗凈被洗凈基板時，至少先將上述過濾后的洗凈液通過排出管而往系統外部排出，之后，直到將上述過濾后的洗凈液通過供給管而開始供給至上述洗凈裝置中為止，從上述排出管持續排出洗凈液。16.如權利要求14所述的洗凈方法，其中在開始供給上述過濾后的洗凈液后，一邊通過上述供給管來供給過濾后的洗凈液，一邊同時地通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。17.如權利要求15所述的洗凈方法，其中在開始供給上述過濾后的洗凈液后，一邊通過上述供給管來供給過濾后的洗凈液，一邊同時地通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。18.如權利要求14所述的洗凈方法，其中當停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，仍通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。19.如權利要求15所述的洗凈方法，其中當停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，仍通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。20.如權利要求16所述的洗凈方法，其中當停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，仍通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。21.如權利要求17所述的洗凈方法，其中當停止往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，仍通過上述排出管來持續排出過濾后的洗凈液。22.如權利要求14所述的洗凈方法，其中直到上述全部的被洗凈基板洗凈完成為止，通過上述排出管來持續排出上述過濾后的洗凈液。23.如權利要求第21所述的洗凈方法，其中直到上述全部的被洗凈基板洗凈完成為止，通過上述排出管來持續排出上述過濾后的洗凈液。24.如權利要求14所述的洗凈方法，其中當要往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，上述排出管的入口的高度位置設成比上述供給管的入口的高度位置更高。25.如權利要求23所述的洗凈方法，其中當要往洗凈裝置供給上述過濾后的洗凈液時，上述排出管的入口的高度位置設成比上述供給管的入口的高度位置更高。26.如權利要求14所述的洗凈方法，其中將上述被洗凈基板設為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。27.如權利要求25所述的洗凈方法，其中將上述被洗凈基板設為掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。28.如權利要求1427中任一項所述的洗凈方法，其中將上述純水設為超純水。29.—種洗凈液供給裝置，是將洗凈液供給至用以洗凈被洗凈基板的洗凈裝置中的洗凈液供給裝置，其特征在于至少具備用以從上述洗凈液除去異物的過濾器、用以將上述洗凈液供給至上述洗凈裝置中的供給管、用以將上述洗凈液往系統外部排出的排出管、及分別被配設在上述供給管與排出管上來控制上述洗凈液的液量的閥；上述供給管與上述排出管，被連接在上述過濾器的更下游側，并根據上述供給管與排出管的各個閥的開閉，將利用上述過濾器而被過濾后的洗凈液，往上述洗凈裝置供給及/或往系統外部排出。30.如權利要求29所述的洗凈液供給裝置，其中在上述供給管與上述排出管的連接部，排出管的入口的高度位置設成比供給管的入口的高度位置更高。31.如權利要求29所述的洗凈液供給裝置，其中配備了具有上述過濾器的過濾器殼、及包圍該過濾器殼的殼；洗凈液，從上述殼通過上述過濾器而流入上述過濾器殼內；在上述殼上，至少連接氣泡排除管，用以將洗凈液中的氣泡往系統外部排除。32.如權利要求30所述的洗凈液供給裝置，其中配備了具有上述過濾器的過濾器殼、及包圍該過濾器殼的殼；洗凈液，從上述殼，通過上述過濾器而流入上述過濾器殼內；在上述殼上，至少連接氣泡排除管，用以將洗凈液中的氣泡往系統外部排除。33.如權利要求2932中任一項所述的洗凈液供給裝置，其中上述被洗凈基板是掩模用透明基板、空白掩模、空白掩模制造中間體或掩模的任一種。34.如權利要求2932中任一項所述的洗凈液供給裝置，其中上述洗凈液是超純水。35.如權利要求33所述的洗凈液供給裝置，其中上述洗凈液是超純水。全文摘要本發明涉及一種掩模相關基板的洗凈方法，當根據純水來洗凈從被硫酸離子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及這些物品的制造中間體中選擇出來的掩模相關基板時，對在該洗凈中所使用的純水預先將溶解氣體脫氣。本發明還涉及一種洗凈液供給裝置和一種洗凈方法，該方法是將洗凈液供給至洗凈裝置中來洗凈被洗凈基板，當利用用以除去異物的過濾器來過濾洗凈液，并將過濾后的洗凈液通過供給管供給至洗凈裝置中來洗凈被洗凈基板時，至少在將過濾后的洗凈液往洗凈裝置供給之前，先使過濾后的洗凈液通過排出管往系統外部排出，之后才將過濾后的洗凈液通過供給管供給至洗凈裝置中。本發明能簡便地提高硫酸離子的洗凈效率，進而能極度地減少微小異物的發生量。文檔編號B08B13/00GK101716581SQ20091017900公開日2010年6月2日申請日期2009年10月9日優先權日2008年10月8日發明者沼波恒夫申請人:信越化學工業株式會社