專利名稱：可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機的制作方法
技術領域：
本發明涉及豆漿機，特別是一種可根據水位自動選擇制漿程序的豆衆機。
背景技術：
目前市場上的豆槳機內只設有一個水位探測點用以探測最低水位，當制 漿容器內的水位低于最低水位時，豆漿機不會工作，以防止干燒；而不會依 據水位的高低來選擇不同的制槳程序，因此制漿的時候水位變化的限制范圍 很小， 一般都在0.2L左右。由于消費者在使用豆漿機制漿時的加水量很容易 超出了這個容量范圍，而制漿程序不能自動改變，從而導致制漿效果很不理 想。
發明內容
本發明的目的在于克服上述現有技術存在的缺點，提供一種結構簡單， 方便實用，制漿效果好的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機。
實現本發明目的的技術方案是本發明包括含有電機、控制電路、粉碎
裝置、加熱裝置、防溢裝置組成的機頭，與控制電路連接的水位探測裝置和
制漿容器，機頭扣置在制漿容器上，所述水位探測裝置具有兩個或兩個以上
高低位置不同的水位探測點，控制電路中預先存儲了根據水位探測點的探測
結果進行打槳的不同制槳程序。
上述水位探測點包括有一個低水位探測點以及至少一個高水位探測點。 上述水位探測裝置為一個安裝在機頭上的水位探棒，所有水位探測點裝
設在該水位探棒上。上述水位探測裝置包括兩個或兩個以上的安裝在機頭上的水位探棒，所 有水位探測點分別位于不同的水位探棒上。
上述所有水位探測點位于粉碎裝置的旋轉軸上。 上述所有水位探測點位于制漿容器的內側。
上述所有水位探測點同時分布在粉碎裝置的旋轉軸和制漿容器的內側壁上。
上述加熱裝置為發熱管，所述水位探測點位于發熱管上。
本發明與現有技術相比較，其有益效果是由于采用兩個或兩個以上高 度不同的水位探測點，控制電路可根據水位探測點對水位探測的結果自動選 擇與該水位對應的制漿程序，從而可有效解決因水位過高對制漿效果的影響。 本發明具有結構簡單，方便實用，制漿效果好的特點。
圖1是本發明實施例一的結構示意圖2是圖1中A部分的局部放大圖3是本發明實施例二的結構示意圖4是本發明實施例三的結構示意圖5是本發明實施例四的結構示意圖6是本發明實施例五的結構示意圖7是本發明實施例六的結構示意圖。
圖中省略了與本發明設計要點無關的其他部件。
具體實施例方式
下面結合附圖和實施例對本發明的具體實施方式
作進一步說明。 實施例一如圖1所示，本發明包括有機頭1和制漿容器6，機頭1扣置在制漿容器
6上，其中機頭1上設有控制電路2、電機4、加熱裝置9、防溢裝置3、連接
電機4和粉碎裝置8的粉碎裝置旋轉軸7，水位探測裝制與控制電路2電連接，
控制電路2中預先存儲了根據水位探測點的探測結果進行打漿的不同制漿程
序，即水位不同，對應的制漿程序也不同，不同的制漿程序主要是打漿的次
數、每次打槳的時間和相鄰兩次打漿之間的時間間隔以及加熱裝置9的加熱
次數、每次加熱的時間等不同；水位探測裝置包括至少兩個水位探測點，本
實施例為兩個水位探測點51、 52，其中有一個低水位探測點51，當該低水位
探測點51未感應到水位時，豆漿機不會工作，以防止豆漿機干燒。本實施例
的水位探測裝置為一安裝在機頭1上的水位探棒5，請參考圖2，為該水位探
棒5的結構圖，包括用于作為低水位探測點的金屬棒51，包圍在金屬棒51周
圍的塑料套管50以及用作高水位探測點的金屬套管52，金屬棒51以及金屬
套管52可通過電路將探測到的水位信號傳遞給控制電路2，控制電路2根據
水位探測點51， 52反饋的信號啟動并選擇適當的制漿程序。
本實施例的工作原理如下當作為低水位探測的金屬棒51沒有感應到水
位時，控制電路2判定為缺水干燒，制漿停止；當金屬棒51和金屬套管52
都感應到水位時，控制電路2判定制漿容器6中為高水位，用高水位制漿程
序制漿；當金屬棒51感應到水位，金屬套管52沒有感應到水位時，控制電
路2判定制漿容器6中為低水位，用低水位制漿程序制漿。當然，本實施例
中僅設置了一個高水位探測點52，也可設置兩個或兩個以上的高水位探測點，
并在控制電路2中存入相關對應的制漿程序，這樣豆漿機制漿時水位選擇的
范圍將更大。
實施例二
如圖3所示，本實施例與實施例一大體相同，不同的地方在于本實施例中的水位探測裝置5為兩個安裝在機頭1上的長短不一的水位探棒，兩個
水位探測點51、 52分別位于不同的水位探棒上，形成高低位置不同的探測點。
實施例三
如圖4所示，本實施例與實施例一大體相同，不同的地方在于本實施
例中的水位探測裝置為粉碎裝置旋轉軸7，水位探測點51， 52位于粉碎裝置 旋轉軸7上的不同位置。 實施例四
如圖5所示，本實施例與實施例一大體相同，不同的地方在于本實施
例中的水位探測裝置為制漿容器6的內側壁，水位探測點51， 52位于制漿容 器6的內側壁上。 實施例五
如圖6所示，本實施例與上述實施例大體相同，不同的地方在于本實 施例中的水位探測裝置由粉碎裝置旋轉軸7和制漿容器6的內側壁共同組成， 并設有三個探測點51、 52、 53，三個探測點51、 52、 53分布在粉碎裝置旋轉 軸7以及制漿容器6內側壁上。
實施例六
如圖7所示，本實施例與上述實施例大體相同，不同的地方在于本實
施例中的水位探測裝置為安裝在機頭1上的發熱管9，水位探測點51， 52分 布在發熱管9表面高低不同的位置。
權利要求
1、一種可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，包括含有電機(4)、控制電路(2)、粉碎裝置(8)、加熱裝置(9)、防溢裝置(3)組成的機頭(1)，與控制電路(2)連接的水位探測裝置和制漿容器(6)，機頭(1)扣置在制漿容器(6)上，其特征是所述水位探測裝置具有兩個或兩個以上高低位置不同的水位探測點，控制電路(2)中預先存儲了根據水位探測點的探測結果進行打漿的不同制漿程序。
2、 根據權利要求1所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特 征是上述水位探測點包括有一個低水位探測點(51)以及至少一個高水位探測 點。
3、 根據權利要求2所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特 征是上述水位探測裝置為一個安裝在機頭(1)上的水位探棒(5)，所有水位 探測點裝設在該水位探棒(5)上。
4、 根據權利要求2所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特征是上述水位探測裝置包括兩個或兩個以上的安裝在機頭(1)上的水位探棒 (5)，所有水位探測點分別位于不同的水位探棒(5)上。
5、 根據權利要求2所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特 征是上述水位探測裝置為粉碎裝置旋轉軸(7)，上述所有水位探測點位于粉碎 裝置的旋轉軸(7)上。
6、 根據權利要求2所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特 征是上述水位探測裝置為制漿容器(6)的內側壁，上述所有水位探測點位于 制漿容器(6)的內側壁上。
7、 根據權利要求2所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特征是上述水位探測裝置由粉碎裝置旋轉軸(7)和制漿容器(6)的內側壁共同 組成，上述所有水位探測點分布在粉碎裝置的旋轉軸(7)和制漿容器(6)的 內側壁上。
8、 根據權利要求2所述的可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，其特 征是上述加熱裝置(9)為發熱管，所述水位探測點位于發熱管上。
全文摘要
本發明是一種可根據水位自動選擇制漿程序的豆漿機，包括含有電機、控制電路、粉碎裝置、加熱裝置、防溢裝置組成的機頭，與控制電路連接的水位探測裝置和制漿容器，機頭扣置在制漿容器上，所述水位探測裝置具有兩個或兩個以上高低位置不同的水位探測點，控制電路中預先存儲了根據水位探測點的探測結果進行打漿的不同制漿程序。本發明與現有技術相比較，其有益效果是由于采用兩個或兩個以上高度不同的水位探測點，控制電路可根據水位探測點對水位探測的結果自動選擇與該水位對應的制漿程序，從而可有效解決因水位過高對制漿效果的影響。本發明具有結構簡單，方便實用，制漿效果好的特點。
文檔編號A47J31/44GK101474043SQ200910036758
公開日2009年7月8日 申請日期2009年1月19日 優先權日2009年1月19日
發明者盧檢兵 申請人:美的集團有限公司